| 1 |
1
지지체; 및상기 지지체 상에 위치하고, 카보닐기 또는 에테르기를 포함하는 제1 고분자, 히드록시기를 포함하는 제2 고분자 및 은 나노입자를 포함하는 고분자 분리층을 포함하는 기체 분리막
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 제1 고분자와 제2 고분자는 서로 상용성을 가지며, 상기 은 나노입자는 상기 고분자들에 분산되어 있는 것인 기체 분리막
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 고분자 분리층은 상기 고분자들에 분산된 전자 수용체를 더 포함하는 것인 기체 분리막
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 전자 수용체는 테트라시아노퀴논디메탄(Tetracyanoquinodi methane, TCNQ), 테트라플로오루-테트라시아노퀴노디메탄(F4-Tetracyanoquinodimet hane, F4-TCNQ), 파이로멜리토나이트릴(Pyromellitonitrile), 테트라시아노벤젠 (Tetracyanobenzene), N,N'-다이페닐-1,4,5,8-나프틸테트라카르복실릭이미드(N,N'-diphenyl-1,4,5,8-naphthyltetracarboxilicimide, DPNTCI), 1,2-다이나이트로벤젠(1,2-dinitrobenzene (DNB)), 3,4-다이니트로톨루엔(3,4-dinitrotoluene (DNT)), 테트라티아플발렌(Tetrathiafulvalene) 및 페릴렌테트라카르복실 무수화물(Perylene tetracarboxilic dianhydride, PTCDA)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것인 기체 분리막
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 제2 고분자의 중량 비율은, 상기 제1 고분자 100 중량부 대비 0
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 제2 고분자의 중량 비율은, 상기 제1 고분자 100 중량부 대비 3wt% 내지 10wt%인 기체 분리막
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 카보닐기를 포함하는 제1 고분자는 폴리비닐피롤리돈(poly(vinyl pyrrolidone), PVP), 폴리옥사졸린(polyoxazoline) 및 폴리아크릴아마이드(polyacrylamide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것이고,상기 에테르기를 포함하는 제1 고분자는 폴리 (메틸렌 옥사이드)(poly(methylene oxide)), 폴리 (에틸렌 옥사이드)(poly(ethylene oxide)), 폴리 (프로필렌 옥사이드) (poly(propylene oxide), 폴리 (트리메틸렌 옥사이드)(poly(trimethylene oxide) 및 폴리 (테트라메틸렌 옥사이드)(poly(tetramethylene oxide)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나인 것인 기체 분리막
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 제2 고분자는 페놀 수지를 포함하는 것인 기체 분리막
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 페놀 수지는 노볼락 타입 페놀 수지 또는 레졸 타입 페놀 수지인 것인 기체 분리막
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 기체 분리막은 투과도는 3
|
| 11 |
11
카보닐기 또는 에테르기를 포함하는 제1 고분자, 히드록시기를 포함하는 제2 고분자 및 은염 화합물을 포함하는 고분자 혼합 용액을 제조하는 단계; 및상기 고분자 혼합 용액을 지지체 상에 코팅하는 단계를 포함하는 기체 분리막 제조방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 고분자 혼합 용액을 제조하는 단계는, 상기 제1 고분자의 카보닐기 또는 에테르기와, 상기 제2 고분자의 히드록시기가 상기 은염 화합물 내의 은 이온을 환원시켜 은 나노입자를 형성하는 것을 특징으로 하는 기체 분리막 제조방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 고분자 혼합 용액을 제조하는 단계는, 상기 은 나노입자 형성 후에 전자 수용체를 더 첨가하는 것인 기체 분리막 제조방법
|
| 14 |
14
제12항에 있어서, 상기 은 나노입자는 0
|
| 15 |
15
제11항에 있어서,상기 고분자 혼합 용액 내의 상기 제2 고분자의 중량 비율은, 상기 제1 고분자 100 중량부 대비 5wt% 내지 7wt%인 기체 분리막 제조방법
|
