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플라즈몬 메타표면 구조체에 있어서,상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 직육면체로 형성된 메타표면 단위 셀들의 평면 배열 집합체로 형성되며,상기 메타표면 단위 셀은,금속물질의 기판층;상기 기판층 상부에 형성되는 절연체층; 및상기 절연체층 상부에 형성되는 금속물질로 이루어진 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립; 을 포함하되,상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서, y 방향으로 편광된 전기장과 함께 입사된 입사광이 상기 메타표면 단위 셀에 의해 반사된 반사광의 위상은, 상기 나노안테나 스트립 폭의 선형적 변화에 따라, x 방향에 따른 위치에 따라 변하는 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제1항에 있어서,상기 기판층 및 상기 나노 안테나 스트립은 Al 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제2항에 있어서,상기 절연체층은 SiO2 재질로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제1항에 있어서,상기 나노 안테나 스트립의 사다리꼴 형상은 짧은 폭 50(±5%)nm, 긴 폭 150(±5%)nm, 길이 500(±5%)nm로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제3항에 있어서,상기 나노 안테나 스트립의 두께는 20(±5%)nm, 상기 절연체층의 두께는 50(±5%)nm, 상기 기판층의 두께는 130(±5%)nm로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제5항에 있어서,상기 메타표면 단위 셀의 평면 크기는 200(±5%) ⅹ 720(±5%) nm로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제3항에 있어서,상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 입사광에 대한 반사광이 42(±5%)°의 각 분리 범위를 가지는 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제3항에 있어서,상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 400nm 내지 700nm의 스펙트럼 범위의 입사광에 대한 반사광을 34(±5%)°에서 76(±5%)°의 각도로 반사시키는 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제3항에 있어서,상기 플라즈몬 메타표면 구조체는 300(±5%) × 200(±5%)㎛2 면적으로 형성된 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제3항에 있어서,상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서 반사되는 반사광의 위상 구배의 특성은 가시광 대역에 걸쳐서 입사광의 파장 크기에 관계없이 일정한 선형 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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제3항에 있어서상기 플라즈몬 메타표면 구조체에서, 입사광에 의해 여기된 갭 표면 플라즈몬 공진모드의 위치는 상기 입사광의 파장 크기에 따라 상기 사다리꼴 형상의 나노 안테나 스트립의 넓은 폭의 길이 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 파장에 무관하게 위상 구배가 가능한 플라즈몬 메타표면 구조체
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