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유기박막 트랜지스터 소스-드레인 전극 형성용 조성물

  • 기술번호 : KST2018012193
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유기박막 트랜지스터 소스-드레인 전극 형성용 조성물 및 이의 제조방법에 대한 것이다. 본 발명에 따른 조성물은 전기수력학적 인쇄 방식을 이용하여 소스-드레인 전극 패턴을 형성하는데 적합한 물성을 가지고 있어, 저비용으로 전극 패턴의 겹침이나 손상 없이 효과적으로 소스-드레인 전극을 형성할 수 있는 이점을 제공할 수 있다.
Int. CL H01B 1/12 (2006.01.01) H01B 1/04 (2006.01.01) H01L 51/00 (2006.01.01) H01L 51/10 (2006.01.01)
CPC H01B 1/127(2013.01) H01B 1/127(2013.01) H01B 1/127(2013.01) H01B 1/127(2013.01)
출원번호/일자 1020170022715 (2017.02.21)
출원인 영남대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0096248 (2018.08.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.02.21)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 영남대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 경산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이승우 대한민국 대구광역시 중구
2 김세현 대한민국 대구광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2017-0176856-72
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.09.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0134816-08
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.09.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0635309-55
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2017-5175631-14
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-1126347-62
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.11.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1126346-16
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2018.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0190275-65
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2018.05.18 수리 (Accepted) 1-1-2018-0490955-16
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0599089-58
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.06.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0599091-40
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.10.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0667444-39
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.01.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0006769-26
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5220555-67
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.12.07 수리 (Accepted) 4-1-2020-5277862-17
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
PEDOT:PSS 전도성 고분자; 및 폴리스티렌 설포네이트(PSS) 처리된 탄소나노튜브를 포함하고,점도가 50cP 내지 150cP의 범위 내에 있는 유기박막 트랜지스터 소스-드레인 전극 형성용 조성물
2 2
폴리스티렌 설포네이트(PSS) 및 탄소나노튜브를 포함하는 분산 용액을 초음파 처리하여 제 1 용액을 제조하는 단계; 및상기 제 1 용액과 PEDOT:PSS 전도성 고분자를 포함하는 제 2 용액을 혼합하는 단계를 포함하는 유기박막 트랜지스터 소스-드레인 전극 형성용 조성물의 제조방법
3 3
제 1항의 조성물을 전기수력학적 인쇄 방식으로 기판 상에 적하 시킴으로써 소스-드레인 전극을 형성하는 단계를 포함하는 유기박막 트랜지스터의 제조방법
4 4
기판;상기 기판 상에 형성되어 있는 게이트 절연층; 및제 1항의 조성물을 이용하여 형성된 소스-드레인 전극를 포함하는 유기박막 트랜지스터
5 5
제 4항에 있어서,상기 소스-드레인 전극은 상기 조성물을 전기수력학적 인쇄 방식으로 기판 상에 적하 시킴으로써 형성되는 유기박막 트랜지스터
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 영남대학교 산학협력단 지역혁신센터조성(RIC)사업 대경 태양전지 지역혁신센터