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기재의 표면에서 실링제 접촉 영역을 포함하는 영역에 레이저 가공으로 마이크로 패턴을 형성하는 마이크로 패턴 형성 단계 및상기 마이크로 패턴 형성 단계 후에 상기 실링제 접촉 영역의 일측 또는 양측으로 소정 폭의 옴니포빅층 형성 영역에 옴니포빅 물질을 코팅하여 옴니포빅층을 형성하는 옴니포빅층 형성 단계를 포함하며,상기 옴니포빅층 형성 단계는 상기 실링제 접촉 영역에 실링제가 도포된 후에 진행되며,상기 옴니포빅층은 상기 옴니포빅층 형성 영역과, 상기 실링제와 상기 기재의 표면의 경계부 및 상기 경계부로부터 상기 기재의 표면과 접촉하지 않은 실링제의 표면의 일부를 포함하는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 1 항에 있어서,상기 옴니포빅층 형성 영역은 상기 마이크로 패턴이 형성되며, 상기 옴니포빅층은 상기 옴니포빅 물질이 마이크로 패턴의 표면에 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 1 항에 있어서,상기 마이크로 패턴은 상기 기재 표면으로부터 하부로 형성되는 트렌치 구조로 형성되며,상기 트렌치 구조는 격자 형상 패턴, 벌집 형상 패턴 또는 스트라이프 형상 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 5 항에 있어서,상기 트렌치 구조는 연장 방향에 수직인 방향의 폭이 1 ~ 500㎛이 되도록 형성되며,상기 마이크로 패턴은 상기 트렌치 구조의 서로 이격되는 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 5 항에 있어서,상기 마이크로 패턴은 상기 기재 표면으로부터 상부로 돌출되는 돌기 구조로 형성되며,상기 돌기 구조는 원기둥, 사각 기둥, 육각 기둥, 원뿔대, 사각뿔대 또는 육각뿔대 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 7 항에 있어서,상기 돌기 구조는 폭 또는 직경이 1 ~ 500㎛이며,상기 마이크로 패턴은 상기 돌기 구조의 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 1 항에 있어서,상기 옴니포빅층은 0
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10
제 1 항에 있어서,상기 옴니포빅층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(1)로 표시되는 실란계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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11
제 10 항에 있어서,상기 옴니포빅층은 TixOy, FexOy, AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy, ZrxOy, 그래핀 및 그래핀옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 물질로 형성되는 베이스 입자의 표면에 상기 실란계 화합물이 코팅되어 형성되는 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 10 항에 있어서,상기 기재는 표면에 산화층이 형성되는 금속 재질이며,상기 실란계 화합물의 실란기가 상기 기재 표면에 형성되는 금속기(-M) 또는 산소기(-O)와 자기 결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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13
제 1 항에 있어서,상기 옴니포빅층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(2)로 표시되는 인산계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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14
제 13 항에 있어서,상기 옴니포빅층은 TixOy, FexOy, AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy, ZrxOy, 그래핀 및 그래핀옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 물질로 형성되는 베이스 입자의 표면에 상기 인산계 화합물이 코팅되어 형성되는 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 13 항에 있어서,상기 기재는 표면에 산화층이 형성되는 금속 재질이며,상기 인산계 화합물의 인산기가 상기 기재 표면의 금속기(-M) 또는 산소기(-O)와 자기 결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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16
제 1 항에 있어서,상기 실링제 접촉 영역은 상기 기재의 표면에 하부 방향으로 형성되어 실링제가 수용되는 실링제 수용 홈으로 형성되며,상기 마이크로 패턴은 상기 실링제 수용 홈의 바닥면 및 내측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법
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제 1 항, 제 3 항 또는 제 5 항 내지 제 16 항중 어느 하나의 항에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 구조층
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