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포토레지스트 용액 중 겔입자를 제거하는 멤브레인, 이의 제조방법 및 이의 용도

  • 기술번호 : KST2018011136
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토레지스트 용액 중 겔입자를 제거하는 멤브레인의 제조방법 및 상기 멤브레인의 사용방법에 관한 것으로, 상기 제조방법은 평균 기공 크기가 0.01 ㎛ 이상인 다공성 고분자 지지체를 준비하는 제1단계; 상기 다공성 고분자 지지체를, 겔입자를 흡착하는 작용기를 구비한 방향족 폴리아미드 함유 용액 내에서 함침시키는 제2단계; 및 상기 방향족 폴리아미드 함유 용액이 함침된 지지체를 비용매에 침지시켜 상기 방향족 폴리아미드를 고형화하여 상기 지지체의 표면에 존재하는 기공을 채워, 평균 기공 크기가 0.005 내지 0.1 ㎛ 인 범위 내에서 상기 다공성 고분자 지지체보다 작은 크기의 기공을 갖는 멤브레인을 제조하는 제3단계;를 포함한다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) G03F 1/62 (2012.01.01)
CPC H01L 21/027(2013.01) H01L 21/027(2013.01) H01L 21/027(2013.01) H01L 21/027(2013.01) H01L 21/027(2013.01)
출원번호/일자 1020170015743 (2017.02.03)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0090638 (2018.08.13) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.02.03)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김인철 대한민국 대전광역시 유성구
2 안은숙 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2017-0118074-36
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2018.01.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2018.03.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0039984-32
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2018.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0187610-97
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2018-0500321-60
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2018.05.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0500322-16
9 등록결정서
Decision to grant		 2018.09.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0630853-44
10 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2018.11.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-1155688-29
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
포토레지스트 용액 중 겔입자를 제거하는 멤브레인의 제조방법으로서,평균 기공 크기가 0
2 2
제1항에 있어서,상기 겔입자는 포토레지스트 용액 중의 금속 입자와 포토레지스트 고분자 간의 반응에 의해 발생하는 불순물인 것인 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 다공성 고분자 지지체는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 나일론, 테플론 고분자, 폴리에스테르 또는 이의 조합으로 이루어진 것인 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 방향족 폴리아미드 함유 용액에서 방향족 폴리아미드의 함량은 5 내지 35중량% 인 것인 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 제3단계의 비용매는 물 또는 에탄올인 것인 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 작용기는 아미드기인 것인 방법
7 7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따라 제조된 포토레지스트 용액 중 겔입자 제거용 멤브레인으로서, 평균 기공 크기가 0
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
제7항에 기재된 멤브레인을 사용하여 포토레지스트 용액 중 겔입자 제거하는 단계를 포함하는, 불순물이 제거된 포토레지스트 용액의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국화학연구원 산업핵심기술개발사업 초극성 복합 멤브레인 제조 기술