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파손 방지 효과가 우수한 실리콘 웨이퍼 세척 장치 및 세척 방법(A CLEANING DEVICE FOR SILICONE WAFER WITH EXCELLENT INHIBITING BREAKAGE, AND CLEANING METHOD USING THE SAME)

  • 기술번호 : KST2018006238
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 파손 방지 효과가 우수한 실리콘 웨이퍼 세척 장치 및 세척 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 실리콘 웨이퍼 세척 장치는 실리콘 잉곳을 절단하여 복수개의 실리콘 웨이퍼를 생성하는 와이어; 상기 복수개의 실리콘 웨이퍼가 접착제에 의해 부착된 빔; 상기 빔에 위치하여, 상기 복수개의 실리콘 웨이퍼 표면에 세척액을 공급하는 복수개의 노즐을 포함하는 노즐부; 및 상기 웨이퍼 하부에 위치하는 충격방지용 안착용기;를 포함하고, 상기 복수개의 노즐은 상기 웨이퍼의 수평방향으로 위치하되, 복수개의 실리콘 웨이퍼 사이의 간격에 위치하며, 상기 공급되는 세척액에 의해, 복수개의 실리콘 웨이퍼가 상기 접착제로부터 분리되고, 복수개의 실리콘 웨이퍼가 세척되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01) H01L 21/78 (2006.01.01) H01L 21/673 (2006.01.01)
CPC H01L 21/02052(2013.01) H01L 21/02052(2013.01) H01L 21/02052(2013.01) H01L 21/02052(2013.01) H01L 21/02052(2013.01) H01L 21/02052(2013.01)
출원번호/일자 1020160151718 (2016.11.15)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0054986 (2018.05.25) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.11.15)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장보윤 대한민국 대전 유성구
2 김준수 대한민국 대전 유성구
3 최선호 대한민국 충청남도 공주시 신금*길

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.11.15 수리 (Accepted) 1-1-2016-1112956-40
2 직권정정안내서
Notification of Ex officio Correction		 2016.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0164512-15
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5010650-13
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2017.11.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0027425-17
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0132865-44
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-0396368-31
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.04.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0396369-87
9 등록결정서
Decision to grant		 2018.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0587173-17
10 [일부 청구항 포기]취하(포기)서
[Abandonment of Partial Claims] Request for Withdrawal (Abandonment)		 2018.10.01 수리 (Accepted) 2-1-2018-0639392-95
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2019-5004978-55
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166801-48
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.21 수리 (Accepted) 4-1-2019-5166803-39
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2020-5197654-62
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘 잉곳을 절단하여 복수개의 실리콘 웨이퍼를 생성하는 와이어;상기 복수개의 실리콘 웨이퍼가 접착제에 의해 부착된 빔;상기 빔의 측면에 위치하여, 상기 복수개의 실리콘 웨이퍼 표면에 세척액을 공급하는 복수개의 노즐을 포함하는 노즐부; 및상기 웨이퍼 하부에 위치하고, 추락하는 복수개의 실리콘 웨이퍼가 안착되는 충격방지용 안착용기;를 포함하고,상기 복수개의 노즐은 상기 웨이퍼의 수평방향으로 위치하되, 복수개의 실리콘 웨이퍼 사이의 간격에 위치하며,상기 공급되는 세척액에 의해, 복수개의 실리콘 웨이퍼가 상기 접착제로부터 분리되고, 복수개의 실리콘 웨이퍼가 세척되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 장치
2 2
◈청구항 2은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
3 3
제1항에 있어서,상기 충격방지용 안착용기의 측면과 안착용기의 바닥면 사이의 각도는 100~150˚인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 세척액의 온도는 80℃ 이상이고, 상기 세척액은 에틸렌글리콜계 절삭유 및 계면활성제 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 장치
5 5
◈청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
6 6
(a) 접착제에 의해 빔에 부착된 실리콘 잉곳을 와이어로 절단하는 단계; 및(b) 상기 (a) 단계에서 생성된 복수개의 실리콘 웨이퍼 표면에, 빔의 측면에 위치한 노즐부에 포함된 복수개의 노즐에서 분사되는 세척액을 공급하는 단계;를 포함하고,상기 복수개의 노즐은 상기 웨이퍼의 수평방향으로 위치하되, 복수개의 실리콘 웨이퍼 사이의 간격에 위치하여 복수개의 실리콘 웨이퍼가 상기 접착제로부터 분리되도록 웨이퍼 표면에 세척액을 공급하고, 상기 세척액에 의해 복수개의 실리콘 웨이퍼가 세척되며,추락하는 복수개의 실리콘 웨이퍼가 웨이퍼 하부에 위치하는 충격방지용 안착용기에 안착되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 방법
7 7
제6항에 있어서,상기 세척액은 제1평균속도, 제2평균속도 및 제3평균속도로 실리콘 웨이퍼 표면에 공급되며,상기 제1평균속도는 5L/min 이하이고, 제2평균속도는 5~10L/min이고, 제3평균속도는 10~20L/min인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 방법
8 8
◈청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
9 9
제6항에 있어서,상기 충격방지용 안착용기의 측면과 안착용기의 바닥면 사이의 각도는 100~150˚인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 방법
10 10
제6항에 있어서,상기 세척액의 온도는 80℃ 이상이고, 상기 세척액은 에틸렌글리콜계 절삭유 및 계면활성제 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 세척 방법
11 11
◈청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국에너지기술연구원 신재생에너지 국제공동연구사업 차세대 웨이퍼링 기술기반의 Kerfless 박형 실리콘 태양전지