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홀로그래픽 광학 소자에 있어서,베이스 필름(base film); 및상기 베이스 필름에 형성된 것으로서, 다중 발산하는 물체광(object beam)과 참조광(reference beam)을 기초로 투과형 홀로그램 기록 방법을 이용하여 형성되는 패턴을 포함하며,상기 패턴은 상기 물체광이 상기 베이스 필름에 이격되어 위치하는 확산판을 투과하여 상기 홀로그래픽 광학 소자에 도달하기까지 이동한 거리에 따라 광 효율의 균일도를 조절하여 형태가 변화되며, 상기 패턴은 상기 참조광이 상기 확산판을 투과한 상태 또는 투과하지 않는 상태에 따라 형태가 변화되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 베이스 필름은 VHOE(Volume Holographic Optical Element) 필름으로 형성되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 투과형 홀로그램 기록 방법은 조합하여 화이트(white)를 생성하는 색상들과 관련된 파장 대역을 갖는 광들을 차례대로 상기 물체광으로 이용하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 3 항에 있어서,상기 투과형 홀로그램 기록 방법은 상기 조합하여 화이트를 생성하는 색상들과 관련된 파장 대역을 갖는 광들로 적색과 관련된 광, 녹색과 관련된 광 및 청색과 관련된 광을 이용하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 4 항에 있어서,상기 적색과 관련된 파장 대역을 갖는 광, 상기 녹색과 관련된 파장 대역을 갖는 광 및 상기 청색과 관련된 파장 대역을 갖는 광은 서로 다른 입사각으로 상기 베이스 필름에 투과되며, 상기 적색과 관련된 파장 대역을 갖는 광의 입사각은 상기 녹색과 관련된 파장 대역을 갖는 광의 입사각 및 상기 청색과 관련된 파장 대역을 갖는 광의 입사각보다 큰 값을 가지는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 4 항에 있어서,상기 투과형 홀로그램 기록 방법은 상기 적색과 관련된 파장 대역을 갖는 광, 상기 녹색과 관련된 파장 대역을 갖는 광 및 상기 청색과 관련된 파장 대역을 갖는 광의 순서로 상기 물체광으로 이용하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 홀로그래픽 광학 소자는 상기 참조광으로 발산하는 광을 이용하는 홀로그램 기록 방법, 마스크 시프팅(mask shifting)을 이용하는 다중 기록 방식의 홀로그램 기록 방법, 및 패턴이 형성된 미리 정해진 크기의 필름을 대상으로 타일링(tiling)을 수행하는 홀로그램 기록 방법 중 적어도 하나의 홀로그램 기록 방법을 기초로 기준보다 큰 형태로 제조되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 투과형 홀로그램 기록 방법은 상기 참조광으로 발산광 또는 평행광을 이용하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 1 항에 있어서,상기 물체광은 프리즘 시트(prism sheet), 렌즈 어레이(lens array), 상기 확산판(diffusion plate) 또는 이들의 조합을 투과하여 다중 발산하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 10 항에 있어서,상기 물체광은 상기 프리즘 시트, 상기 렌즈 어레이 및 상기 확산판을 모두 투과하는 경우 상기 프리즘 시트, 상기 렌즈 어레이 및 상기 확산판의 순서에 따라 차례대로 투과하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 10 항에 있어서,상기 참조광이 발산광인 경우 상기 프리즘 시트, 상기 렌즈 어레이 및 상기 확산판 중 적어도 하나를 투과하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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제 10 항에 있어서,상기 렌즈 어레이는 직경 대비 초점 거리가 상대적으로 짧은 렌즈들을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자
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홀로그래픽 광학 소자의 생성 방법에 있어서,베이스 필름을 미리 정해진 지점에 위치시키는 단계; 및다중 발산하는 물체광과 참조광을 기초로 투과형 홀로그램 기록 방법을 이용하여 상기 베이스 필름에 패턴을 형성시키는 단계를 포함하며,상기 패턴은 상기 물체광이 상기 베이스 필름에 이격되어 위치하는 확산판을 투과하여 상기 홀로그래픽 광학 소자에 도달하기까지 이동한 거리에 따라 광 효율의 균일도를 조절하여 형태가 변화되며, 상기 패턴은 상기 참조광이 상기 확산판을 투과한 상태 또는 투과하지 않는 상태에 따라 형태가 변화되는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 광학 소자의 생성 방법
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투명한 판 형태로 형성된 유리 소자; 및베이스 필름을 포함하며 다중 발산하는 물체광(object beam)과 참조광(reference beam)을 기초로 투과형 홀로그램 기록 방법을 이용하여 패턴이 형성되는 홀로그래픽 광학 소자를 포함하며,상기 패턴은 상기 물체광이 상기 베이스 필름에 이격되어 위치하는 확산판을 투과하여 상기 홀로그래픽 광학 소자에 도달하기까지 이동한 거리에 따라 광 효율의 균일도를 조절하여 형태가 변화되며, 상기 패턴은 상기 참조광이 상기 확산판을 투과한 상태 또는 투과하지 않는 상태에 따라 형태가 변화되는 것을 특징으로 하는 스크린 장치
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제 16 항에 있어서,상기 홀로그래픽 광학 소자는 상기 유리 소자의 일면에 적층되며,상기 유리 소자의 타면에 적층되는 코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스크린 장치
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제 16 항에 있어서,상기 스크린 장치는 빔 프로젝터에 의해 출력되는 광이 평행광인지 여부에 따라 형태가 다른 참조광을 이용하여 상기 패턴을 형성시킨 상기 홀로그래픽 광학 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크린 장치
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제 18 항에 있어서,상기 스크린 장치는 상기 빔 프로젝터에 의해 출력되는 광이 평행광이면 평행하게 나아가는 참조광을 이용하여 상기 패턴을 형성시킨 상기 홀로그래픽 광학 소자를 포함하며, 상기 빔 프로젝터에 의해 출력되는 광이 평행광이 아니면 발산하는 참조광을 이용하여 상기 패턴을 형성시킨 상기 홀로그래픽 광학 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 스크린 장치
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제 16 항에 있어서,상기 스크린 장치는 상기 물체광을 다중 발산시키는 데에 이용되는 렌즈 어레이의 발산각(divergent angle)을 기초로 뷰잉 존(viewing zone)의 크기를 제어하는 것을 특징으로 하는 스크린 장치
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