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제1레이어;제2레이어;상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되며, 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1수지로 이루어진 제1굴절부; 및상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2수지로 이루어진 제2굴절부를 포함하는 위상 공간 필터
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제 1항에 있어서,상기 제1레이어 또는 상기 제2레이어는상기 제1레이어로 입사되는 빛의 반사율 또는 투과율을 조절하는 코팅층인위상 공간 필터
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제 1항에 있어서,상기 제1굴절부의 높이는상기 제1굴절률과 상기 제2굴절률의 차이 및 빛의 파장에 따라 결정되는위상 공간 필터
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제 1항에 있어서,상기 제1굴절부는 상기 제1굴절률의 에폭시 수지이며,상기 제2굴절부는 상기 제2굴절률의 에폭시 수지인위상 공간 필터
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제 1항에 있어서,상기 제1굴절부의 개수 및 반지름, 상기 제1 및 제2굴절률의 차이에 따라 빛의 횡방향 분해능 및 초점 심도가 조절되는위상 공간 필터
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광원으로부터 제공된 빛을 입력받는 위상 공간 필터를 포함하며,상기 위상 공간 필터는제1레이어;제2레이어;상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되는 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1굴절부; 및상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2굴절부를 포함하며,상기 제1레이어 또는 상기 제2레이어는상기 제1레이어로 입사되는 빛의 반사율 또는 투과율을 조절하는 코팅층인광학 시스템
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제 6항에 있어서,상기 위상 공간 필터는상기 광학 시스템의 프로브와 결합되거나 또는 자유 공간에 위치하는광학 시스템
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제1굴절률의 제1수지로 이루어진 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계;상기 패턴이 형성된 상기 제1수지의 일면에, 상기 패턴보다 높은 높이로 제2굴절률의 제2수지를 도포하는 단계; 및외부로 노출된 상기 제2수지의 표면을 코팅하는 단계 위상 공간 필터 제조 방법
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제 8항에 있어서,상기 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계는기판 상에 상기 제1수지를 도포하는 단계; 및스탬프로 상기 제1수지를 눌러, 상기 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법
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제 9항에 있어서,상기 기판을 제1수지로부터 제거하는 단계;상기 기판이 제거된 상기 제1수지의 타면에서, 상기 제2수지가 노출되도록 상기 제1수지를 제거하는 단계; 및상기 제1수지의 타면을 코팅하는 단계 를 더 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법
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제 8항에 있어서,상기 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계는기판 상에 음각 형태의 패턴을 형성하는 단계; 및상기 음각 형태의 패턴이 형성된 기판에 상기 제1수지를 도포하는 단계를 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법
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제 8항에 있어서,상기 수지는 자외선 경화 에폭시 수지인위상 공간 필터 제조 방법
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