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박막 증착 장치

  • 기술번호 : KST2018012163
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에서는 증발률의 변화를 최소화할 수 있는 박막 증착 장치가 개시된다.일 예로, 진공 챔버; 상기 진공 챔버의 일측에 배치되며, 기판을 고정하는 기판 홀더; 및 상기 진공 챔버의 타측에서 상기 기판 홀더와 마주보며 배치되는 증착원을 포함하고, 상기 증착원은, 수용홈을 포함하여 증착 재료를 수용하는 도가니; 상기 도가니의 수용홈을 감싸는 가열원; 및 상기 도가니의 수용홈에 배치되고, 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전되는 교반축 및 상기 교반축으로부터 연장되는 복수의 교반 블레이드를 포함하는 교반부;를 포함하는 박막 증착 장치가 개시된다.
Int. CL C23C 14/24 (2006.01.01) C23C 14/26 (2006.01.01) C23C 14/50 (2006.01.01) C23C 14/12 (2006.01.01) H01L 51/56 (2006.01.01) H01L 51/00 (2006.01.01)
CPC C23C 14/243(2013.01) C23C 14/243(2013.01) C23C 14/243(2013.01) C23C 14/243(2013.01) C23C 14/243(2013.01) C23C 14/243(2013.01)
출원번호/일자 1020170022987 (2017.02.21)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0096366 (2018.08.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.02.21)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤주영 대한민국 대전광역시 유성구
2 김진태 대한민국 대전광역시 유성구
3 심섭 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2017-0179413-85
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.09.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.12.08 수리 (Accepted) 9-1-2017-0041539-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.07.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0453316-96
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.09.03 수리 (Accepted) 1-1-2018-0874199-01
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.09.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0874198-55
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.01.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0028904-10
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2019-0152686-24
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.02.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-0152685-89
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0156910-08
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번호 청구항
1 1
진공 챔버;상기 진공 챔버의 일측에 배치되며, 기판을 고정하는 기판 홀더; 및상기 진공 챔버의 타측에서 상기 기판 홀더와 마주보며 배치되는 증착원을 포함하고,상기 증착원은,수용홈을 포함하여 증착 재료를 수용하는 도가니;상기 도가니의 수용홈을 감싸는 가열원; 및 상기 도가니의 수용홈에 배치되고, 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전되는 교반축 및 상기 교반축으로부터 연장되는 복수의 교반 블레이드를 포함하는 교반부;를 포함하는 박막 증착 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 증착원은 상기 수용홈에 배치되어 상하로 왕복 이동하는 이송 플레이트를 더 포함하는 박막 증착 장치
3 3
제 2 항에 있어서,상기 교반부는 상기 이송 플레이트 상에 배치되는 박막 증착 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 증착원은 점 증착원(point source) 또는 선형 증착원(linear source)인 박막 증착 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 교반부는 상기 증착 재료의 내측에 배치되는 박막 증착 장치
6 6
제 1 항에 있어서,상기 교반부는 적어도 하나로 구비되는 박막 증착 장치
7 7
제 1 항에 있어서,상기 교반 블레이드는 플레이트로 구비되어 상기 교반축으로부터 상기 수용홈의 상부를 향하여 경사지도록 연장되는 박막 증착 장치
8 8
제 1 항에 있어서,상기 교반 블레이드는 봉상으로 구비되어 적어도 1회 이상 절곡되는 박막 증착 장치
9 9
제 1 항에 있어서,상기 교반 블레이드는 원판형으로 구비되어 상기 교반축이 상기 교반 블레이드의 중앙을 관통하는 박막 증착 장치
10 10
제 1 항에 있어서,상기 교반 블레이드는 스크류로 구비되어 상기 교반축을 따라 연속적으로 연장되는 박막 증착 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 국가과학기술연구회연구운영비지원 미래 나노급 반도체 및 대면적 OLED를 위한 증착소재개발의 한계돌파를 위한 복합물성 측정 장비개발