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플랙서블 기판;상기 플랙서블 기판 상에 형성된 TiO2층; 및 상기 TiO2층 상에 형성되어 175℃ 이하의 저온에서 증착되고, 175℃ 이하의 저온에서 열처리된 이산화 바나듐 박막을 포함하고,상기 이산화바나듐 박막은 스퍼터링 장비를 이용하여, 175℃온도와 6mtorr의 아르곤(Ar) 및 산소(O2)분위기에서 증착되고,상기 아르곤(Ar)의 분압은 10sccm이고, 상기 산소(O2)의 분압은 0
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제1항에 있어서,상기 플랙서블 기판은 폴리이미드(polyimid) 재질의 기판인 것을 특징으로 하는 스마트 글래스
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플랙서블 기판을 준비하는 단계;상기 플랙서블 기판에 TiO2층을 증착하는 단계;175℃이하 저온에서 상기 TiO2층에 이산화바나듐 박막을 증착하는 단계를 포함하고,상기 이산화바나듐 박막을 증착하는 단계는 아르곤(Ar) 가스 10sccm분압과 산소(O2)가스 0
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제6항에 있어서,상기 플랙서블 기판에 TiO2층을 증착하는 단계는 IAD(Ion-beam Assisted Deposition) 장비를 이용하여 상기 플랙서블 기판에 200nm두께의 층을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스마트 글래스 제조방법
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제6항에 있어서,상기 플랙서블 기판은 폴리이미드(polyimid) 재질의 기판인 것을 특징으로 하는 스마트 글래스 제조방법
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플랙서블 기판을 준비하는 단계;상기 플랙서블 기판에 TiO2층을 증착하는 단계;상기 TiO2층이 증착된 플랙서블 기판을 175℃의 저온으로 유지시키는 단계;상기 TiO2층이 증착된 플랙서블 기판으로부터 바나듐 타겟을 15cm위치에 고정시키는 단계;스퍼터 챔버안의 진공을 3×10-6torr까지 배출한 후 아르곤 가스 10sccm분압과 산소가스 0
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제11항의 방법으로 제조된 스마트 글래스
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