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1) Ce(NO3)3, 과산화 수소 및 물을 포함하는 희토류 산화물 코팅 용액을 제조하는 단계;2) 전열관을 초음파 처리(Sonication)하는 단계;3) 상기 2) 단계의 초음파 처리한 전열관을 산성 용액에 침지(dipping)하는 단계; 및4) 상기 3) 단계의 산성 용액에 침지(dipping)한 전열관을 상기 1) 단계의 희토류 산화물 코팅 용액에 침지(dipping)시켜 전열관의 표면에 코팅층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 코팅층은 희토류 산화물을 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 1) 단계의 희토류 산화물 코팅 용액을 제조하는 단계는,1-1) Ce(NO3)3, 과산화 수소 및 물을 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계;1-2) 상기 1-1) 단계의 혼합물을 초음파 처리하는 단계;1-3) 상기 1-2) 단계의 초음파 처리 이후, 500rpm으로 10분 내지 30분동안 교반하는 단계; 및 1-4) 상기 1-3) 단계의 교반하는 단계가 종료된 이후, 50 내지 70분동안 안정화하는 단계를 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 4) 단계 이후, 5) 탄화수소 컨테미네이션(hydrocarbon contamination)하는 단계를 추가로 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 3항에 있어서,상기 5) 단계는, 5-1) C10-20의 알케인 또는 불포화 지방산 용액이 담긴 용기를 밀폐 용기에 넣어주는 단계;5-2) 상기 5-1) 단계의 밀폐 용기에 상기 4) 단계의 희토류 코팅 용액에 침지한 전열관을 밀폐 용기에 넣어주는 단계; 및5-3) 상기 5-2) 단계의 밀폐 용기를 40 내지 60℃의 오븐에서 6시간 이상 가열하는 단계를 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 3항에 있어서,상기 5) 단계는,전열관의 표면에 형성된 코팅층에 탄소 코팅층을 추가로 포함하는 것인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 1) 단계의 희토류 산화물 코팅 용액은 4 내지 9 중량%의 Ce(NO3)3, 1
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제 1항에 있어서,상기 2) 단계는,2-1) 전열관을 아세톤에 넣고 3 내지 7분동안 초음파 처리하는 단계; 및2-2) 상기 2-1) 단계 이후, 에탄올에 넣고 3 내지 7분 동안 초음파 처리하는 단계를 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 2) 단계의 전열관은 다수의 전열관이 조립된 형태인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 3) 단계의 산성 용액은 2M의 염산(HCl)인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 3) 단계는 2M의 염산(HCl)에 20 내지 40초 동안 침지(dipping)하는 것인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 10항에 있어서,상기 3) 단계는 2M의 염산(HCl)에 침지(dipping)시켜 전열관 표면에 형성되는 금속 산화물층을 제거하는 것인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 전열관은 구리 또는 알루미늄으로 구성되는 것인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 12항에 있어서,상기 전열관이 구리로 구성되는 경우, 상기 4) 단계는 20 내지 40분 동안 희토류 산화물 코팅 용액에 침지하는 것인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 12항에 있어서,상기 전열관이 알루미늄으로 구성되는 경우, 상기 4) 단계는 30분 내지 120분 동안 희토류 산화물 코팅 용액에 침지시키는 것인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 희토류 산화물은 CeO2인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 코팅층의 두께는 100 내지 400nm인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관의 제조 방법
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제 1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따른 제조 방법에 의해 전열관의 표면에 형성된 코팅층을 포함하며,상기 코팅층은 희토류 산화물을 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관
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제 17항에 있어서, 상기 코팅층의 두께는 100 내지 400nm인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관
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제 17항에 있어서, 상기 코팅층은 탄소 코팅층을 추가로 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관
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제 19항에 있어서, 상기 코팅층은,전열관의 표면에 형성된 희토류 산화물을 포함하는 코팅층; 및 상기 희토류 산화물 코팅층의 상부면에 형성된 탄소 코팅층을 포함하는 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관
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제 17항에 있어서, 상기 희토류 산화물은 CeO2인 희토류 산화물 기반의 초발수 표면이 구현된 전열관
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