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오비탈 큐빗기반의 양자역학적 인공 시각 시스템 및 연산 방법

  • 기술번호 : KST2018008099
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 특징점의 갯수가 증가함에 따라 발생되는 NP문제를 양자역학적 이징모델을 이용한 해밀토니안으로 대치하고, 메트릭스 형상의 오비탈 큐빗을 이용하여 용이하게 계산할 수 있는 오비탈 큐빗기반의 양자역학적 인공 시각 시스템 및 연산 방법이 개시된다. 이러한 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 연산방법은, 컴퓨터가, 제1 영상의 관심점들 사이를 연결하는 제1 라벨드 그래프 및 제2 영상의 관심점들 사이를 연결하는 제2 라벨드 그래프를 획득하는 단계와, 상기 제1 영상의 관심점들과 상기 제2 영상의 관심점들 간을 매칭시켜 점대점 조합을 생성하고, 가장 큰 유사도를 가지는 점대점 조합을 시작으로, 임계치보다 큰 유사도를 가지는 점대점 조합을 꼭지점으로 추가하여 컨플릭트 그래프를 생성하는 단계와, 상기 컨플릭트 그래프의 최대 독립적 집합을 찾아내기 위한 비제한적 이진 최적화식을 생성시키는 단계와, 상기 비제한적 이진 최적화식을 양자 시스템의 해밀토니안 H로 변환시키는 단계,(ε0와 ε1은 각각, 결정의 최소 전도대의 서로 마주하는 고유상태의 대칭상태(symmetric state)와 반대칭(antisymmetric state)의 에너지이고, Δ는 스플리팅(splitting) 에너지이고, F는 z-축방향으로 인가된 전계), 및 상기 해밀토니안을, 서로 마주하는 오비탈 큐빗의 고유상태 방향으로 전계를 인가하며, 최소의 해밀토니안을 갖도록 계산함으로써 상기 비제한적 이진 최적화식의 솔루션을 구하는 단계를 포함한다.
Int. CL G06N 99/00 (2019.01.01) B82Y 10/00 (2017.01.01)
CPC G06N 10/00(2013.01)G06N 10/00(2013.01)
출원번호/일자 1020160168245 (2016.12.12)
출원인 서울시립대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1951524-0000 (2019.02.18)
공개번호/일자 10-2018-0067007 (2018.06.20) 문서열기
공고번호/일자 (20190510) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.12.12)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울시립대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안도열 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인청맥 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **, *층(역삼동, MK빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울시립대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-1212362-53
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2017-5009116-18
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.07.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0515683-69
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0951333-63
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-1076315-39
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.10.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-1076304-37
7 등록결정서
Decision to grant
2018.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0787031-78
8 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-1283210-44
9 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.04.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5012842-40
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5191631-69
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번호 청구항
1 1
