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금속나노와이어 및 이의 제조방법(METAL NANOWIRE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF)

  • 기술번호 : KST2018004703
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 아민기와 카르복실산으로 이중표면 기능화된 탄소나노구조체를 템플레이트로 이용하여 경제성 및 생산성을 향상시킬 수 있는 금속나노와이어의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL B22F 9/24 (2006.01.01) B22F 1/00 (2006.01.01) B82B 3/00 (2017.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020180046943 (2018.04.23)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0044252 (2018.05.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2016-0033333 (2016.03.21)
관련 출원번호 1020160033333;1020190127914
심사청구여부/일자 Y (2019.01.16)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정선호 대전광역시 유성구
2 최영민 대전광역시 유성구
3 류병환 대전광역시 서구
4 이수연 충청남도 홍성군
5 조예진 경기도 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2018.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2018-0403805-58
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2019-0056156-18
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0110201-89
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2019-0367418-92
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.04.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0366438-26
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0539875-14
7 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.08.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0883167-96
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2019-0883173-60
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.09.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0661683-39
10 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2019.10.15 수리 (Accepted) 1-1-2019-1050945-19
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 탄소나노튜브, 아민계 화합물 및 산무수물을 포함하는 탄소나노튜브 함유 용액을 반응시켜 아민화 탄소나노튜브를 제조하는 단계,(b) 상기 아민화 탄소나노튜브, 수용성 고분자 및 물을 혼합한 수분산액을 초음파 처리하는 단계 및 (c) 상기 초음파 처리된 아민화 탄소나노튜브를 템플레이트로 하고, 상기 초음파 처리된 아민화 탄소나노튜브, 금속전구체 및 용매를 비활성분위기 하에서 혼합한 후 환원제를 넣고 반응시키는 단계를 포함하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 (a)단계의 산무수물은 다환 방향족 고리형 산무수물인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
3 3
제2항에 있어서,상기 다환 방향족 고리형 산무수물은 피렌계 고리형 산무수물, 크리센계 고리형 산무수물, 페릴렌계 고리형 산무수물, 트리페닐렌계 고리형 산무수물 및 코로넨계 고리형 산무수물 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 (b) 단계의 수용성 고분자는 폴리아크릴산, 폴리메타아크릴산, 카르복시메틸셀룰로오스 및 이들의 염 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
5 5
제4항에 있어서,상기 수용성 고분자는 중량평균분자량이 1,000 내지 20,000g/mol인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 다중벽 탄소나노튜브인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
7 7
제1항에 있어서,상기 (a) 단계는 용액을 반응시킨 후 원심분리한 후 건조하는 것을 더 포함하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 (b) 단계는 수분산액을 반응시킨 후 원심분리한 후 건조하는 것을 더 포함하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
9 9
제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서 비활성분위기 하에서 혼합은 110 내지 150℃에서 실시하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
10 10
제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서 금속전구체는 적어도 하나이상의 카르복실기를 포함하는 C2~C24의 직쇄형 또는 분지형의 지방족, 지방족 고리 또는 방향족 카르복실산 또는 그 유도체인 에스테르 화합물로부터 유래되는 금속의 카르복실산염인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
11 11
제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서 환원제는 하이드라진계, 하이드라이드계, 소듐포스페이트계 및 아스크로브산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 탄소나노튜브 템플레이트를 이용한 금속나노와이어의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020170109336 KR 대한민국 FAMILY
2 KR102120377 KR 대한민국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 기획예산처 한국화학연구원 정부출연 일반사업 3D Device Printing 기반 HMI용 One-patch 소자 기술 개발사업
2 미래창조과학부 한국화학연구원 원천기술개발사업 탈평면 나노전자소자를 위한 곡면인쇄용 원천소재 개발