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냉각 소자;상기 냉각 소자의 일측 상의 리세스 영역을 포함하는 하부 클래드를 갖고, 상기 냉각 소자의 타측으로 연결되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드; 및상기 냉각 소자와 상기 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드 사이의 에어 갭을 포함하되,상기 에어 갭은 상기 리세스 영역 내의 상기 하부 클래드의 하부 면과 상기 냉각 소자의 상부 면으로 정의되는 광학 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드는:상기 하부 클래드의 일측 상의 패시브 도파로와, 상기 하부 클래드의 타측 상의 액티브 도파로를 포함하는 도파로;상기 도파로 상에 배치된 상부 클래드;상기 액티브 도파로의 상기 상부 클래드 상에 배치된 제 1 상부 전극; 및상기 패시브 도파로의 상기 상부 클래드 상에 배치된 제 2 상부 전극을 더 포함하되,상기 리세스 영역은 상기 제 2 상부 전극 아래에 배치된 광학 장치
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제 2 항에 있어서, 상기 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드는 상기 제 2 상부 전극 아래의 상기 하부 클래드 내에 배치된 격자들을 더 포함하되,상기 격자들은 상기 리세스 영역 내의 상기 하부 클래드의 하부 면으로부터 5㎛이상의 깊이 내에 배치된 광학 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 장치는, 상기 하부 클래드와 상기 냉각 소자의 타측 사이의 범프들을 더 포함하되, 상기 냉각 소자는:열전대; 및상기 열전대와 상기 범프들 사이에 배치되는 상의 금속 광학 벤치를 포함하는 광학 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 장치는, 상기 하부 클래드와 상기 냉각 소자의 타측 사이의 범프들을 더 포함하되, 상기 냉각 소자는:열전대;상기 열전대와 상기 범프들 사이에 형성된 마운트 블록; 및상기 마운트 블록과 상기 범프들 사이에 형성되고, 접지된 금속 패턴을 포함하는 광학 장치
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하부 클래드 내에 격자들을 형성하는 단계;상기 격자들 상의 패시브 도파로, 및 상기 패시브 도파로와 연결되는 액티브 도파로를 포함하는 도파로를 형성하는 단계;상기 도파로 상에 상부 클래드를 형성하는 단계;상기 상부 클래드 상에 복수개의 상부 전극들을 형성하는 단계;상기 하부 클래드 아래에 하부 전극 층을 형성하는 단계; 및상기 격자들 아래의 상기 하부 전극 층의 일부와 상기 하부 클래드의 일부를 식각하여 하부 전극과 리세스 영역을 형성하는 단계를 포함하는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상기 하부 클래드의 두께가 100㎛일 때, 상기 하부 클래드는 80㎛이하로 식각되되,상기 격자들은 상기 리세스 영역 내의 상기 하부 클래드의 하부 면으로부터 5㎛이상의 깊이 내에 형성되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조 방법
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제 6 항에 있어서, 상부 전극들 중 하나와 상기 상부 클래드 사이에 절연 층을 형성하는 단계를 더 포함하되,상기 절연 층이 100nm의 두께를 가질 때, 상기 리세스 영역은 45㎛의 깊이로 형성되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 하부 클래드는 상기 격자들의 하부 면과 상기 리세스 영역 내의 상기 하부 클래드의 하부 면 사이에 3마이크로 이상의 두께를 갖도록 식각되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 리세스 영역은 트렌치들을 포함하되,상기 트렌치들은 라인 모양으로 형성되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 리세스 영역은 홀들을 포함하되,상기 홀들은 벌집 모양으로 배열되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 상부 전극들은:상기 액티브 도파로 상에 형성된 제 1 상부 전극;상기 1 상부 전극에 인접하고 상기 패시브 도파로 상에 형성된 제 2 상부 전극; 및상기 제 2 상부 전극에 인접하고, 상기 패시브 도파로 상에 형성된 제 3 상부 전극을 포함하되,상기 제 3 상부 전극은 상기 패시브 도파로를 가열하는 히터 전극으로 사용되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 12 항에 있어서,상기 상부 클래드와 상기 1 및 제 2 상부 전극들 사이에 형성된 제 1 및 제 2 오믹 콘택 층들을 형성하는 단계를 더 포함하는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 내지 제 3 상부 전극들 상에 제 1 및 제 3 패드들을 형성하는 단계를 더 포함하되,상기 제 1 및 제 2 오믹 콘택 층, 상기 제 1 및 제 2 상부 전극들, 및 상기 제 1 및 제 2 패드들은 티타늄/백금/금의 적층 구조로 형성되는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 제 3 상부 전극과 상기 제 3 패드는 크롬과 금을 각각 포함하는 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 제조방법
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분포 브라그 반사형 레이저 다이오드를 형성하는 단계;상기 분포 브라그 반사형 레이저 다이오드의 아래에 범프들을 형성하는 단계; 및상기 범프들에 냉각 소자를 접합하는 단계를 포함하되,상기 분파 반사형 파장가변 광원의 제조 방법은, 하부 클래드 내에 격자들을 형성하는 단계;상기 격자들 상의 패시브 도파로, 및 상기 패시브 도파로와 연결되는 액티브 도파로를 포함하는 도파로를 형성하는 단계;상기 도파로 상에 상부 클래드를 형성하는 단계;상기 상부 클래드 상에 복수개의 상부 전극들을 형성하는 단계;상기 하부 클래드 아래에 하부 전극 층을 형성하는 단계; 및상기 격자들 아래의 상기 하부 전극 층의 일부와 상기 하부 클래드의 일부를 식각하여 하부 전극과 리세스 영역을 형성하는 단계를 포함하는 광학 장치의 제조방법
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제 16 항에 있어서,상기 패시브 도파로 아래의 상기 하부 클래드와 상기 냉각 소자는 에어 갭을 형성하되,상기 에어 갭은 상기 리세스 영역 내의 상기 하부 클래드의 하부 면의 깊이보다 크게 형성된 광학 장치의 제조 방법
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제 16 항에 있어서,상기 냉각 소자는:열전대; 및상기 열전대와 상기 범프들 사이에 형성된 상의 금속 광학 벤치를 포함하는 광학 장치의 제조방법
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제 16 항에 있어서,상기 냉각 소자는:열전대;상기 열전대와 상기 범프들 사이에 형성된 마운트 블록; 및상기 마운트 블록과 상기 범프들 사이에 형성되고, 접지된 금속 패턴을 포함하는 광학 장치의 제조 방법
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제 19 항에 있어서,상기 마운트 블록은 세라믹을 포함하는 광학 장치의 제조방법
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