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고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템 및 이를 이용한 정화방법

  • 기술번호 : KST2018009620
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템 및 이를 이용한 정화방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 비점오염원에서 발생하는 오염물질을 처리하기 위한 것으로서 오염수가 유입되어 1차 정화부재에 의해 침전물을 제거하는 침전조와, 친전조에 연결되어 오염수의 인을 제거하는 전여상조, 상기 전여상조에 연결되어 제3 정화부재에 의해 오염수를 정화하는 후여상조를 구비하여 체류시간을 단축시키고, 유량변동시에는 상기 침전수에 연결되는 유량반응조로 오염수가 유입되어 정화됨에 따라 유량변동에 대응하여 오염수를 적절하게 정화할 수 있는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템 및 이를 이용한 정화방법에 관한 것이다.
Int. CL C02F 9/00 (2006.01.01) C02F 1/52 (2006.01.01) B01D 21/00 (2006.01.01) C02F 1/28 (2006.01.01) B01D 24/00 (2006.01.01) C02F 1/24 (2006.01.01) C02F 3/10 (2006.01.01)
CPC C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01)
출원번호/일자 1020160183419 (2016.12.30)
출원인 서울시립대학교 산학협력단, 주식회사 한국종합기술
등록번호/일자 10-1941217-0000 (2019.01.16)
공개번호/일자 10-2018-0078557 (2018.07.10) 문서열기
공고번호/일자 (20190412) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.12.30)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울시립대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동대문구
2 주식회사 한국종합기술 대한민국 경기도 성남시 중원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김현욱 대한민국 서울특별시 송파구
2 이인규 대한민국 서울특별시 성북구
3 도중호 대한민국 서울특별시 송파구
4 김현곤 대한민국 경기도 용인시 수지구
5 이우현 대한민국 서울특별시 강서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정중원 대한민국 경기도 부천시 원미구 부천로 ***, 조강빌딩 *층 (춘의동)(모든국제특허법률사무소)
2 최지연 대한민국 경기도 부천시 원미구 부천로 ***, 조강빌딩 *층 모든국제특허법률사무소 (춘의동)
3 이명택 대한민국 경기도 부천시 원미구 부천로 ***, 조강빌딩 *층 (춘의동)(모든국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울시립대학교 산학협력단 서울특별시 동대문구
2 (주)한국종합기술 경기도 성남시 중원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-1295396-73
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.01.17 수리 (Accepted) 4-1-2017-5009116-18
3 선행기술조사의뢰 취소
Revocation of Request for Prior Art Search
2017.06.12 수리 (Accepted) 9-1-0000-0000000-00
4 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2017-0800059-15
5 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2017.08.22 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2017.08.28 수리 (Accepted) 9-1-2017-0028135-43
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.12.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0883763-65
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.02.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0158771-13
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2018-0158770-67
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.04.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0235680-32
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.04.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0415289-13
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2018-0415288-78
13 보정요구서
Request for Amendment
2018.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0065458-61
14 보정요구서
Request for Amendment
2018.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0066139-80
15 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0436046-73
16 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0436068-77
17 등록결정서
Decision to grant
2018.07.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0451707-98
18 [명세서등 보정]보정서(심사관 직권보정)
2019.04.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-5010146-34
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5191631-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
