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그래핀 적층 구조체 및 이의 제조방법(Graphene laminated structure and method for manufacturing the same)

  • 기술번호 : KST2018006764
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 그래핀층, 금속 입자층 및 산화 그래핀층을 순차로 포함하는 그래핀 적층 구조체에 관한 것으로, 이러한 그래핀 적층 구조체는 저항이 낮아 전기전도성이 높을 뿐만 아니라 대기중에 노출되어도 장기간 안정한 장점이 있다.
Int. CL C01B 31/04 (2006.01.01) C04B 41/88 (2006.01.01)
CPC C01B 32/194(2013.01) C01B 32/194(2013.01) C01B 32/194(2013.01) C01B 32/194(2013.01)
출원번호/일자 1020160157216 (2016.11.24)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1976611-0000 (2019.05.02)
공개번호/일자 10-2018-0058361 (2018.06.01) 문서열기
공고번호/일자 (20190510) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.11.24)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이선숙 대한민국 대전광역시 중구
2 안기석 대한민국 대전광역시 유성구
3 임종선 대한민국 대전광역시 유성구
4 명성 대한민국 대전광역시 서구
5 송우석 대한민국 대전광역시 유성구
6 임이랑 대한민국 전라북도 전주시 완산구
7 지슬기 대한민국 전라북도 익산시
8 이수진 대한민국 충청북도 청주시 상당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-1150431-73
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.02.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.03.12 수리 (Accepted) 9-1-2018-0009876-01
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0330670-37
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2018-0700691-73
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0798380-08
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2018-0798357-57
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0876168-89
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.02.15 수리 (Accepted) 1-1-2019-0162057-16
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.02.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0161943-75
13 등록결정서
Decision to grant
2019.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0304857-58
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
그래핀층; 금속염 용액이 상기 그래핀층에 코팅됨으로써 상기 그래핀층에 결착 형성된 금속 입자층; 및 상기 금속 입자층의 금속 입자와 접하여 금속 입자를 덮는 산화그래핀층;을 순차로 포함하며, 하기 식 2를 만족하고, 제조 직후 면저항(R0)이 90 내지 450 Ω/□인 그래핀 적층 구조체를 포함하는 투명 유연 전극
2 2
제 1항에 있어서,상기 금속 입자층에 포함된 금속입자는 금, 니켈, 구리, 백금, 팔라듐, 코발트 및 철에서 선택되는 하나 또는 둘 이상을 포함하는 투명 유연 전극
3 3
제 1항에 있어서,상기 그래핀 적층구조체는 하기 식 1을 만족하는 투명 유연 전극
4 4
삭제
5 5
제 1항에 있어서,상기 그래핀 적층 구조체는 500 내지 600 ㎚의 파장 영역에서 광투과도가 94% 이상인 투명 유연 전극
6 6
삭제
7 7
a) 그래핀 층 형성단계;b) 상기 그래핀층 상에 금속염 용액을 코팅하여 그래핀층 상에 금속 입자층을 형성하는 단계; 및 c) 상기 금속 입자층 상에 산화그래핀층을 형성하여 그래핀 적층 구조체를 형성하는 단계;를 포함하는 청구항 제1항에 따른 투명 유연 전극의 제조방법
8 8
제 7항에 있어서,상기 b) 단계의 금속염 용액은 0
9 9
제 7항에 있어서,상기 a) 단계는 화학적 기상 증착법을 이용하여 그래핀을 제조하는 것인 투명 유연 전극의 제조방법
10 10
제 7항에 있어서,상기 c) 단계는 상기 금속 입자층 상에 그래핀 옥사이드 용액을 코팅하는 단계인 투명 유연 전극의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 기획예산처 한국화학연구원 정부출연 일반사업 (Sub) 다기능 그래핀 소재 및 소자화 기술 개발
2 미래창조과학부 한국화학연구원 원천기술개발사업 (EZ)친환경 고효율 산화 그래핀 합성공정 최적화 기술 개발
3 미래창조과학부 한국화학연구원 원천기술개발사업 (EZ)소프트 전원 소자용 그래핀 기반 나노 복합 소재 기술 개발