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a) 출발원료로서 Y2O3, Al2O3, SiO2 또는 그들의 전구체를 용융하여 유리 프릿을 제조하는 단계;b) 상기 유리 프릿을 분쇄하여 분말화한 유리 프릿 또는 유리 프릿 페이스트를 세라믹스 모재상의 일부 또는 전부에 고르게 도포하는 단계;c) 상기 b) 단계에 의한 유리 프릿을 가열하여 용융상태로 함으로써 용융된 유리 프릿에 의하여 상기 모재가 코팅되도록 하는 단계;d-2) 용융 온도 미만인 재결정화 온도에서 코팅층을 재결정화하는 단계;를 포함하되,c) 단계에서, 유리 프릿의 코팅을 위한 온도는 유리 프릿의 연화점 내지 유리 프릿 제조온도 범위이고,상기 출발원료간 반응의 결과물로서 유리 프릿내에 Y3Al5O12, Y2Si2O7를 포함하는 결정질이 생성되는 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 c) 단계 이후에, d-1) 상기 유리 프릿이 용융코팅된 세라믹스 모재의 코팅층을 가공하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 Y2O3, Al2O3, SiO2의 함량은 각각,위 세가지 성분의 합산을 기준으로 15 mol% 내지 40mol%, 10 mol% 내지 50 mol%, 30 mol% 내지 60 mol%인 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 d-2) 단계는 모재에 유리 프릿을 코팅하고 상온으로 냉각한 이후에 다시 승온하여 재결정화 온도에 도달하여 재결정화를 수행하거나, 또는 세라믹스 모재에 유리 프릿을 코팅한 상태에서 재결정화 온도까지 낮추어 재결정화를 수행하는 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 b) 단계에서, 유리 프릿 분말이 고른 두께로 도포되도록 평탄화 하는 과정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 a) 단계에서,유리 프릿의 제조온도는 1400 내지 1700℃인 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,상기 재결정화는 유리의 전이온도보다 15 ~ 25℃ 높은 온도에서 열처리한 후, 재결정화 온도에서 다시 열처리하는 2단계 열처리 방법에 의하는 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항에 있어서,코팅층의 두께는 50 ~ 150㎛인 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스의 코팅층 제조방법
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제1항의 제조방법에 의하여 제조되며,Y2O3는 15 mol% 내지 40mol%, Al2O3는 10 mol% 내지 50 mol%, SiO2는 30 mol% 내지 60 mol%로 구성되는 상기 유리 프릿 조성물이 세라믹스 모재의 코팅층을 이루되, 상기 출발원료간 반응의 결과물로서 유리 프릿내에서 Y3Al5O12, Y2Si2O7를 포함하는 결정질이 생성되며, 상기 유리 프릿 조성물은 상기 모재의 계면에도 분포되는 것을 특징으로 하는 내플라즈마용 세라믹스
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