오염수가 유입 되는 제1 유입부가 구비되며, 상기 오염수의 침전물을 제거하는 제1 정화부재가 구비되는 침전조;상기 침전조에 연결되어 침전물이 제거된 오염수의 인을 제거하는 제2 정화부재가 구비되는 전여상조;상기 전여상조에 연결되어 유입된 오염수의 인, 유기물, 질소를 제거하는 제3 정화부재가 구비되어 오염수를 정화하여 배출하는 후여상조;상기 침전조에 연결되어, 오염수의 오염물질을 응집하는 응집반응조와 상기 응집반응조에서 배출된 오염수의 오염물질을 부상시키는 부상 침전조를 포함하여 오염수를 정화하여 배출하는 유량반응조;를 포함하여 이루어지되,상기 침전조에서 배출된 오염수는 전여상조 또는 유량반응조로 유입되고,상기 침전조의 제1 정화부재는 복수개의 제1 경사판으로 이루어지며,상기 유량 반응조의 응집반응조에는 복수개의 제2 경사판이 구비되고,상기 제1 경사판 또는 제2 경사판 또는 이들 모두에는 연결수단을 더 구비하고,상기 연결수단은 제1 분체와, 상기 제1 분체에 내삽되는 제2 분체로 이루어지고,상기 제1 분체에 가로방향으로 구비되는 관통공과, 상기 관통공에 삽입되어 관통공을 따라 가로방향으로 이동하는 이동부재와, 상기 제2 분체에 구비되어 상기 이동부재의 단부가 결합되는 이동공을 포함하여 이루어지는 길이조절수단;이 더 구비되되,상기 이동공은 경사부와 상기 경사부에 연장되는 수직부가 복수번 반복되도록 구비되되, 상기 경사부가 지그재그형상으로 이루어짐에 따라 상기 이동부재가 관통공을 따라 가로방향으로 이동하면, 상기 이동부재의 단부가 지그재그형상으로 이루어진 이동공을 따라 이동함으로서 상기 제2 분체가 상기 제1 분체로부터 인출되어 길이가 조정되는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템
2 2
제 1 항에 있어서,상기 전여상조의 제2 정화부재는슬래그 또는 패각 또는 이들 모두로 이루어지는 여재이고,상기 후여상조의 제3 정화부재는자갈층과, 상기 자갈층 상부에 구비되는 복수개의 세라믹으로 이루어진 세라믹층을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질정화 시스템
3 3
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4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
침전조에 유입된 오염수가 1차 정화되는 전처리단계;상기 전처리단계를 거친 오염수가 전여상조에 유입되어 2차 정화되는 제1 정화단계;상기 제1 정화단계를 거친 오염수가 후여상조에 유입되어 3차 정화되는 제2 정화단계;를 포함하여 이루어지고,상기 전처리단계의 침전조에는 복수개의 제1 경사판으로 이루어지는 제1 정화부재가 구비되며,상기 제1 경사판에는 연결수단을 더 구비하고,상기 연결수단은 제1 분체와, 상기 제1 분체에 내삽되는 제2 분체로 이루어지고,상기 제1 분체에 가로방향으로 구비되는 관통공과, 상기 관통공에 삽입되어 관통공을 따라 가로방향으로 이동하는 이동부재와, 상기 제2 분체에 구비되어 상기 이동부재의 단부가 결합되는 이동공을 포함하여 이루어지는 길이조절수단;이 더 구비되되,상기 이동공은 경사부와 상기 경사부에 연장되는 수직부가 복수번 반복되도록 구비되되, 상기 경사부가 지그재그형상으로 이루어짐에 따라 상기 이동부재가 관통공을 따라 가로방향으로 이동하면, 상기 이동부재의 단부가 지그재그형상으로 이루어진 이동공을 따라 이동함으로서 상기 제2 분체가 상기 제1 분체로부터 인출되어 길이가 조정되는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템의 정화방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 제1 정화단계의 전여상조에는 여재로 이루어지는 제2 정화부재가 구비되고,상기 제2 정화단계의 후여상조에는 자갈층과, 상기 자갈층 상부에 구비되는 세라믹층으로 이루어지는 제3 정화부재가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템의 정화방법
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
침전조에 유입된 오염수가 1차 정화되는 전처리단계;상기 전처리단계에서 정화된 오염수가 유량반응조에 유입되어 오염수를 정화하는 본처리단계;를 포함하여 이루어지되,상기 본처리단계의 응집반응조에는 복수개의 제2 경사판이 더 구비되고,상기 제2 경사판에는 연결수단을 더 구비하고,상기 연결수단은 제1 분체와, 상기 제1 분체에 내삽되는 제2 분체로 이루어지고,상기 제1 분체에 가로방향으로 구비되는 관통공과, 상기 관통공에 삽입되어 관통공을 따라 가로방향으로 이동하는 이동부재와, 상기 제2 분체에 구비되어 상기 이동부재의 단부가 결합되는 이동공을 포함하여 이루어지는 길이조절수단;이 더 구비되되,상기 이동공은 경사부와 상기 경사부에 연장되는 수직부가 복수번 반복되도록 구비되되, 상기 경사부가 지그재그형상으로 이루어짐에 따라 상기 이동부재가 관통공을 따라 가로방향으로 이동하면, 상기 이동부재의 단부가 지그재그형상으로 이루어진 이동공을 따라 이동함으로서 상기 제2 분체가 상기 제1 분체로부터 인출되어 길이가 조정되는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템의 정화방법
11 11
제 10 항에 있어서,상기 본처리단계의 유량반응조는상기 전처리단계의 침전조에 연결되어, 오염수의 오염물질을 응집하는 응집반응조와 상기 응집반응조에서 배출된 오염수의 오염물질을 부상시키는 부상 침전조를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템의 정화방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 본처리단계의 부상침전조에는 기포를 생성하여 오염물에 흡착시켜 플록을 형성하는 기포생성부재가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템의 정화방법
13 13
제 12 항에 있어서,상기 부상침전조의 기포생성부재는 10 ~ 60 ㎛의 기포를 생성하는 것을 특징으로 하는 고농도 입자성 물질 및 인 제거를 위한 수질 정화시스템 및 이를 이용한 정화방법
14 14
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15 15
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1 환경부 (주)한국종합기술 조류감시 및 제거활용기술개발 실증화 강우유출수 중 TP, SS 제거를 위한 Engineered Aqua Depuration System(EADS) 개발 및 실증화