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다음 단계를 포함하는 T1 조영제로서의 나노입자의 분산 안정도를 증가시키는 방법: (a) 입자화(particlization) 하는 경우 표면에 친수성 화학작용기를 노출시킬 수 있는 지지체 물질을 선택하는 단계;(b) 상기 지지체 물질을 이용하여 지지체 입자(support particles)를 제조하는 단계; 상기 지지체 입자의 표면은 친수성 화학작용기가 노출되어 있고 상기 지지체 입자의 수화(hydrodynamic) 지름은 1-20 nm이며; 및(c) 상기 지지체 입자 상에 T1 조영물질을 코팅하여 조영제로서의 나노입자를 제조하는 단계; 상기 T1 조영물질의 코팅은 상기 지지체 입자 표면의 친수성 작용기 및 상기 조영물질 사이의 결합에 의해 이루어지며; 상기 T1 조영물질의 코팅은 상기 지지체의 표면에 대하여 부분적인 코팅이며; 상기 지지체 입자 상의 친수성의 작용기 중 일부는 지지체 표면에 여전히 노출되어 있으며; 상기 나노입자의 수화 지름은 2-30 nm이다
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제 1 항에 있어서, 상기 지지체 물질은 친수성 화학작용기를 포함하는 유기중합체, 실리카 또는 금(Au)인 것을 특징으로 하는 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 유기중합체는 다당류(polysaccharide)인 것을 특징으로 하는 방법
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제 3 항에 있어서, 상기 다당류는 덱스트란(dextran)인 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 지지체 상에 T1 조영물질을 코팅하는 것은 화학결합을 통해 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 지지체 입자의 수화 지름은 1-15 nm, 1-10 nm, 1-8 nm, 1-5 nm, 1-4 nm, 2-15 nm, 2-10 nm, 2-8 nm, 2-5 nm, 2-4 nm, 3-15 nm, 3-10 nm, 3-8 nm, 3-5 nm, 3-4 nm, 4-15 nm, 4-10 nm, 4-8 nm, 4-7 nm 또는 4-5 nm인 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 조영제로서의 나노입자의 수화 지름은 2-25 nm, 2-20 nm, 2-15 nm, 2-10 nm, 2-8 nm, 2-6 nm, 2-5 nm, 3-25 nm, 3-20 nm, 3-15 nm, 3-10 nm, 3-8 nm, 3-6 nm, 3-5 nm, 4-25 nm, 4-20 nm, 4-15 nm, 4-10 nm, 4-8 nm, 4-7 nm 또는 4-6 nm인 것을 특징으로 하는 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 단계 (b)는 상기 유기중합체와 친수성 화학작용기를 갖는 가교제를 반응시켜 유기중합체를 교차결합시켜 실시하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계 (b)에서 지지체 입자의 표면에 노출되는 친수성 화학작용기는 지지체 물질 자체로부터 유래된 것을 특징으로 하는 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 단계 (b)에서 지지체 입자의 표면에 노출되는 친수성 화학작용기는 가교제로부터 유래된 것을 특징으로 하는 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 친수성 화학작용기를 갖는 가교제는 아민기를 갖는 가교제인 것을 특징으로 하는 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 지지체 입자는 표면에 아민기가 노출되어 있으며 상기 단계 (b)는 상기 아민기를 카르복실기로 대체하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 T1 조영물질은 철산화물(iron oxide)인 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계 (c)에서 상기 지지체 입자 100 중량에 대하여 상기 T1 조영물질의 사용량은 0
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제 1 항에 있어서, 상기 T1 조영물질은 지지체 입자 표면에 있는 친수성 작용기의 14-70%, 14-60%, 14-50%, 14-45%, 15-70%, 15-60%, 15-50%, 15-45%, 16-70%, 16-60%, 16-50% 또는 16-45%에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 T1 조영제로서의 나노입자는 수용액에서 125-500 mM NaCl 농도 변화에 대하여 수화 지름의 변화가 ±10% 이하이고, pH 6-8 변화에 대하여 수화 지름의 변화가 ±10% 이하이며, 4-37℃ 온도 변화에 대하여 수화 지름의 변화가 ±10% 이하인 분산 안정성을 갖는 것을 특징으로 하는 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 T1 조영제로서의 나노입자는 1 mM 농도(금속기준)에서 2
