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크랙 치유 고분자를 포함하는 크랙 센서 및 이를 포함하는 전자 소자

  • 기술번호 : KST2018011994
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일실시예인 크랙 센서는 기판, 상기 기판 상에 위치되고, 크랙을 포함한 전도성층 및 상기 기판과 상기 전도성층 사이에 형성되거나, 상기 전도성층 상에 위치되는 고분자층을 포함하며, 상기 고분자층의 복원력을 통하여, 상기 크랙의 추가 성장을 억제하고, 크랙을 복원한다.
Int. CL G01N 27/70 (2006.01.01) C08L 101/12 (2006.01.01)
CPC G01N 27/70(2013.01) G01N 27/70(2013.01) G01N 27/70(2013.01)
출원번호/일자 1020170024828 (2017.02.24)
출원인 성균관대학교산학협력단, 아주대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0097969 (2018.09.03) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 발송처리완료
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.02.24)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태일 대한민국 서울특별시 관악구
2 강대식 대한민국 경기도 수원시 영통구
3 박병학 대한민국 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 경기도 수원시 장안구
2 아주대학교 산학협력단 경기도 수원시 영통구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.02.24 수리 (Accepted) 1-1-2017-0193616-75
2 보정요구서
Request for Amendment
2017.03.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0031506-90
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2017-0325753-29
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.10.13 수리 (Accepted) 9-1-2017-0034913-44
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.07.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0466825-17
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2018-0893978-41
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.09.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0893979-97
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.11.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0776333-04
10 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner
2019.01.23 수리 (Accepted) 7-8-2019-0001951-25
11 등록결정서
Decision to grant
2019.10.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0783668-82
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판; 상기 기판 상에 위치되고, 크랙을 포함한 전도성층; 및상기 기판과 상기 전도성층 사이에 형성되거나, 상기 전도성층 상에 위치되는 자가 치유 고분자층을 포함하며, 상기 고분자층은 상기 크랙이 위치한 부분을 제외한 전도성층 상에 위치하고,상기 고분자의 유리 전이 온도(Tg)는 상온 이하인,상기 고분자층의 복원력을 통하여, 상기 크랙의 추가 성장을 억제하고, 크랙을 복원하는,반복 사용에도 민감도 저하가 없는 크랙 센서
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 고분자층은 외부에너지가 조사될 때, 복원력이 향상되는, 크랙 센서
5 5
제1항에 있어서,상기 고분자층은 열, 빛, 전기 에너지 중 적어도 하나가 조사될 때, 복원력이 향상되는, 크랙 센서
6 6
제1항에 있어서,상기 고분자층에 외부에너지가 국부적으로 조사될 때, 국부적으로 상기 크랙이 복원되는, 크랙 센서
7 7
제1항에 있어서,상기 복원력은 상기 고분자의 Diacid 및 Diamine에 의한 반응에 의하여 생성된 작용기에 의하여 형성된, 크랙 센서
8 8
제1항에 있어서,상기 복원력은, 상기 고분자에 포함된 산소와 수소의 결합에 의하여 형성되는, 크랙 센서
9 9
삭제
10 10
제1항에 있어서,상기 고분자층은 용액공정에 의하여 형성되는, 크랙 센서
11 11
제1항에 있어서,외부자극에 의해 상기 크랙의 전기적 단락 또는 개방이 발생하여, 상기 전도성층의 전기적 저항값이 변화되는 크랙 센서
12 12
제1항에 있어서,상기 크랙의 깊이가 나노 또는 마이크로미터 크기인, 크랙 센서
13 13
제1항에 있어서,상기 전도성층은, 백금, 니켈, 구리, 금, 은, 철, 크롬, 마그네슘, 아연, 주석, 알루미늄, 코발트, 망간, 텅스텐, 카드뮴, 팔라듐, 및 탄소 중 1종 이상의 전도성 물질 또는 이들의 1종 이상 혼합물을 포함하는, 크랙 센서
14 14
제1항에 있어서,상기 센서는, 기계적 센서, 화학적 센서 및 가스 센서 중 하나인, 크랙 센서
15 15
제1항의 크랙 센서를 포함하는 전자 소자
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10670655 US 미국 FAMILY
2 US20180246165 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US10670655 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2018246165 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.