컴퓨터에 의해 수행되는 양자역학적 인공 시각 연산방법으로서, 컴퓨터가,제1 영상의 관심점들 사이를 연결하는 제1 라벨드 그래프 및 제2 영상의 관심점들 사이를 연결하는 제2 라벨드 그래프를 생성하는 단계;상기 제1 영상의 관심점들과 상기 제2 영상의 관심점들 간을 매칭시켜 점대점 조합을 생성하고, 가장 큰 유사도를 가지는 점대점 조합을 시작으로, 임계치보다 큰 유사도를 가지는 점대점 조합을 꼭지점으로 추가하여 컨플릭트 그래프를 생성하는 단계;상기 컨플릭트 그래프의 최대 독립적 집합을 찾아내기 위한 비제한적 이진 최적화식을 생성시키는 단계;상기 비제한적 이진 최적화식을 양자 시스템의 해밀토니안 H로 변환시키는 단계,(ε0와 ε1은 각각, 결정의 최소 전도대의 서로 마주하는 고유상태의 대칭상태(symmetric state)와 반대칭(antisymmetric state)의 에너지이고, Δ는 스플리팅(splitting) 에너지이고, F는 z-축방향으로 인가된 전계); 및상기 해밀토니안을, 서로 마주하는 오비탈 큐빗의 고유상태 방향으로 전계를 인가하며, 최소의 해밀토니안을 갖도록 계산함으로써 상기 비제한적 이진 최적화식의 솔루션을 구하는 단계; 를 수행하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 연산방법
2 2
제1 항에 있어서,상기 해밀토니안을, 오비탈 큐빗을 기반하여 계산함으로써 상기 비제한적 이진 최적화식의 솔루션을 구하는 단계는,실리콘(Si) 결정의 최소 전도대의 6개의 고유상태 중에서 서로 마주하는 2개의 고유상태를 이용하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 연산방법
3 3
제2 항에 있어서,서로 마주하는 2개의 고유상태는 실리콘 결정의 [001] 표면에 수직한 방향의 2개의 고유상태인 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 연산방법
4 4
제1 항에 있어서,상기 해밀토니안을, 오비탈 큐빗을 기반하여 계산함으로써 상기 비제한적 이진 최적화식의 솔루션을 구하는 단계에서,상기 해밀토니안은 단열적 전개(adiabatic evolve)를 통해서 계산하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 연산방법
5 5
제1 항에 있어서,상기 비제한적 이진 최적화식을 머신러닝을 통해서 반복 학습시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 연산방법
6 6
영상을 획득하는 영상 획득 모듈;상기 영상 획득 모듈로부터 획득된 영상의 처리를 위한 양자 처리 프로세서; 및상기 양자 처리 프로세서의 연산에 필요한 자료들을 저장하는 메모리부;를 포함하고,상기 양자 처리 프로세서는, 제1 영상의 관심점들 사이를 연결하는 제1 라벨드 그래프 및 제2 영상의 관심점들 사이를 연결하는 제2 라벨드 그래프를 획득하고, 상기 제1 영상의 관심점들과 상기 제2 영상의 관심점들 간을 매칭시켜 점대점 조합을 생성하고, 가장 큰 유사도를 가지는 점대점 조합을 시작으로, 임계치보다 큰 유사도를 가지는 점대점 조합을 꼭지점으로 추가하여 컨플릭트 그래프를 생성하고, 상기 컨플릭트 그래프의 최대 독립적 집합을 찾아내기 위한 비제한적 이진 최적화식을 생성시키고, 상기 비제한적 이진 최적화식을 양자 시스템의 해밀토니안 H로 변환시키고(ε0와 ε1은 각각, 결정의 최소 전도대의 서로 마주하는 고유상태의 대칭상태(symmetric state)와 반대칭(antisymmetric state)의 에너지이고, Δ는 스플리팅(splitting) 에너지이고, F는 z-축방향으로 인가된 전계), 상기 해밀토니안을, 서로 마주하는 오비탈 큐빗의 고유상태 방향으로 전계를 인가하며, 최소의 해밀토니안을 갖도록 계산함으로써 상기 비제한적 이진 최적화식의 솔루션을 구하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 시스템
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제6 항에 있어서,상기 양자 처리 프로세서는,실리콘(Si) 결정의 최소 전도대의 6개의 고유상태 중에서 서로 마주하는 2개의 고유상태를 이용하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 시스템
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제7 항에 있어서,서로 마주하는 2개의 고유상태는 실리콘 결정의 [001] 표면에 수직한 방향의 2개의 고유상태를 이용하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 시스템
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제6 항에 있어서,상기 양자 처리 프로세서는,상기 해밀토니안을, 오비탈 큐빗을 기반하여 계산함으로써 상기 비제한적 이진 최적화식의 솔루션을 구하는 과정에서, 상기 해밀토니안은 단열적 전개(adiabatic evolve)를 통해서 계산하는 것을 특징으로 하는 오비탈 큐빗 기반의 양자역학적 인공 시각 시스템
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