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a) 기재상 금속할로겐화물 콤플렉스(complex)를 함유하는 제1용액을 도포하는 단계; 및b) 상기 기재에 도포된 제1용액에 유기할로겐화물을 함유하는 제2용액을 가압 분사한 후 건조하는 단계;를 포함하며,상기 b) 단계에서, 상기 제1용액의 용매가 잔류하는 상태에서 상기 제2용액이 가압 분사되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 구조의 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 상기 가압 분사의 분사 압력은 1
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제 1항에 있어서,상기 a) 단계에서, 상기 도포는 상기 제1용액의 가압 분사에 의해 수행되는 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 1항 내지 제 3항 중 선택되는 어느 한 항에 있어서,상기 기재는 다공성 표면층을 갖는 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 금속할로겐화물 콤플렉스는 금속할로겐화물과 상기 금속할로겐화물을 용해하는 용매간의 화합물인 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 상기 건조는 70 내지 100 ℃에서 수행되는 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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기판, 투명전극 및 제1전하전달체가 순차적으로 적층된 적층체를 기재로 하여, 상기 제 1항 내지 제 3항 및 제 5항 내지 제 6항 중 선택되는 어느 한 항에 따른 제조방법으로 광활성층인 유기금속할로겐화물 막을 제조하는 단계; 및상기 광활성층 상부에 제2전하전달체 및 상기 투명전극의 대전극을 순차적으로 형성하는 단계;를 포함하는 페로브스카이트계 태양전지의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 제1전하전달체는, 상기 투명전극 측에 위치하는 치밀막 및 치밀막 상부에 위치하는 다공막을 포함하는 다층막인 페로브스카이트계 태양전지의 제조방법
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제 1항 내지 제 3항 및 제 5항 내지 제 6항 중 선택되는 어느 한 항에 따른 제조방법으로 제조되는 페로브스카이트 구조의 유기금속할로겐화물 막으로,적어도 10mmx10mm 이상의 면적을 갖는 대면적의 막을 기준으로, 하기 관계식 1로 규정되는 FQ가 0
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