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적층형 면방전 플라즈마 발생 소스

  • 기술번호 : KST2018009131
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 적층형 면방전 플라즈마 발생 소스가 개시된다. 상기 적층형 면방전 플라즈마 발생 소스는, 일정 면적을 갖는 베이스 전극; 상기 베이스 전극의 상면에 적층되어 있는 유전층; 및 상기 유전층 상면에 적층되어 있는 플로팅 전극모듈을 포함하고, 상기 플로팅 전극모듈은 둘 이상의 플로팅 전극 및 하나 이상의 유전체가 상기 유전층의 상면에서 상기 플로팅 전극을 시작으로 하여 교대로 적층되어 구성되고, 상기 베이스 전극 및 상기 플로팅 전극모듈에서 최상층에 위치한 플로팅 전극 사이에 고전압이 인가되고, 상기 고전압이 인가되면 상기 유전층 및 유전층과 접한 최하부 플로팅 전극으로부터 최상부 플로팅 전극 방향으로 플라즈마 발생 영역이 확대되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H05H 1/24 (2006.01.01)
CPC H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01) H05H 1/2406(2013.01)
출원번호/일자 1020160178849 (2016.12.26)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자 10-1952484-0000 (2019.02.20)
공개번호/일자 10-2018-0074997 (2018.07.04) 문서열기
공고번호/일자 (20190510) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.12.26)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전형원 대한민국 전라북도 군산시
2 유승민 대한민국 대전광역시 서구
3 엄상흠 대한민국 경기도 용인시 기흥구
4 김성봉 대한민국 전라북도 군산시
5 유석재 대한민국 세종특별자치시 도움*로 ***(

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2016-1271731-14
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.05.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0351980-12
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2018-0730967-16
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2018-0835690-59
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0954179-42
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2018-1052180-11
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.10.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-1052181-56
8 등록결정서
Decision to grant
2019.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0114881-98
9 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.04.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5012852-07
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
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번호 청구항
1 1
일정 면적을 갖는 베이스 전극;상기 베이스 전극의 상면에 적층되어 있는 유전층;상기 유전층 상면에서 적층되어 있는 플로팅 전극모듈을 포함하고,상기 플로팅 전극모듈은 상기 유전층 및 상기 베이스 전극의 단면의 폭보다 작은 폭을 갖는 플로팅 전극 및 하나 이상의 유전체가 상기 유전층의 상면에서 상기 플로팅 전극을 시작으로 하여 교대로 적층되어 구성되고,상기 베이스 전극 및 상기 플로팅 전극모듈에서 최상층에 위치한 플로팅 전극 사이에 고전압이 인가되고,상기 고전압이 인가되면 상기 유전층 및 유전층과 접한 최하부 플로팅 전극으로부터 최상부 플로팅 전극 방향으로 플라즈마 발생 영역이 확대되는 것을 특징으로 하는,적층형 면방전 플라즈마 발생 소스
2 2
제1항에 있어서,상기 플로팅 전극모듈은 둘 이상이 상기 유전층 상에 일정 패턴으로 분포하여 위치하는 것을 특징으로 하는,적층형 면방전 플라즈마 발생 소스
3 3
제2항에 있어서,상기 플로팅 전극모듈이 다수인 경우 각각의 플로팅 전극모듈은 상기 고전압이 전달되도록 서로 연결되는 것을 특징으로 하는,적층형 면방전 플라즈마 발생 소스
4 4
제1항에 있어서,상기 유전체는 세라믹이고, 상기 플로팅 전극은 스테인레스인 것을 특징으로 하는,적층형 면방전 플라즈마 발생 소스
5 5
제1항에 있어서,상기 플로팅 전극 및 유전체의 적층개수는,상기 플로팅 전극은 2n개이고, 유전체는 2n-1개이고, 상기 n은 1이상의 자연수인 것을 특징으로 하는,적층형 면방전 플라즈마 발생 소스
6 6
제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 소스는 살균을 요하는 피처리 대상의 살균, 농수산물 및 식품의 저장 및 유통을 위해 이용되는 것을 특징으로 하는,적층형 면방전 플라즈마 발생 소스
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1 WO2018124681 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2018124681 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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1 미래창조과학부 국가핵융합연구소 국가핵융합연구소 연구운영비지원사업 미래선도 플라즈마-농식품 융합기술개발 사업