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레이저의 진행 경로 사이에 위치하여 상기 레이저를 최적화시키는 레이저 최적화 장치에 있어서,상기 레이저가 상기 레이저 최적화 장치 내부로 입사되는 경로를 형성하는 입사부; 복수의 플라즈마 거울을 포함하며, 상기 입사부로부터 입사되는 레이저의 세기 대조비를 증가시켜 상기 레이저를 시간적으로 최적화시키는 레이저 변조부; 및상기 레이저 변조부로부터 반사되는 레이저가 상기 레이저 최적화 장치의 외부로 출사되는 경로를 형성하는 출사부;를 포함하되,상기 레이저 변조부는제1 수평 스테이지 상부면에 상기 복수의 플라즈마 거울이 배치되어 구성되되, 상기 제1 수평 스테이지의 회전 이동에 따라, 상기 입사부로부터 입사되는 레이저가 반사되는 플라즈마 거울의 개수가 변경되도록 구성되고,상기 레이저 최적화 장치는 상기 제1 수평 스테이지의 회전 이동에 따라, 상기 입사부로부터 입사되는 레이저를 하나의 플라즈마 거울로 반사시키는 싱글 플라즈마 거울(SPM, Single Plasma Mirror) 모드, 또는 두 개의 플라즈마 거울로 반사시키는 더블 플라즈마 거울(DPM, Double Plasma Mirror) 모드로 동작하며,상기 입사부는상기 레이저 최적화 장치 내부로 입사되는 레이저의 광 경로를 변경하는 제1 반사 거울; 및 상기 제1 반사 거울로부터 반사되는 레이저를 집광시켜 상기 레이저 변조부의 플라즈마 거울로 입사시키는 제1 파라볼릭(parabolic) 거울;을 포함하여 구성되고,상기 출사부는상기 레이저 변조부의 플라즈마 거울로부터 반사되는 레이저를 평행광으로 전환시키는 제2 파라볼릭 거울; 및상기 제2 파라볼릭 거울로부터 반사되는 레이저를 상기 레이저 최적화 장치 외부로 출사시키는 제2 반사 거울;을 포함하여 구성되고,상기 입사부 및 출사부는 상기 레이저 변조부를 중심으로 대칭을 이루도록 구성되며,상기 제1 및 제2 반사 거울은 수평 이동이 가능하도록 구성되는 제2 수평 스테이지 상부면에 배치되고,상기 레이저 최적화 장치는 상기 제1 수평 스테이지 또는 제2 수평 스테이지가 기 설정된 거리만큼 수평 이동함에 따라, 레이저가 상기 입사부, 레이저 변조부 및 출사부를 거치지 않고 그대로 통과하는 무변조 모드로 동작하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제1항에 있어서, 상기 레이저 최적화 장치는 상기 입사부의 전단에 상기 레이저의 편광 특성을 변경시키는 편광자(polarizer)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제1항에 있어서, 상기 제2 반사 거울은 적응 광학계(adaptive optics)를 포함하여 구성되며, 상기 제2 파라볼릭 거울로부터 반사되는 레이저의 파면(wave front)을 보정하여 상기 레이저를 공간적으로 최적화시키는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제1항에 있어서, 상기 레이저 변조부는상기 복수의 플라즈마 거울 각각의 수직 위치를 이동시킬 수 있는 수직 구동 유닛; 및 상기 복수의 플라즈마 거울 각각을 표면 방향을 따라 슬라이딩시킬 수 있는 수평 구동 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제11항에 있어서, 상기 레이저 변조부는상기 레이저 최적화 장치가 더블 플라즈마 모드로 동작하는 경우, 상기 두 개의 플라즈마 거울을 각각의 표면 방향을 따라 슬라이딩시켜, 상기 두 개의 플라즈마 거울 사이 간격을 조절하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제12항에 있어서, 상기 출사부는상기 플라즈마 거울의 위치가 변경되더라도, 상기 레이저 변조부를 중심으로 상기입사부와 대칭을 이룰 수 있도록 상기 제2 파라볼릭 거울 또는 제2 