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외부에서 처리가스가 유입되는 가스 유입부;상기 가스 유입부에서 유입된 가스에 음파 또는 초음파를 방출하여 가스에 함유된 먼지를 응집시키는 먼지 응집부와, 상기 먼지 응집부에서 응집된 먼지를 포집하는 먼지 포집부를 포함하는 음파전기집진부; 및가스가 배출되는 가스 배출부; 를 포함하고,상기 먼지 응집부는 유입된 가스가 통과하는 제1 통로가 형성된 제1 챔버와, 상기 제1 통로로 음파 또는 초음파를 방출하는 제1 음파 발생부를 포함하며,상기 제1 음파 발생부에서 방출되는 음파 또는 초음파는, 제1 음파 발생부와 마주보는 상기 제1 챔버의 내벽에 반사되어 정지파를 형성하며,상기 먼지 포집부는 상기 제1 통로와 연통되는 제2 통로가 형성된 제2 챔버와, 가스의 이동 방향과 교차 형성되는 복수개의 제1 방전부와, 상기 제1 방전부의 양측에 형성되는 복수개의 집진판을 포함하며,복수개의 상기 집진판은 상기 제2 통로상에 폭 방향으로 일정하게 이격 나열되어 제2 통로를 복수개의 집진통로로 구획하고, 상기 복수개의 집진통로는 각각 상기 제1 음파 발생부가 형성하는 정지파의 변위 노드 위치와 동일선상에 위치되며, 상기 제1 방전부의 방전핀은 상기 제1 음파 발생부가 형성하는 정지파의 변위 노드위치와 동일선상에 위치되는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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제 1항에 있어서,상기 음파전기집진부를 통과한 가스에 함유된 유해가스 성분을 제거하는 음파가스처리부를 더 포함하는, 처리장치
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제 1항에 있어서,상기 제1 음파 발생부는 음파를 방출하는 제1 방사판을 포함하는 제1 스피커, 또는 초음파를 방출하는 제2 방사판을 포함하는 제1 초음파 트랜스듀스를 포함하는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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제 2항에 있어서,상기 음파가스처리부는 상기 제2 통로와 연통되는 제3 통로가 형성된 제3 챔버와, 가스의 이동 방향과 교차 형성되는 복수개의 제2 방전부와, 상기 제2 방전부의 양측에 형성되는 복수개의 접지극을 포함하는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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제 9항에 있어서,상기 접지극은 상기 제3 통로에 폭 방향으로 일정한 거리를 두고 이격 형성되어 상기 제3 챔버를 유해가스 제거 통로로 구획하고, 각각의 유해가스 제거 통로에 상기 제2 방전부가 위치되는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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제 9항에 있어서,상기 제2 방전부의 길이방향 일측과 타측 중 어느 한측 이상에 제3 음파 발생부가 형성되는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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제 11항에 있어서,상기 제3 음파 발생부에서 방출되는 음파 또는 초음파는 대향하는 상기 제3 챔버의 내면에 반사되어 정지파를 형성하는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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제 12항에 있어서,상기 제2 방전부는 상기 제3 음파 발생부에서 방출되는 음파 또는 초음파의 압력노드 위치에 제2 방전핀이 형성되는 것을 특징으로 하는, 처리장치
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