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패턴이 형성된 몰드를 준비하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 준비된 몰드에 폴리(퍼플루오로알킬 메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는 폴리(퍼플루오로알킬 아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)를 포함하는 고분자 용액을 도포하여 고분자 층을 형성하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 고분자 용액이 도포된 몰드를 기판에 접촉시켜 고분자 층을 전사하여 고분자 패턴을 형성하는 단계(단계 3);를 포함하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 1의 패턴이 형성된 몰드는 하드-폴리디메틸실록세인(h-PDMS) 몰드 또는 소프트-폴리디메틸실록세인(s-PDMS) 몰드인 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 고분자는 폴리(1H,1H,2H,2H-퍼플루오로데실 메타크릴레이트)(Poly(1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyl methacrylate, PFDMA))인 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 고분자 용액은 플루오르계 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 플루오르계 용매는 하이드로플루오로에테르(Hydrofluoroether, HFE)인 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2의 폴리(퍼플루오로알킬 메타크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl methacrylate) 또는 폴리(퍼플루오로알킬 아크릴레이트)(Poly(perfluoroalkyl acrylate)의 함량은 전체 고분자 용액에 대하여 1 내지 25 중량%인 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 3에서 형성된 고분자 패턴은 직경이 600 nm 내지 1,000 nm인 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 3에서 형성된 고분자 패턴은 200 nm 내지 1,200 nm의 간격으로 형성된 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 3에서 형성된 고분자 패턴은 1
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제1항에 있어서,상기 단계 3의 기판은 실리콘 기판, 유리 기판, 폴리 메틸 메타크릴레이트(Poly methyl methacrylate, PMMA) 기판, 폴리 비닐 피롤리돈(Poly vinyl pirrolidone, PVP) 기판, 폴리스타이렌(Polystyrene, PS) 기판 및 금속 기판으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종인 것을 특징으로 하는 초소수성 박막의 제조방법
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제1항의 제조방법으로 제조되고, 150 ° 이상의 접촉각을 갖는 초소수성 박막
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제11항에 있어서,상기 초소수성 박막은 직경이 600 nm 내지 1,000 nm인 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 초소수성 박막
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13
제11항에 있어서,상기 초소수성 박막은 200 nm 내지 1,200 nm의 간격으로 패턴이 형성된 것을 특징으로 하는 초소수성 박막
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