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탄소나노튜브가 함유된 지지체를 포함하는 역삼투 분리막 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2018009103
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  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 선택층 및 지지체을 포함하는 역삼투 분리막으로서, 상기 선택층은 폴리아미드이고, 상기 지지체는 폴리설폰 99 내지 99.99 중량% 및 탄소나노튜브 0.01 내지 1 중량%를 포함하는 것으로, 상기 탄소나노튜브가 폴리설폰 내부에 분산되어 삽입된 것을 특징으로 하는 역삼투 분리막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL B01D 69/10 (2006.01.01) B01D 61/02 (2006.01.01) B01D 61/10 (2006.01.01) B01D 67/00 (2006.01.01) C01B 32/168 (2017.01.01)
CPC B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01) B01D 69/10(2013.01)
출원번호/일자 1020160179303 (2016.12.26)
출원인 한국수자원공사, 현대건설주식회사, 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1958262-0000 (2019.03.08)
공개번호/일자 10-2018-0075215 (2018.07.04) 문서열기
공고번호/일자 (20190702) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.12.26)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국수자원공사 대한민국 대전광역시 대덕구
2 현대건설주식회사 대한민국 서울특별시 종로구
3 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박호범 서울특별시 성동구
2 이태훈 대전광역시 유성구
3 이희대 서울특별시 성동구
4 김종신 대전광역시 대덕구
5 박주영 대전광역시 서구
6 김상현 경기도 수원시 영통구
7 박미란 대전광역시 대덕구
8 김선규 경기도 하남시 미사

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국수자원공사 대전광역시 대덕구
2 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구
3 현대건설 주식회사 서울특별시 종로구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2016-1275036-94
2 보정요구서
Request for Amendment
2017.01.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0003389-32
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2017-0040329-22
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2017-0212936-61
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.01.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2018.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-5001644-14
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.02.23 수리 (Accepted) 9-1-2018-0007708-03
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0144527-53
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0422235-23
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2018-0529831-56
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0633572-98
12 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2018-0749213-54
13 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2018.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0119510-48
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0850925-91
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-0850926-36
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0810271-59
17 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2018-1232063-44
18 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.12.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-1305219-60
19 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2018-1305220-17
20 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0046422-26
21 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.06.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5017720-40
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
선택층; 및폴리설폰 및 탄소나노튜브를 함유하는 지지체;를 포함하는 역삼투 분리막에 있어서,상기 지지체는 표면에 카르보닐기가 선택적으로 생성되도록 개질된 0
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 지지체의 표면 거칠기(surface roughness)는 Ra가 12 내지 20 nm이고, Rq가 16 내지 30 nm이며, 상기 역삼투 분리막의 표면 거칠기는 Ra가 90 내지 150 nm이고, Rq가 110 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 역삼투 분리막
5 5
제1항에 있어서, 수투과도가 300 내지 1000 LMH/Bar이며, 염배제율이 2
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 평균 길이는 1~2㎛이고, 평균 직경은 6~9nm인 것을 특징으로 하는 역삼투 분리막
8 8
탄소나노튜브를 350 내지 430 ℃에서 2 내지 4 시간 동안 열처리하고, 480 내지 530 ℃에서 20분 내지 40분간 열처리한 뒤, 비활성기체를 주입하면서 25 내지 40℃로 냉각하여 탄소나노튜브를 산화시키는 제1 단계; 상기 산화시킨 탄소나노튜브를 40 내지 55 ℃의 황산/질산 혼합용액에 침지하여 2 내지 4시간 동안 처리하여 탄소나노튜브를 개질하는 제2 단계;유기용매에 폴리설폰 99 내지 99
9 9
제8항에 있어서,상기 제4 단계의 탄소나노튜브가 함유된 다공성 폴리설폰 막은 표면 기공도(surface porosity)가 2
10 10
제8항에 있어서,상기 제4 단계의 탄소나노튜브가 함유된 다공성 폴리설폰 막은 기공의 크기가 5 nm 내지 50 nm이며, 전체 기공도가 70 내지 80%인 것을 특징으로 하는 폴리아미드 역삼투 분리막 제조방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 제2 단계는 탄소나노튜브 표면에 카보닐기가 선택적으로 생성되도록 개질된 것임을 특징으로 하는 폴리아미드 역삼투 분리막 제조방법
12 12
제8항에 있어서, 수투과도가 300 내지 1000 LMH/Bar이며, 염배제율이 2
13 13
제8항에 있어서, 상기 제4 단계의 탄소나노튜브가 함유된 다공성 폴리설폰 막의 표면 거칠기(surface roughness)는 Ra가 12 내지 20 nm이고, Rq가 16 내지 30 nm이며, 상기 제5 단계의 역삼투 분리막의 표면 거칠기는 Ra가 90 내지 150 nm이고, Rq가 110 내지 200 nm인 것을 특징으로 하는 폴리아미드 역삼투 분리막 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 민간기업체 한국수자원공사 산업체 위탁연구비 / 산업체 위탁연구비 / 산업체 위탁연구비 혼합 CNT막 제조기술 개발 및 평가