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원수를 공급하는 원수 공급 부재와;상기 원수 공급 부재로부터 상기 원수를 공급받아 탈염 공정을 수행하여 초순수를 제조하는 탈염 부재를 포함하되,상기 탈염 부재는,내부 공간을 가지며 상기 원수가 공급되는 유입구 및 상기 내부 공간에서 탈염 공정을 마치고 제조된 초순수가 외부로 유출되는 유출구를 가지는 챔버와;상기 내부 공간에 일방향으로 배치되고, 서로 간 이격되게 배치되는 복수개의 전극 모듈을 가지며, 복수개의 상기 전극 모듈은 상기 유입구가 형성된 상기 챔버의 일면과 수직한 방향으로 위치하며, 복수개의 상기 전극 모듈 중 가장 최외곽에 위치하는 한 쌍의 전극 모듈은 상기 챔버의 내면과 각각 접촉하도록 위치하는 초순수 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 내부 공간에는 상기 원수가 지나며, 양면이 상기 전극 모듈로 둘러싸인 복수개의 원수 유로를 가지며,상기 원수 유로는 상기 유입구로부터 유입된 상기 원수가 이동하면서 탈염 공정이 수행되는 공간인 초순수 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 전극 모듈은,스페이서와;상기 스페이서의 양 측에 위치하는 복수개의 이온 교환막과; 그리고상기 이온 교확막의 일측에 위치하는 활성탄 전극을 포함하며,상기 활성탄 전극의 양면에는 기 설정된 두께로 활성탄이 코팅되는 초순수 제조 장치
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제3항에 있어서,상기 기 설정된 두께는 100 마이크로미터인 초순수 제조 장치
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제2항에 있어서, 상기 유입구는 복수개 제공되며, 각각의 상기 유입구는 서로 이격되어 위치하는 초순수 제조 장치
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제5항에 있어서,상기 유입구는 상기 원수 유로와 대응되는 개수로 제공되는 초순수 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 원수 공급 부재는,상기 원수를 수용하는 원수 용기와;상기 원수 용기에 수용된 상기 원수를 상기 챔버로 공급하는 원수 펌프를 포함하는 초순수 제조 장치
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제7항에 있어서, 상기 초순수 제조 장치는 상기 유입구를 통과하는 상기 원수의 유량을 제어하는 제어기를 포함하되,상기 제어기는 복수개의 상기 유입구를 통과하는 상기 원수의 유량이 600~1500 mL / min 의 범위 내에 있도록 상기 원수 공급 부재를 제어하는 초순수 제조 장치
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제7항에 있어서,상기 초순수 제조 장치는 상기 챔버 내부의 기체를 외부로 배출하는 배출 부재를 더 포함하는 초순수 제조 장치
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