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세라믹 입자가 한천에 균일하게 분산되어 있는 복합체로서,상기 세라믹 입자는 다공성 입자이며, SiO2, Al2O3, TiO2, ZrO2, CeO2, ZnO 중에서 선택되는 적어도 한 가지 이상의 입자를 포함하며,상기 세라믹 입자는 상기 복합체의 총 중량 대비 1 ~ 10wt%의 범위로 첨가하는 것을 특징으로 하는한천 복합체
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제1항에 있어서, 상기 세라믹 입자의 크기는 0
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제1항에 있어서, 상기 세라믹 입자의 기공율은 50% 이상 99
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한천 슬러리를 제조하는 단계; 세라믹 입자를 균일하게 분산하는 단계; 분산된 세라믹 입자를 한천 슬러리에 혼합하고 균일하게 교반하는 단계;세라믹 입자가 혼합된 한천 슬러리의 기포를 제거하는 단계;한천 슬러리를 건조하는 단계를 포함하여 한천 복합체를 제조하며, 상기 세라믹 입자는 다공성 입자이며, SiO2, Al2O3, TiO2, ZrO2, CeO2, ZnO 중에서 선택되는 적어도 한 가지 이상의 입자를 포함하고, 상기 세라믹 입자는 한천복합체의 총 중량 대비 1 ~ 10wt%의 범위로 첨가하는 것을 특징으로 하는한천 복합체 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 세라믹 입자의 분산에는 HPC, CTAB, CTAC, TTAB, Triton X-100, HS-215, SDS, SPAN 80 중 적어도 한 가지 이상의 이온성, 비이온성 계면 활성제를 혼합 사용하는 것을 특징으로 하는 한천 복합체 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 세라믹 입자의 분산 단계에서 분산제를 용해하기 위해 아세톤, 에탄올, 메탄올, 부탄올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 톨루엔, 클로로 벤젠 등 중 적어도 한 가지 이상의 유기 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 한천 복합체 제조 방법
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