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그래핀/고분자나노섬유에 포함된 상기 고분자가 서로 가교되어 다수의 기공이 형성된 다공성 막으로서, 상기 그래핀/고분자 나노섬유의 필라멘트형태가 90%이상 유지된 필라멘트형 망상구조를 갖고,상기 그래핀은 그래파이트로부터 물리적처리에 의해 박리된 순수그래핀이며, 상기 고분자는 열변성없이 고유특성이 그대로 유지된 것이고,그래핀/고분자나노섬유 멤브레인은 물을 상기 멤브레인 자체 중량보다 20배 이상까지 흡수하는 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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제 1 항에 있어서, 상기 그래핀/고분자 나노섬유는 포함된 그래핀이 고분자기질 사이에 균일하게 존재하고, 직경이 100 내지 200nm인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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제 1 항에 있어서, 상기 고분자는 수용성고분자에 1개 이상의 소수성작용기가 부가된 구조, 친수성작용기 중 1개 이상이 소수성작용기로 치환된 구조 또는 1개 이상의 소수성작용기가 부가되고 친수성작용기 중 1개 이상이 소수성작용기로 치환된 구조를 갖는 합성수용성고분자로서, 상기 수용성고분자는 폴리비닐알코올[Poly(vinyl alcohol)], 덱스트란(Dextran), 전분(Starch), 폴리에틸렌옥사이드(Polyethylene oxide), 폴리아크릴아마이드(Polyacrylamide), 폴리비닐피롤리돈(Polyvinyl pyrrolidone), 폴리아크릴릭엑시드(Polyacrylic acid), 폴리 스타이렌설포닉엑시드[Poly(styrenesulfonic acid)], 폴리실릭익엑시드[Poly(silicic acid)], 폴리포스포릭엑시드[Poly(phosphoric acid)], 폴리에틸렌설포닉엑시드[Poly(ethylene sulfonic acid)], 폴리말레익엑시드[Poly(maleic acid)], 폴리아마인스(Polyamines), 폴리아크릴아마이드(Poly acrylamide), 폴리비닐피롤리돈(Poly vinyl pyrrolidone), 및 폴리에틸렌글리콜(Poly Ethylene Glycol)로 구성된 그룹에서 선택된 1개 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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제 3 항에 있어서, 상기 소수성 작용기는 알콕시기, 플루오레닐기, 카바졸기, 니트릴기, 티오펜기, 벤조티오펜기, 니트로기, 아릴기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 플루오레닐기, 비페닐기, 트라이페틸기, 터페닐기, 스틸벤기, 나프틸기, 비나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 페릴레닐기, 테트라세닐기, 크라이세닐기, 플로오레닐기, 아세나프타세닐기, 트리헤닐렌기, 플로오란텐기, 페닐기, 파이레닐기로 구성된 그룹에서 선택된 1개 이상인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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제 3 항에 있어서, 상기 소수성 작용기는 아로마틱 링을 포함하는 구조인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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제 1 항에 있어서,상기 기공 간 간격은 100 내지 300nm이고, 상기 기공의 크기는 50nm 내지 200nm인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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제 1 항에 있어서,기공도는 50% 내지 90%인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인
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그래핀/고분자나노섬유를 제조하는 단계;상기 그래핀/고분자나노섬유를 겹쳐서 반응기에 넣고 액상가교제를 첨가하는 단계; 및상기 반응기에서 상기 그래핀/고분자나노섬유에 포함된 고분자가 서로 가교되도록 기상가교반응을 수행하는 단계;를 포함하는데,상기 그래핀/고분자나노섬유를 제조하는 단계는 합성수용성고분자에 의해 그래핀이 극성용매에 균일하게 분산된 그래핀콜로이드용액을 준비하는 단계; 및 상기 준비된 그래핀콜로이드용액을 전기방사하여 그래핀/고분자나노섬유를 얻는 단계;를 포함하고,상기 기상가교반응은 상기 반응기의 온도 및 압력 중 하나 이상을 제어함으로써 상기 첨가된 액상가교제를 기상으로 상변화시켜 수행되는데, 상기 온도는 45℃ 내지 80℃ 범위로 제어되는 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 가교된 그래핀/고분자나노섬유를 세정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 가교제는 glutaraldehyde, divinyl sulfone, epichlorohydrin, epibromohydrin, butandiol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethlypropane polyglycidyl ether, bis(epoxypropoxy)ethylene으로 구성된 그룹에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 가교제는 상기 그래핀/고분자나노섬유 100부피부당 0
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제 9 항에 있어서,상기 전기방사를 통해 얻어진 그래핀/고분자나노섬유를 메탄올에 30분 내지 180분 동안 침지하여 세정 및 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 그래핀콜로이드용액은 합성수용성고분자가 0
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제 9 항에 있어서,상기 합성수용성고분자는 수용성고분자에 1개 이상의 소수성작용기가 부가된 구조, 수용성고분자의 친수성작용기 중 1개 이상이 소수성작용기로 치환된 구조 또는 수용성고분자에 1개 이상의 소수성작용기가 부가되고 친수성작용기 중 1개 이상이 소수성작용기로 치환된 구조를 갖는데, 상기 수용성고분자는 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol), 덱스트란(Dextran), 전분(Starch), 폴리에틸렌옥사이드(Polyethylene oxide), 폴리아크릴아마이드(Polyacrylamide), 폴리비닐피롤리돈(Polyvinyl pyrrolidone), 폴리아크릴릭엑시드(Polyacrylic acid), 폴리 스타이렌설포닉엑시드(Polystyrenesulfonic acid), 폴리실릭익엑시드(Polysilicic acid), 폴리포스포릭엑시드(Polyphosphoric acid), 폴리에틸렌설포닉엑시드(Polyethylene sulfonic acid), 폴리말레익엑시드(Polymaleic acid), 폴리아마인스(Polyamines), 폴리아크릴아마이드(Poly acrylamide), 및 폴리에틸렌글리콜(Poly ethylene glycol)로 구성된 그룹에서 선택되는 어느 하나 이상이고, 상기 소수성 작용기는 아로마틱 링(aromatic ring)을 포함하는 구조인 것을 특징으로 하는 그래핀/고분자나노섬유 멤브레인제조방법
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인 또는 제 9 항, 제 11 항 내지 제 13 항, 제 15항 내지 제 17항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인을 포함하는 센서
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제 18 항에 있어서,상기 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인은 양이온성염료를 감지하는 것을 특징으로 하는 센서
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인 또는 제 9 항, 제 11 항 내지 제 13 항, 제 15항 내지 제 17항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인을 포함하는 흡착제
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제 20 항에 있어서,상기 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인은 수용액상에 존재하는 양이온성염료에 대해 95% 이상의 유효제거효율을 갖는 것을 특징으로 하는 흡착제
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제 21 항에 있어서,상기 그래핀/고분자 나노섬유멤브레인에 흡착된 상기 양이온성염료가 에탄올처리를 통해 탈락되어 재사용 가능한 것을 특징으로 하는 흡착제
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제 20 항의 흡착제를 포함하는 오염물질제거용 유동시스템
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