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내부가 중공되어 연소 챔버가 형성된 몸체와, 상기 몸체에 구비되어 연료를 상기 연소 챔버로 공급하는 노즐과, 상기 몸체에 설치되어 상기 연소 챔버에 공급된 연료에 플라즈마를 발생시키기 위한 양전극 및 음전극과, 상기 양전극과 음전극에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기에 있어서, 상기 연소 챔버에 노출된 양전극의 끝단과 음전극의 끝단 사이에는 플라즈마가 발생되는 플라즈마 영역이 형성되되,상기 플라즈마 영역은, 연료가 분사되는 상기 노즐의 끝단과, 상기 노즐에서 분사된 연료가 미립화되기 전 영역 사이에 형성되고,상기 양전극의 끝단과 상기 음전극의 끝단 사이의 최단 거리는 상기 양전극 또는 음전극의 끝단과 상기 노즐 사이의 거리보다 짧게 형성된 것을 특징으로 하는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 영역은,상기 노즐의 연료 분무 중심축에 수직한 방향으로 상기 노즐에서 분사된 연료의 분무액주 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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내부가 중공되어 연소 챔버가 형성된 몸체와, 상기 몸체에 구비되어 연료를 상기 연소 챔버로 공급하는 노즐과, 상기 몸체에 설치되어 상기 연소 챔버에 공급된 연료에 플라즈마를 발생시키기 위한 양전극 및 음전극과, 상기 양전극과 음전극에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기에 있어서, 상기 연소 챔버에 노출된 양전극의 끝단과 음전극의 끝단 사이에는 플라즈마가 발생되는 플라즈마 영역이 형성되되,상기 플라즈마 영역은, 연료가 분사되는 상기 노즐의 끝단과, 상기 노즐에서 분사된 연료가 미립화되기 전 영역 사이에 형성되고,상기 양전극과 음전극의 끝단은, 그 거리가 가장 짧은 최단 거리(x1)와 최장거리(x2)가 존재하며,상기 최단 거리(x1)가 상기 몸체의 전단에 형성되고, 상기 최장 거리(x2)가 상기 몸체의 후단에 형성된, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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내부가 중공되어 연소 챔버가 형성된 몸체와, 상기 몸체에 구비되어 연료를 상기 연소 챔버로 공급하는 노즐과, 상기 몸체에 설치되어 상기 연소 챔버에 공급된 연료에 플라즈마를 발생시키기 위한 양전극 및 음전극과, 상기 양전극과 음전극에 전원을 공급하는 전원공급부를 포함하여 이루어지는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기에 있어서, 상기 연소 챔버에 노출된 양전극의 끝단과 음전극의 끝단 사이에는 플라즈마가 발생되는 플라즈마 영역이 형성되되,상기 플라즈마 영역은, 연료가 분사되는 상기 노즐의 끝단과, 상기 노즐에서 분사된 연료가 미립화되기 전 영역 사이에 형성되고,상기 양전극과 음전극의 끝단 사이의 거리는, 상기 몸체의 전단측이 상기 몸체의 후단 측 보다 짧게 형성된 것을 특징으로 하는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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제 1항 또는 제 4항 또는 제 5항에 있어서,상기 노즐, 양전극 및 음전극은 상기 몸체의 길이방향 일측에 구비되며, 타측이 상기 몸체를 관통하여 상기 연소 챔버에 노출되도록 형성된, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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제 1항 또는 제 4항 또는 제 5항에 있어서,상기 연소기는,상기 몸체의 외면을 감싸도록 원통형으로 이루어진 가열챔버덮개; 를 더 포함하며,상기 몸체와 상기 가열챔버덮개 사이에는 산화제 가열챔버가 형성되고,상기 몸체 상에는 상기 가열챔버와 상기 연소 챔버를 연통하는 다수의 산화제 유출공이 형성되는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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제 7항에 있어서,상기 산화제 유출공은,상기 플라즈마 영역의 후단부와 수직한 몸체 상에 형성되는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기
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제 1항 또는 제 4항 또는 제 5항의 플라즈마 이용 연료 분무 연소기; 및상기 연소기가 수용되며, 양단에 가스 유입구 및 유출구가 형성되고, 내부에 상기 연소기를 통해 가열되는 가스가 유동하는 외통;을 포함하는, 플라즈마 이용 연료 분무 연소기를 이용한 가스 가열 장치
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