반사 거울을 수평 이동시킬 수 있는 수평 구동 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제1항에 있어서, 상기 레이저 최적화 장치는상기 레이저 변조부를 진공상태로 유지시키기 위한 진공 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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제1항에 있어서, 상기 플라즈마 거울의 평면 중 적어도 일부는 HR 코팅(High Refletion Coating) 영역으로 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 장치
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레이저의 진행 경로 사이에 위치하여 상기 레이저를 최적화시키는 레이저 최적화 장치; 및 상기 레이저 최적화 장치의 제어를 위하여 상기 레이저 최적화 장치에 의하여 변조되는 레이저의 상태를 진단하는 레이저 진단 장치;를 포함하는 레이저 최적화 시스템에 있어서,상기 레이저 최적화 장치는상기 레이저가 상기 레이저 최적화 장치 내부로 입사되는 경로를 형성하는 입사부; 복수의 플라즈마 거울을 포함하며, 상기 입사부로부터 입사되는 레이저의 세기 대조비를 증가시켜 상기 레이저를 시간적으로 최적화시키는 레이저 변조부; 및 상기 레이저 변조부로부터 반사되는 레이저가 상기 레이저 최적화 장치 외부로 출사되는 경로를 형성하는 출사부;를 포함하되,상기 레이저 변조부는제1 수평 스테이지 상부면에 상기 복수의 플라즈마 거울이 배치되어 구성되되, 상기 제1 수평 스테이지의 회전 이동에 따라, 상기 입사부로부터 입사되는 레이저가 반사되는 플라즈마 거울의 개수가 변경되도록 구성되고,상기 레이저 최적화 장치는 상기 제1 수평 스테이지의 회전 이동에 따라, 상기 입사부로부터 입사되는 레이저를 하나의 플라즈마 거울로 반사시키는 싱글 플라즈마 거울(SPM, Single Plasma Mirror) 모드, 또는 두 개의 플라즈마 거울로 반사시키는 더블 플라즈마 거울(DPM, Double Plasma Mirror) 모드로 동작하며,상기 입사부는상기 레이저 최적화 장치 내부로 입사되는 레이저의 광 경로를 변경하는 제1 반사 거울; 및 상기 제1 반사 거울로부터 반사되는 레이저를 집광시켜 상기 레이저 변조부의 플라즈마 거울로 입사시키는 제1 파라볼릭(parabolic) 거울;을 포함하여 구성되고,상기 출사부는상기 레이저 변조부의 플라즈마 거울로부터 반사되는 레이저를 평행광으로 전환시키는 제2 파라볼릭 거울; 및상기 제2 파라볼릭 거울로부터 반사되는 레이저를 상기 레이저 최적화 장치 외부로 출사시키는 제2 반사 거울;을 포함하여 구성되고,상기 입사부 및 출사부는 상기 레이저 변조부를 중심으로 대칭을 이루도록 구성되며,상기 제1 및 제2 반사 거울은 수평 이동이 가능하도록 구성되는 제2 수평 스테이지 상부면에 배치되고,상기 레이저 최적화 장치는 상기 제1 수평 스테이지 또는 제2 수평 스테이지가 기 설정된 거리만큼 수평 이동함에 따라, 레이저가 상기 입사부, 레이저 변조부 및 출사부를 거치지 않고 그대로 통과하는 무변조 모드로 동작하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 시스템
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제16항에 있어서, 상기 레이저 진단 장치는상기 출사부로부터 출사되는 레이저에 대한 스펙트럼, 시간 대조비 및 2차원 프로파일과, 상기 플라즈마 거울의 위치 변경에 따른 레이저 빔의 이동 정도와, 상기 플라즈마 거울의 반사율 중 적어도 하나를 측정하는 것을 특징으로 하는 레이저 최적화 시스템
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