| 1 |
1
그래핀층이 기판의 상부 및 하부 전면에 각각 형성된 기판을 포함하는 그래핀 박막 제조용 몰드의 그래핀층 상에 금속 촉매를 증착시켜 상기 그래핀 박막 제조용 몰드 상면 및 하면 상에 금속 촉매층을 형성하는 단계;상기 금속 촉매층이 형성된 그래핀 박막 제조용 몰드를 화학 기상 증착(Chemical vapor deposition, CVD) 챔버에 삽입한 후 CVD 공정을 수행하여, 상기 그래핀 박막 제조용 몰드 상면 및 하면 상에 형성된 금속 촉매층의 표면 상에 그래핀 박막을 각각 형성하는 단계; 상기 그래핀 박막이 형성된 금속 촉매층을 그래핀 박막 제조용 몰드로부터 박리하는 단계; 및상기 그래핀 박막이 형성된 금속 촉매층으로부터 금속 촉매층을 제거하는 단계; 를 포함하며,상기 그래핀 박막의 제조 방법을 통해 그래핀 박막 제조용 몰드 당 2개 이상의 그래핀 박막이 제조되는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 그래핀 박막 제조용 몰드의 상기 기판은 금속 호일이고,상기 금속 호일은 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 스테인리스강, 알루미늄(Al), 게르마늄(Ge) 및 크롬(Cr)으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 기판의 상부 및 하부 전면에 상기 그래핀층이 코팅된 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 금속 촉매층을 형성하는 단계는 무전해 혹은 전해 도금 공정을 통해 수행되는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 금속 촉매층은 구리, 니켈, 은 및 금으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상을 포함하는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 금속 촉매층은 10㎛ 내지 1mm의 두께를 갖는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 CVD 공정은 상기 금속 촉매층이 존재하는 CVD챔버 내에 기상의 탄소 공급원을 투입한 후, 이를 300 내지 2,000에서 열처리하는 것을 포함하는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 CVD 공정 수행시 외부에 노출된 상기 금속 촉매층의 일면에만 그래핀 박막이 형성되는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 그래핀 박막이 형성된 금속 촉매층을 그래핀 박막 제조용 몰드로부터 박리할 때 상기 그래핀 박막 및 금속 촉매층 모두 상기 그래핀 박막 제조용 몰드로부터 박리되고,상기 그래핀 박막이 형성된 금속 촉매층을 박리하는 것은 핀셋 혹은 접착제를 통해 박리하는 것인 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 그래핀 박막 하부의 금속 촉매층을 상기 그래핀 박막으로부터 제거하는 단계는,상기 그래핀 박막 상에 고분자 보호층을 형성하는 단계;상기 금속 촉매층을 금속 용해제를 통해 제거하는 단계; 및상기 그래핀 박막 상에 형성된 고분자 보호층을 제거하는 단계; 를 포함하는 그래핀 박막의 제조 방법
|
| 11 |
11
삭제
|
| 12 |
12
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 그래핀 박막의 제조 방법에 따라 제조된 그래핀 박막
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 그래핀 박막은 0
|
| 14 |
14
제12항에 있어서,상기 그래핀 박막은 0
|
