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a) 기판에 경화성 고분자 수지를 코팅하여 경화시킨 후, 표면처리 공정 또는 임프린팅 공정을 통해 표면에 광경로 제어를 위한 물리적인 요철(凹凸) 구조를 형성한 후, 상기 요철구조 위에 소수성 고분자 수지를 도포하여 요철구조를 갖는 이형층을 형성하는 단계;b) 상기 이형층 전면에 금속 나노와이어 용액을 도포한 후 건조하여 금속 나노와이어 코팅층을 형성하는 단계;c) 상기 금속 나노와이어 코팅층 위에 경화성 고분자 수지를 전면에 도포하고 경화하여 금속 나노와이어가 매립된 고분자 필름을 제조하는 단계; 및d) 상기 이형층으로부터 금속 나노와이어가 매립된 고분자 필름을 분리하여 표면에 광경로 제어를 위한 물리적인 요철구조가 형성된 금속 나노와이어 층을 갖는 플렉서블 투명전극을 제조하는 단계;를 포함하며, 상기 소수성 고분자 수지와 경화성 고분자 수지는 비상용성인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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a) 기판에 소수성 고분자 수지를 도포하고, 상기 소수성 고분자 수지가 건조되기 전에, 광경로 제어를 위한 물리적인 요철(凹凸) 구조를 가지며 실록산계 중합체로 이루어진 몰드를 밀착시킨 상태에서 건조한 후, 상기 몰드를 제거하여 요철구조가 형성된 이형층을 형성하는 단계;b) 상기 이형층 전면에 금속 나노와이어 용액을 도포한 후 건조하여 금속 나노와이어 코팅층을 형성하는 단계;c) 상기 금속 나노와이어 코팅층 위에 경화성 고분자 수지를 도포하고 경화하여 금속 나노와이어가 매립된 고분자 필름을 제조하는 단계; 및d) 상기 이형층으로부터 금속 나노와이어가 매립된 고분자 필름을 분리하여 표면에 광경로 제어를 위한 물리적인 요철구조를 갖는 플렉서블 투명전극을 제조하는 단계;를 포함하며, 상기 소수성 고분자 수지와 경화성 고분자 수지는 비상용성인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 a)단계의 몰드는 기판에 경화성 고분자 수지를 코팅하여 경화시킨 후, 표면처리 공정 또는 임프린팅 공정을 통해 표면에 요철(凹凸) 구조를 형성한 후, 상기 요철구조 위에 실록산계 중합체를 도포하고 열처리하여 제조된 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 소수성 고분자 수지의 용해도상수(solubility parameter) δ1와 경화성 고분자 수지의 용해도 상수 δ2의 차이 값인, 하기 식 1의 Δδ가 하기 식 2를 만족하는 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 a)단계에서, 상기 기판에 요철구조가 형성된 이형층을 형성한 후,상기 이형층 위에, 마스크를 위치시키고 친수화 처리를 하여 마스크가 없는 부분을 친수화 처리하는 단계; 및 상기 마스크를 제거하는 단계;를 더 포함하여 패턴을 형성시킨 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 친수화 처리 전 이형층 표면의 물에 대한 접촉각이 65°이상이고, 상기 친수화 처리 후 이형층 표면의 물에 대한 접촉각이 50°이하인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 친수화 처리는 플라즈마, 자외선-오존, 전자빔 또는 이온빔 처리인 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 플라즈마 또는 이온빔 처리는 O2, H2, N2, Ar으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 기체를 사용하는 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 친수화 처리는 금속 나노와이어와 경화성 고분자 수지 간의 접착력을 A1이라 하고, 이형층과 금속 나노와이어 간의 접착력을 A2라 할 때, 하기 식 3을 만족하도록 하는 범위로 수행하는 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 마스크는 실록산계 중합체, 실리콘고무 또는 금속 재질로 이루어진 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 요철구조는 요부의 폭과 철부의 폭이 금속 나노와이어의 크기보다 큰 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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12
제 1항 또는 제 3항에 있어서,상기 표면처리는 플라즈마, 자외선-오존, 전자빔 또는 이온빔 처리인 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 소수성 고분자 수지는 올레핀계 수지, 비닐계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리아마이드계 수지, 실리콘계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리설폰계 수지, 폴리에테르 설폰계 수지, 폴리아세탈계 수지 및 폴리(메타)아크릴계수지로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 공중합체인 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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14
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 경화성 고분자 수지는 자외선 경화형 고분자 수지, 열경화형 고분자 수지, 상온 습기 경화형 고분자수지, 적외선 경화형 고분자수지에서 선택되는 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 내지 제 3항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,상기 기판은 실리콘, 석영, 유리, 실리콘 웨이퍼, 고분자, 금속 및 금속 산화물에서 선택되는 어느 하나인 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 금속 나노와이어는 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금에서 선택되고, 직경이 10 ~ 50nm이고, 길이가 10 ~ 50㎛, 종횡비가 500 ~ 800인 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 금속 나노와이어 용액은 금속 나노와이어가 정제수, 에탄올, 이소프로필알콜, 부틸카비톨에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 용매에 0
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 도포는 스핀 코팅, 바코팅, 롤투롤 코팅에서 선택되는 것인 구조 일체형 플렉서블 투명전극의 제조방법
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