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하기 화학식 1로 표시되는 디스코틱(discotic) 액정 화합물을 포함하는 방열용 조성물을 도포하여 제조되며, 열전도도가 1
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제1항에 있어서,R1은 이고,M1 및 M2는 독립적으로 CH2, O, S 또는 NH이고,M3은 -H, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시이고,A는 -H, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 비치환 또는 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,상기 치환된 C3-7의 사이클로알킬은 할로겐, -NO2, -CN, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 및 C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환기가 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,n은 0-10의 정수이고,R2 내지 R6는 독립적으로 이고,B1은 C1-10의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-10의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 이고,B2는 -H, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시이고,Q1 및 Q2는 독립적으로 CH2, O, S 또는 NH이고,D는 -H, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 비치환 또는 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,상기 치환된 C3-7의 사이클로알킬은 할로겐, -NO2, -CN, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 및 C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환기가 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,r은 0-10의 정수인 것을 특징으로 하는 방열필름
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제1항에 있어서,R1은 이고,R2 내지 R6는 독립적으로 또는 인 것을 특징으로 하는 방열필름
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삭제
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제1항에 있어서,상기 방열필름은 화학식 1로 표시되는 디스코틱(discotic) 액정 화합물을 포함하는 방열용 조성물이 화합물의 평면방향으로 배향된 것을 특징으로 하는 방열필름
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제1항에 있어서,상기 방열필름은 화학식 1로 표시되는 디스코틱(discotic) 액정 화합물의 평면방향으로 열전도도를 갖는 것을 특징으로 하는 방열필름
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하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 광개시제를 혼합하고 건조하여 조립셀을 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 조립셀을 어닐링(annealing)한 후 감온하여 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 수평배향으로 정렬하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 제조된 조립셀에 광선을 조사하여 광가교 반응을 진행시키는 단계(단계 3)를 포함하는 방열필름의 제조방법:[화학식 1](상기 화학식 1에서,R1은 이고,M1 및 M2는 독립적으로 CH2, O, S 또는 NH이고,M3은 -H, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시이고,A는 -H, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 비치환 또는 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,상기 치환된 C3-7의 사이클로알킬은 할로겐, -NO2, -CN, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 및 C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환기가 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,n은 0-20의 정수이고,R2 내지 R6는 독립적으로 이고,B1은 C1-20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-20의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 이고,B2는 -H, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시이고,Q1 및 Q2는 독립적으로 CH2, O, S 또는 NH이고,D는 -H, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬, C1-5의 직쇄 또는 분지쇄의 알콕시 또는 비치환 또는 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,상기 치환된 C3-7의 사이클로알킬은 할로겐, -NO2, -CN, C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 및 C1-3의 직쇄 또는 분지쇄 알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환기가 치환된 C3-7의 사이클로알킬이고,r은 0-20의 정수이다)
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제8항에 있어서,상기 광선은 감마선, 전자선, 엑스선 및 자외선으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 방열필름의 제조방법
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제1항의 방열필름을 포함하는 전자기소자
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