| 1 |
1
하기의 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 트리니트로톨루엔(TNT) 검출용 조성물:003c#화학식 1003e#(상기 화학식 1에 있어서,R은 -(CH2)n-, -(CH2)m-CH[(CH2)lCH3]-(CH2)k- 및 -(CH2)m-C(=CR1R2)-(CH2)k- 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종이고;n은 1 내지 10의 정수;m은 0 내지 6의 정수;k는 0 내지 6의 정수;l은 0 내지 6의 정수;R1 및 R2 각각 서로 독립적으로 수소 또는, C1 - C4의 직쇄 또는 측쇄알킬이다)
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 R은 -(CH2)n, -(CH2)m-CH[(CH2)lCH3]-(CH2)k- 및 -(CH2)m-C(=CR1R2)-(CH2)k- 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종이고; n은 1 내지 6의 정수;m은 0 내지 4의 정수;k는 0 내지 4의 정수;l은 0 내지 4의 정수;R1 및 R2 서로 독립적으로 수소 또는, C1 - C4의 직쇄 또는 측쇄알킬인 것을 특징으로 하는 화합물을 포함하는 트리니트로톨루엔(TNT) 검출용 조성물
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 R은 -(CH2)n, -(CH2)m-CH[(CH2)lCH3]-(CH2)k- 및 -(CH2)m-C(=CR1R2)-(CH2)k- 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종이고;n은 1 내지 4의 정수;m은 0 내지 2의 정수;k는 0 내지 2의 정수;l은 0 내지 2의 정수;R1 및 R2 서로 독립적으로 수소, 메틸기 및 에틸기로 이루어지는 군에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 화합물을 포함하는 트리니트로톨루엔(TNT) 검출용 조성물
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은,(1)1,8-비스(피렌-1-일메톡시)옥탄; (2)1,3-비스(피렌-1-일메톡시)프로판;(3)1,1'-(2-메틸프로판-1,3-다이일)비스(옥시)비스(메틸렌)다이피렌; (4)1
|
| 5 |
5
하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이, 하기의 다이올(2)과 1-할로메틸피렌(3)을 1:2의 몰비로 반응시키는 단계를 포함하는 제1항의 트리니트로톨루엔(TNT) 검출용 조성물의 제조방법:003c#반응식 1003e# (상기 반응식 1에 있어서, R은 제1항에서 정의하는 바와 같다)
|
| 6 |
6
하기 반응식 2에 나타낸 바와 같이, 하기의 다이할로화합물(4)과 1-하이드록시메틸피렌(5)을 1:2의 몰비로 반응시키는 단계를 포함하는 제1항의 트리니트로톨루엔(TNT) 검출용 조성물의 제조방법:003c#반응식 2003e# (상기 반응식 2에 있어서, R은 제1항에서 정의하는 바와 같다)
|
| 7 |
7
하기 화학식 1로 표시되는 화합물에 빛을 조사하여 트리니트로톨루엔(TNT)을 포함하는 시료용액과 접촉시키는 단계(단계 1); 및상기 단계 1의 혼합용액 내의 하기 화학식 1로 표시되는 화합물로부터 방출되는 형광세기의 변화를 측정하는 단계(단계 2);를 포함하는 트리니트로톨루엔(TNT)의 검출방법:003c#화학식 1003e#(상기 화학식 1에 있어서,R은 -(CH2)n-, -(CH2)m-CH[(CH2)lCH3]-(CH2)k- 및 -(CH2)m-C(=CR1R2)-(CH2)k- 으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종이고;n은 1 내지 10의 정수;m은 0 내지 6의 정수;k는 0 내지 6의 정수;l은 0 내지 6의 정수;R1 및 R2 각각 서로 독립적으로 수소 또는, C1 - C4의 직쇄 또는 측쇄알킬이다)
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
제7항에 있어서, 상기 트리니트로톨루엔(TNT)의 검출은 시료 내 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과의 상호작용에 의한 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 모노머 및 엑시머 상태의 형광세기 변화를 감지함으로써 측정하는 것을 특징으로 하는 트리니트로톨루엔(TNT)의 검출방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 모노머 및 엑시머 상태의 형광세기 변화는 트리니트로톨루엔(TNT)의 농도가 증가됨에 따라 모노머 상태의 형광세기는 증가하고 엑시머상태의 형광세기는 감소하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 트리니트로톨루엔(TNT)의 검출방법
|
