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전자빔을 방출하는 전자총 및 상기 전자빔이 입사되어 가속되는 가속관을 포함하는 선형 가속기로서, 상기 가속관은, 상기 전자빔의 진행 방향의 에너지 스프레드를 감소시키고 상기 전자빔의 단면을 확산시키는 하나 이상의 번칭 셀; 및상기 전자빔의 진행 방향의 에너지 스프레드를 증가시키고 상기 전자빔의 단면을 집속시키는 하나 이상의 디-번칭 셀을 포함하고, 상기 번칭 셀 및 상기 디-번칭 셀은 교번하여 배치되어 상기 전자빔에 대한 집속을 수행하는, 선형 가속기
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제 1 항에 있어서, 상기 번칭 셀은 상기 전자빔의 입자들 중 선행하는 입자에, 상기 전자빔의 입자들 중 후행하는 입자에 가해지는 전기장보다 낮은 전기장을 가하도록 구성되는, 선형 가속기
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제 2 항에 있어서, 상기 디-번칭 셀은 상기 전자빔의 입자들 중 선행하는 입자에, 상기 전자빔의 입자들 중 후행하는 입자에 가해지는 전기장보다 높은 전기장을 가하도록 구성되는, 선형 가속기
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제 2 항에 있어서, 상기 번칭 셀은 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 상기 전기장의 산마루 (crest) - 여기서, 상기 산마루의 위상은 0 임 - 에 선행하는 음의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 구성되는, 선형 가속기
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제 3 항에 있어서, 상기 디-번칭 셀은 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 상기 전기장의 산마루 - 여기서, 상기 산마루의 위상은 0 임 - 에 후속하는 양의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 구성되는, 선형 가속기
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제 2 항에 있어서, 상기 번칭 셀은 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 0 의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 하는 기준 길이보다 짧은 빔 진행 방향 길이를 가지는, 선형 가속기
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제 3 항에 있어서, 상기 디-번칭 셀은 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 0 의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 하는 기준 길이보다 긴 빔 진행 방향 길이를 가지는, 선형 가속기
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제 1 항에 있어서, 상기 번칭 셀은 상기 디-번칭 셀보다 1 개 더 구비되는, 선형 가속기
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위상 집속 효과를 기반으로 전자빔을 생성하는 방법으로서, 전자총에서 방출된 전자빔을 가속관으로 입사시키는 단계;상기 가속관 내에서, 상기 전자빔의 진행 방향의 에너지 스프레드를 감소시키고 상기 전자빔의 단면을 확산시키는 번칭 단계; 및상기 가속관 내에서, 상기 전자빔의 진행 방향의 에너지 스프레드를 증가시키고 상기 전자빔의 단면을 집속시키는 디-번칭 단계를 포함하고, 상기 번칭 단계 및 상기 디-번칭 단계는 교번하여 반복되어 상기 전자빔에 대한 집속을 수행하는, 전자빔 생성 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 번칭 단계는 상기 전자빔의 입자들 중 선행하는 입자에, 상기 전자빔의 입자들 중 후행하는 입자에 가해지는 전기장보다 낮은 전기장을 가하는, 전자빔 생성 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 디-번칭 단계는 상기 전자빔의 입자들 중 선행하는 입자에, 상기 전자빔의 입자들 중 후행하는 입자에 가해지는 전기장보다 높은 전기장을 가하는, 전자빔 생성 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 번칭 단계는 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 상기 전기장의 산마루 (crest) - 여기서, 상기 산마루의 위상은 0 임 - 에 선행하는 음의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 하는, 전자빔 생성 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 디-번칭 단계는 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 상기 전기장의 산마루 - 여기서, 상기 산마루의 위상은 0 임 - 에 후속하는 양의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 하는, 전자빔 생성 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 번칭 단계는, 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 0 의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 하는 기준 길이보다 짧은 빔 진행 방향 길이를 가지는 번칭 셀에 의해 수행되는, 전자빔 생성 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 디-번칭 단계는, 상기 전자빔의 위상을 대표하는 입자가 0 의 빔 위상 (beam phase) 을 가지도록 하는 기준 길이보다 긴 빔 진행 방향 길이를 가지는 디-번칭 셀에 의해 수행되는, 전자빔 생성 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 번칭 단계는 상기 디-번칭 단계보다 1 회 더 수행되는, 전자빔 생성 방법
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