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반구형 렌즈 형상의 마이크로 구조체, 및 상기 마이크로 구조체 상에 균일한 주기의 나노 패턴이 형성된 복합 구조체로서,상기 복합 구조체의 높이가 5㎛ 이하이면서 나노 패턴의 주기가 1500nm 이하이고,상기 나노 패턴은 1 내지 10㎛의 두께를 갖는 PVA 위상 전이 마스크를 이용하여 형성되는 것인, 복합 구조체
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반구형 렌즈 형상의 마이크로 구조체, 및 상기 마이크로 구조체 상에 균일한 주기의 나노 패턴이 형성된 복합 구조체로서,상기 복합 구조체의 높이가 5㎛ 이상이면서 나노 패턴의 주기가 600nm 이하이고,상기 나노 패턴은 1 내지 10㎛의 두께를 갖는 PVA 위상 전이 마스크를 이용하여 형성되는 것인, 복합 구조체
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제1항 또는 제2항의 복합 구조체를 포함하는, 광 디바이스
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마이크로 구조체 및 나노 패턴을 포함하는 복합 구조체의 제조 방법으로서,마이크로 구조체를 형성하는 단계, 상기 마이크로 구조체 상에 균일한 나노 패턴을 형성하기 위하여 투명하고 플렉서블한 PVA 위상 전이 마스크를 제공하는 단계, 및상기 마이크로 구조체 상에 상기 PVA 위상 전이 마스크를 접촉, 노광, 현상하는 포토리소그래피 단계를 포함하고,상기 PVA 위상 전이 마스크는 상기 마이크로 구조체 상에 컨포멀 접촉하는, 복합 구조체의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 마이크로 구조체를 형성하는 단계는,포토리소그래피를 이용하여 제1기판 상에 포지티브 형태의 마이크로 패턴을 형성하는 단계,상기 제1기판을 130 내지 140℃에서 1 내지 2분간 리플로우 공정을 수행하여 반구형의 렌즈 형상을 형성하는 단계,상기 반구형의 렌즈 형상 위에 PDMS로 소프트 몰드를 제작하는 단계,상기 소프트 몰드에 포토레지스트를 도포하고 제2기판 상에 배치하는 단계,상기 제2기판을 핫 플레이트에서 80℃에서 30분 및 100 내지 110℃에서 6~8 시간 동안 베이킹하는 단계,상기 제2기판으로부터 상기 소프트 몰드를 분리시켜 마이크로 구조체를 형성하는 단계를 포함하는, 복합 구조체의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 PVA 위상 전이 마스크는 1 내지 10㎛의 두께를 갖는, 복합 구조체의 제조 방법
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