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탄소나노점에 아르곤 가스와 반응성 가스의 존재 하에 플라즈마 처리하는 단계를 포함하는 형광 탄소 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 탄소나노점은 액상 형태인 것을 특징으로 하는 형광 탄소 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 탄소나노점은 유기성 시료에 초음파 조사, 열수법, 마이크로웨이브법, 졸-겔법 중 선택된 어느 하나의 방법으로 처리하여 제조되는 것을 특징으로 하는 형광 탄소 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 반응성 가스는 N2, H2, O2, F2, CH2 및 CH4 중 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 형광 탄소 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 아르곤 가스와 반응성 가스는 10~90:90~10의 부피비로 혼합되는 것을 특징으로 하는 형광 탄소 나노입자의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 처리는 70~300W의 플라즈마 전력을 5~180분간 공급하여 수행되는 것을 특징으로 하는 형광 탄소 나노입자의 제조방법
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제1항 내지 제3항, 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 형광 탄소 나노입자
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제8항에 있어서,상기 형광 탄소 나노입자는 흡수파장이 330 내지 700㎚인 형광 탄소 나노입자
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제8항에 있어서,상기 형광 탄소 나노입자는 형광파장이 350 내지 800㎚인 것을 특징으로 하는 형광 탄소 나노입자
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제8항 기재의 형광 탄소 나노입자가 도입된 생체적합성 형광 소스
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제8항 기재의 형광 탄소 나노입자가 도입된 광 소자
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제8항 기재의 형광 탄소 나노입자가 도입된 도료
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