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(a) 지지체 입자 및 (b) 상기 지지체 입자 상에 코팅된 T1 조영물질을을 포함하는 T1 조영제 나노입자에 있어서, 상기 지지체 입자의 표면은 친수성 작용기가 노출되어 있고 상기 지지체 입자의 수화(hydrodynamic) 지름은 1-20 nm이며, 상기 T1 조영물질은 상기 지지체 입자 표면의 친수성 작용기에 결합되어 있고, 상기 T1 조영물질은 상기 지지체 표면에 있는 일부 친수성 작용기에 결합되어 있으며; 상기 지지체 입자 상의 친수성 작용기 중 일부는 지지체 표면에 여전히 노출되어 있으며; 상기 나노입자의 수화 지름은 2-30 nm인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 지지체 물질은 친수성 화학작용기를 포함하는 유기중합체, 실리카 또는 금(Au)인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 19 항에 있어서, 상기 유기중합체는 다당류(polysaccharide)인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 20 항에 있어서, 상기 다당류는 덱스트란(dextran)인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 T1 조영물질은 지지체 상에 화학결합을 통해 코팅되어 있는 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 지지체 입자의 수화 지름은 1-15 nm, 1-10 nm, 1-8 nm, 1-5 nm, 1-4 nm, 2-15 nm, 2-10 nm, 2-8 nm, 2-5 nm, 2-4 nm, 3-15 nm, 3-10 nm, 3-8 nm, 3-5 nm, 3-4 nm, 4-15 nm, 4-10 nm, 4-8 nm, 4-7 nm 또는 4-5 nm인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 조영제로서의 나노입자의 수화 지름은 2-25 nm, 2-20 nm, 2-15 nm, 2-10 nm, 2-8 nm, 2-6 nm, 2-5 nm, 3-25 nm, 3-20 nm, 3-15 nm, 3-10 nm, 3-8 nm, 3-6 nm, 3-5 nm, 4-25 nm, 4-20 nm, 4-15 nm, 4-10 nm, 4-8 nm, 4-7 nm 또는 4-6 nm인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 19 항에 있어서, 상기 유기중합체는 친수성 화학작용기를 갖는 가교제에 의해 교차결합된 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 지지체 입자의 표면에 노출된 친수성 화학작용기는 지지체 물질 자체로부터 유래된 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 25 항에 있어서, 상기지지체 입자의 표면에 노출된 친수성 화학작용기는 가교제로부터 유래된 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 25 항에 있어서, 상기 친수성 화학작용기를 갖는 가교제는 아민기를 갖는 가교제인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 28 항에 있어서, 상기 지지체 입자는 표면에 아민기가 노출되어 있으며 상기 노출된 아민기는 카르복실기로 대체된 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 T1 조영물질은 철산화물(iron oxide)인 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 T1 조영물질은 지지체 입자 표면에 있는 친수성 작용기의 14-70%, 14-60%, 14-50%, 14-45%, 15-70%, 15-60%, 15-50%, 15-45%, 16-70%, 16-60%, 16-50% 또는 16-45%에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 T1 조영제로서의 나노입자는 수용액에서 125-500 mM NaCl 농도 변화에 대하여 수화 지름의 변화가 ±10이고, pH 6-8 변화에 대하여 수화 지름의 변화가 ±10이며, 4-37℃ 온도 변화에 대하여 수화 지름의 변화가 ±10인 분산 안정성을 갖는 것을 특징으로 하는 T1 조영제 나노입자
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제 18 항에 있어서, 상기 T1 조영제로서의 나노입자는 1 mM 농도(금속기준)에서 2
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