[KST2019034758][포항공과대학교 산학협력단] |
저항변화메모리 소자의 전기화학 분석 방법 |
새창보기
|
[KST2019018548][포항공과대학교 산학협력단] |
3차원 수직 교차점 구조의 다층 시냅스 가중치 소자 및 그 제조 방법 |
새창보기
|
[KST2019020891][포항공과대학교 산학협력단] |
스위치 역할을 하는 선택소자가 포함된 저항변화 메모리 |
새창보기
|
[KST2019034692][포항공과대학교 산학협력단] |
수직 크로스-포인트 가중치 소자 및 이의 동작방법 |
새창보기
|
[KST2022011569][포항공과대학교 산학협력단] |
칼코게나이드 박막의 형성방법, 상기 칼코게나이드 박막을 포함하는 반도체 소자 |
새창보기
|
[KST2022022420][포항공과대학교 산학협력단] |
신경망 소자 및 이를 구성하는 단위 시냅스 소자 |
새창보기
|
[KST2018011671][포항공과대학교 산학협력단] |
저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조방법 |
새창보기
|
[KST2022016301][포항공과대학교 산학협력단] |
3단자 시냅스 소자 및 이를 이용한 최대 컨덕턴스 제한 방법 |
새창보기
|
[KST2022018438][포항공과대학교 산학협력단] |
할라이드 페로브스카이트를 포함하는 저항 스위칭 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
새창보기
|
[KST2017008982][포항공과대학교 산학협력단] |
저항 변화 메모리 소자 및 그 제조방법(ReRAM and manufacture method thereof) |
새창보기
|
[KST2018006961][포항공과대학교 산학협력단] |
칼코지나이드 화합물 선택소자를 포함하는 메모리 소자(MEMORY DEVICE HAVING CHALCOGENIDE COMPOSITE SELECTION DEVICE) |
새창보기
|
[KST2019034750][포항공과대학교 산학협력단] |
펄스화된 레이저를 이용한 NbOx 선택소자의 제조 방법 및 이를 통해 제조된 선택소자 |
새창보기
|
[KST2022011563][포항공과대학교 산학협력단] |
이온화 가능한 금속 이온이 도핑된 CBRAM 기반의 선택 소자 및 이의 제조 방법 |
새창보기
|
[KST2022011507][포항공과대학교 산학협력단] |
다중층 선택 소자 및 그 제조 방법 |
새창보기
|
[KST2017013398][포항공과대학교 산학협력단] |
이중 저항변화층을 갖는 저항변화 메모리 및 이의 제조방법(Resistive memory device having a multi-resistive switching layer and manufacturing method thereof) |
새창보기
|
[KST2019034636][포항공과대학교 산학협력단] |
대면적 금속 칼코겐 박막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 금속 칼코겐 박막을 포함하는 전자소자의 제조방법 |
새창보기
|
[KST2022018443][포항공과대학교 산학협력단] |
3단자 시냅스 소자를 이용한 뉴로모픽 시스템 |
새창보기
|
[KST2022011506][포항공과대학교 산학협력단] |
다중층 선택 소자 및 그 제조 방법 |
새창보기
|
[KST2018006960][포항공과대학교 산학협력단] |
가파른 기울기의 저항변화를 갖는 원자기반 스위칭 소자 및 이를 포함하는 원자기반 전계효과 트랜지스터(Atom-based Switching Device having Steep-slope resistance Change and Atom-based Field-effect-transistor having the same) |
새창보기
|
[KST2018002039][포항공과대학교 산학협력단] |
고분자 초박막, 및 이의 제조방법(Ultrathin polymer, and method for preparing the same) |
새창보기
|
[KST2019034562][포항공과대학교 산학협력단] |
가파른 문턱 전압 이하 기울기를 가지는 문턱 스위칭 소자 및 이를 포함하는 금속 산화물 저항 변화 소자 |
새창보기
|
[KST2017013397][포항공과대학교 산학협력단] |
수소 처리된 NbO2 박막, NbO2 박막의 제조방법 및 NbO2 박막을 구비한 전자소자의 제조방법(HYDROGEN TREATED NbO2 THIN FILM, METHOD OF FABRICATING THE NbO2 THIN FILM AND ELECTROIC ELEMENT COMPRISING THE NbO2 THIN FILM) |
새창보기
|
[KST2018006962][포항공과대학교 산학협력단] |
전이 금속 화합물 선택 소자를 포함하는 저항 변화형 메모리 소자(RESISTANCE CHANGE MEMORY HAVING TRANSITION METAL COMPOSITE SELECTION DEVICE) |
새창보기
|
[KST2020013862][포항공과대학교 산학협력단] |
3단자 시냅스 소자 및 이의 제조 방법 |
새창보기
|
[KST2018005289][포항공과대학교 산학협력단] |
스위칭 제어 특성과 가파른 문턱 전압 이하 기울기를 갖는 문턱 스위칭 소자, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 금속 산화물 저항 변화 소자(Threshold Switching Device having Switching control characteristic and rapid subthreshold slope, Fabrication method for the same and Metal-oxide semiconductor resistance change device having the same) |
새창보기
|