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항공기에 적용되는 모핑 부재에 있어서,상부 SMP 스킨층;상기 상부 SMP 스킨층의 하측에 배치되는 하부 SMP 스킨층; 및상기 모핑 부재의 길이 방향과 폭 방향을 따라 키리가미 패턴 구조가 배열되고, 상기 상부 SMP 스킨층과 상기 하부 SMP 스킨층 사이에 개재되는 코어를 포함하되,상기 상부 SMP 스킨층 및 상기 하부 SMP 스킨층은, 미리 설정된 온도를 기준으로 고온인 제1 상태에서 초기 형상으로 복원되려는 복원력 및 상기 복원력과 조합되는 외력에 대응하는 변형 자유도를 가지고,상기 미리 설정된 온도를 기준으로 저온인 제2 상태에서는, 상기 제2 상태로 변환되기 전의 상기 제1 상태에서의 상기 상부 SMP 스킨층 및 상기 하부 SMP 스킨층의 형상이 유지되고,상기 키리가미 패턴 구조는, 폭 방향을 따라 산과 골이 교번하여 형성되는 형태로 복수 회 절곡되며 연장되는 키리가미 패턴 열을 복수개 포함하고,복수개의 상기 키리가미 패턴 열 중 하나는, 그의 산 부분이 길이 방향 중 일 방향으로 이웃하는 키리가미 패턴 열의 산 부분과 힌지 결합되고, 그의 골 부분이 길이 방향 중 타 방향으로 이웃하는 키리가미 패턴 열의 골 부분과 힌지 결합되는 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 있어서,상기 상부 SMP 스킨층, 상기 코어, 및 상기 하부 SMP 스킨층은 일체화된 샌드위치 구조를 형성하는 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 있어서,상기 제2 상태에서, 상기 모핑 부재에는 상기 상부 SMP 스킨층 및 상기 하부 SMP 스킨층과 키리가미 패턴 구조가 조합되어 형성되는 굽힘 강성이 제공되는 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 있어서,상기 키리가미 패턴 구조는, 굽힘 변형, 길이 방향 변형 및 폭 방향 변형에 대한 자유도를 갖는 구조인 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 있어서,상기 제1 상태에서 상기 키리가미 패턴 구조에 의하면,상기 모핑 부재가 폭 방향의 변형 없이 길이 방향의 인장 변형만 이루어지는 zero-poisson's ratio 및 상기 모핑 부재가 폭 방향의 인장 변형 및 길이 방향의 인장 변형이 동시에 이루어지는 negative-poisson's ratio의 구현이 가능한 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 있어서,상기 상부 SMP 스킨층 및 상기 하부 SMP 스킨층의 온도를 증가 또는 감소시키도록 설치되는 전도체를 더 포함하는, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제7항에 있어서,상기 전도체는 상기 상부 SMP 스킨층의 내면 또는 내부 및 상기 하부 SMP 스킨층의 내면 또는 내부에 배치되는 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 있어서,상기 상부 SMP 스킨층 및 상기 하부 SMP 스킨층의 온도를 증가 또는 감소시키도록 상기 상부 SMP 스킨층 및 상기 하부 SMP 스킨층 주변에 기체를 대류시키는 대류 장치를 더 포함하고,상기 대류 장치는 상기 기체의 온도를 상기 제1 상태 및 상기 제2 상태에 대응하여 조절 가능한 것인, 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재
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제1항에 따른 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재를 포함하는 모핑 날개
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제1항에 따른 키리가미 패턴을 이용한 형상기억 모핑 부재를 포함하는 항공기의 스킨
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