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광학계의 잡광 분석 장치(상기 광학계의 잡광 분석 장치는 컴퓨팅 장치로 구현됨)에서 수행되는 광학계의 잡광 분석 방법에 있어서, 전산모사를 위하여, 광학계(상기 광학계는 적어도 하나의 광학 부재와, 상기 광학 부재를 지지하기 위한 적어도 하나의 구조물을 포함하여 구성되는 광학 장치에 해당함) 및 디텍터(상기 디텍터는 상기 광학계의 입사동으로부터 입사하는 광을 검출하는 장치에 해당함)를 포함하여 구성되는 광학 시스템을 모델링하는 단계;상기 모델링된 광학 시스템을 이용하여 전산모사를 수행하되, 상기 모델링된 광학 시스템에서, 상기 디텍터를 구성하는 복수의 픽셀들 중 어느 하나의 픽셀을 테스트 광원으로 정의하고, 상기 정의된 테스트 광원에서 상기 입사동 방향으로 테스트 광을 출력하는 단계; 상기 광학계를 거쳐 상기 입사동으로 입사하는 테스트 광의 입사 방향 정보(상기 입사 방향 정보는 상기 모델링된 광학 시스템에서 상기 테스트 광이 상기 광학계를 거쳐 상기 입사동으로 입사하는 방향을 나타내는 정보에 해당함)를 생성하는 단계; 및 상기 모델링된 광학 시스템에서, 상기 생성된 입사 방향 정보를 기초로 상기 입사동에서 상기 디텍터 방향으로 광추적하여 상기 광학 시스템의 잡광 발생 인자를 도출하는 단계;를 포함하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제1항에 있어서, 상기 입사 방향 정보를 생성하는 단계는상기 광학계의 입사동에 가상의 평면을 정의하는 단계; 및상기 광학계를 거쳐 상기 가상의 평면으로 입사하는, 상기 광원으로 정의된 픽셀에서 출력되는 테스트 광의 입사 방향 정보를 생성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제3항에 있어서, 상기 입사 방향 정보를 생성하는 단계는상기 가상의 평면으로 입사하는 테스트 광에 대한 수직 및 수평 방향의 입사 각도를 나타내는 3차원 입사 방향 정보를 생성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제4항에 있어서, 상기 3차원 입사 방향 정보는상기 수직 및 수평 방향의 입사 각도에서 입사하는 테스트 광의 광량 정보를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제5항에 있어서, 상기 3차원 입사 방향 정보를 생성하는 단계는상기 테스트 광에 의한 3차원 입사 방향 정보에서, 상기 광학계에 포함되는 광학 부재의 산란에 의한 3차원 입사 방향 정보를 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제5항 또는 6항에 있어서, 상기 잡광 발생 인자를 도출하는 단계는상기 3차원 입사 방향 정보를 기초로, 상기 입사동 방향에서 상기 디텍터 방향으로 광추적하여 상기 광학 시스템의 잡광 발생 인자를 도출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제7항에 있어서, 광학계의 잡광 분석 방법은상기 잡광 발생 인자를 도출하는 단계 이후, 상기 테스트 광을 출력하는 단계부터 다시 순차적으로 진행하되, 상기 광원으로 정의된 픽셀과 다른 픽셀을 광원으로 정의하여 테스트 광을 출력하고, 재정의된 광원에 따라 생성된 3차원 입사 방향 정보를 기초로 잡광 발생 인자를 도출하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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제1항에 있어서, 광학 시스템의 잡광 분석 방법은상기 모델링된 광학 시스템에서, 상기 도출된 잡광 발생 인자의 광 경로를 차단하는 배플(baffle)을 추가하거나 또는 상기 도출된 잡광 발생 인자에 대한 표면 속성을 변경하여, 상기 모델링된 광학 시스템을 재설계하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학계의 잡광 분석 방법
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광학계의 잡광 분석 장치에 있어서, 전산모사를 위하여, 광학계(상기 광학계는 적어도 하나의 광학 부재와, 상기 광학 부재를 지지하기 위한 적어도 하나의 구조물을 포함하여 구성되는 광학 장치에 해당함) 및 디텍터(상기 디텍터는 상기 광학계의 입사동으로부터 입사하는 광을 검출하는 장치에 해당함)를 포함하여 구성되는 광학 시스템을 모델링하는 모델링부;상기 모델링된 광학 시스템을 이용하여 전산모사를 수행하되, 상기 모델링된 광학 시스템에서, 상기 디텍터를 구성하는 복수의 픽셀들 중 어느 하나의 픽셀을 테스트 광원으로 정의하고, 상기 정의된 테스트 광원에서 상기 입사동 방향으로 테스트 광을 출력하며, 상기 광학계를 거쳐 상기 입사동으로 입사하는 테스트 광의 입사 방향 정보(상기 입사 방향 정보는 상기 모델링된 광학 시스템에서 상기 테스트 광이 상기 광학계를 거쳐 상기 입사동으로 입사하는 방향을 나타내는 정보에 해당함)를 생성하는 테스트부; 및 상기 모델링된 광학 시스템에서, 상기 생성된 입사 방향 정보를 기초로 상기 입사동에서 상기 디텍터 방향으로 광추적하여 상기 광학 시스템의 잡광 발생 인자를 도출하는 잡광 분석부;를 포함하는 광학계의 잡광 분석 장치
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