[KST2014011871][한국전기연구원] |
나노입자빔을 이용한 박막증착 방법 및 장치 |
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[KST2015163341][한국전기연구원] |
원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치 |
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[KST2017006245][한국전기연구원] |
코팅 장치(COATING DEVICE) |
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[KST2014012722][한국전기연구원] |
레이저윈도우 오염 방지를 위한 레이저 증착 장치 |
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[KST2015164298][한국전기연구원] |
반도체 분말의 표면처리방법 |
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[KST2018004643][한국전기연구원] |
에칭 가스를 이용한 실리콘 카바이드 기판의 에칭방법(The etching method of the silicon carbide substrate using an etching gas) |
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[KST2015163211][한국전기연구원] |
원통형 자기부상 스테이지 |
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[KST2015163740][한국전기연구원] |
전력반도체의 특성 향상을 위한 에이징 장치 및 그 방법 |
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[KST2014012618][한국전기연구원] |
박막증착장치 |
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[KST2015163567][한국전기연구원] |
원통형 자기부상 스테이지 |
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[KST2018004021][한국전기연구원] |
아민계 폴리머를 포함한 실리콘 카바이드 다이오드 및 제조방법(The silicon carbide diodes and manufacturing methods, including the amine-based polymer) |
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[KST2014012308][한국전기연구원] |
열전반도체 초미분 제조 방법 |
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[KST2020012287][한국전기연구원] |
대면적 기판 코팅 장치 및 이의 코팅 방법 |
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[KST2015163735][한국전기연구원] |
나노-마이크로 복합 패턴 형성을 위한 몰드의 제조 방법 |
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[KST2014011991][한국전기연구원] |
플룸 형상 제어 레이저 증착 시스템 |
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[KST2016010393][한국전기연구원] |
원통형 초정밀 자기부상 스테이지(Cylindrical ultra-precision magnetic levitation stage) |
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[KST2015163338][한국전기연구원] |
노광장치용 전자석 홀더장치 |
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[KST2014012565][한국전기연구원] |
장선 테이프 증착장치 |
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[KST2014012534][한국전기연구원] |
자기부상 클린 리프트 |
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[KST2017007253][한국전기연구원] |
활성화 열처리 공정을 통한 탄화규소 다이오드 제조방법(SiC diode manufacturing method through the active heat treatment) |
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[KST2015163303][한국전기연구원] |
자기부상을 이용한 원통형 기판용 코팅 장치 |
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[KST2015163332][한국전기연구원] |
플라즈마 잠입 이온을 이용한 가공 장치 및 방법 |
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[KST2018004655][한국전기연구원] |
실리콘 카바이드 트렌치 쇼트키 배리어 다이오드의 제조방법(MANUFACTURING METHOD OF SILICON-CARBIDE TRENCH SCHOTTKY BARRIER DIODE) |
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[KST2015164166][한국전기연구원] |
3차원 표면형상을 갖는 원통형 가공물을 위한 유도 결합형플라즈마 공정 챔버 및 방법 |
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[KST2014012077][한국전기연구원] |
가이드 롤러가 구비된 장선 증착 장치 |
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[KST2014012536][한국전기연구원] |
자기부상방식의 대면적 스테이지 장치 |
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[KST2014012543][한국전기연구원] |
자기안내 리프트의 안내 제어시스템 |
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[KST2019004295][한국전기연구원] |
피에조 엑츄에이터식 1축 정밀 제어모듈과 피에조 엑츄에이터식 1축 정밀 제어장치 |
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[KST2019002658][한국전기연구원] |
절연 또는 반절연 6H-SiC 기판에 구현된 SiC 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
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[KST2017007334][한국전기연구원] |
아민계 폴리머를 포함한 다이오드 제조방법(Diode manufacturing method, including the amine-based polymer) |
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