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단일 나노 공극 구조를 이용한 산화물 기반 저항 스위칭 메모리 소자 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2018013040
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 단일 나노 공극 구조를 이용한 산화물 기반 저항 스위칭 메모리 소자 및 그 제조 방법이 개시된다. 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법은 기판상에 하부 전극층을 형성하는 하부 전극층 형성 단계, 하부 전극층상에 메모리 물질층을 형성하는 메모리 물질층 형성 단계, 메모리 물질층의 미리 설정된 영역에 공극 형성용 금속층을 형성하는 공극 형성용 금속층 형성 단계, 공극 형성용 금속층 하부의 메모리 물질층을 제거하여 공극을 형성하는 공극 형성 단계, 및 형성된 공극에 상부 전극을 형성하는 상부 전극 형성 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 45/00 (2006.01.01)
CPC H01L 45/1608(2013.01) H01L 45/1608(2013.01) H01L 45/1608(2013.01)
출원번호/일자 1020170032424 (2017.03.15)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0105400 (2018.09.28) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.03.15)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 왕건욱 대한민국 서울특별시 성북구
2 권순방 대한민국 서울특별시 성북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인주원 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(논현동, 건설회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-0256398-16
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0257805-68
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.06.05 1-1-2018-0551940-96
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2018-0551938-04
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2018-0573850-90
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.06.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0573851-35
7 보정의취하간주안내문
2018.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0092829-29
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0736622-67
9 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
2018.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2018-1166050-79
10 보정요구서
Request for Amendment
2018.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0188095-97
11 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2018-1295024-84
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-1319450-73
13 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.12.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-1319449-26
14 법정기간연장승인서
2018.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0204872-22
15 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0049781-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판상에 하부 전극층을 형성하는 하부 전극층 형성 단계;상기 하부 전극층상에 메모리 물질층을 형성하는 메모리 물질층 형성 단계;상기 메모리 물질층의 미리 설정된 영역에 단일 공극 형성용 금속층을 형성하는 공극 형성용 금속층 형성 단계;상기 단일 공극 형성용 금속층 하부의 상기 메모리 물질층을 제거하여 단일 공극을 형성하는 단일 공극 형성 단계; 및상기 형성된 단일 공극에 상부 전극을 형성하는 상부 전극 형성 단계를 포함하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법으로서,상기 단일 공극은 상기 단일 공극 형성용 금속층을 미리 설정된 온도까지 가열함으로써 상기 단일 공극 형성용 금속층이 상기 메모리 물질층으로 침투하여 형성되고,상기 단일 공극의 크기와 형태는 상기 단일 공극 형성용 금속층의 크기 및 가열 형태에 의해 제어되며,상기 상부 전극과 상기 하부 전극층으로부터 형성되는 하부 전극 사이에 전압을 인가하여, 스위칭 필라멘트의 크기를 상기 상부 전극에 형성되는 나노 갭 사이로 제한하는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
2 2
청구항 1에 있어서,상기 메모리 물질층은 실리콘 산화물층인 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
3 3
청구항 2에 있어서,상기 하부 전극으로 전압을 인가하기 위해, 상기 실리콘 산화물층의 미리 설정된 영역을 제거하여 상기 하부 전극층을 노출시키는 하부 전극 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
4 4
청구항 3에 있어서,상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 전압을 인가하여 상기 단일 공극 내의 상부 전극 영역에 분리 영역을 형성하는 스위칭 영역 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
5 5
청구항 4에 있어서,상기 단일 공극 형성용 금속층의 금속은 금, 은, 백금, 텅스텐 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
6 6
청구항 5에 있어서,상기 단일 공극 형성용 금속층은 포토리소그래피 공정 또는 전자빔리소그래피 공정을 이용하여 패터닝된 후 증착되는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
7 7
청구항 6에 있어서,상기 단일 공극은 나노 스케일의 공극 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자 제조 방법
8 8
기판상에 형성된 하부 전극층;상기 하부 전극층상에 형성되고 내부에 단일 공극이 형성된 메모리 물질층;상기 단일 공극에 형성되는 상부 전극을 포함하며,상기 단일 공극은 상기 메모리 물질층의 미리 설정된 영역에 형성된 단일 공극 형성용 금속층 하부의 상기 메모리 물질층을 제거하여 형성된 저항 스위칭 메모리 소자로서,상기 단일 공극은 상기 단일 공극 형성용 금속층을 미리 설정된 온도까지 가열함으로써 상기 단일 공극 형성용 금속층이 상기 메모리 물질층으로 침투하여 형성되고,상기 단일 공극의 크기와 형태는 상기 단일 공극 형성용 금속층의 크기 및 가열 형태에 의해 제어되며,상기 상부 전극과 상기 하부 전극층으로부터 형성되는 하부 전극 사이에 전압을 인가하여, 스위칭 필라멘트의 크기를 상기 상부 전극에 형성되는 나노 갭 사이로 제한하는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
9 9
청구항 8에 있어서,상기 메모리 물질층은 실리콘 산화물층인 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
10 10
청구항 9에 있어서,상기 실리콘 산화물층의 미리 설정된 영역이 제거되어 형성된 하부 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
11 11
청구항 10에 있어서,상기 상부 전극은 상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 전압을 인가하여 상기 단일 공극 내의 전극 영역에 형성된 분리 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
12 12
청구항 11에 있어서,상기 단일 공극 형성용 금속층 물질은 금, 은, 백금, 텅스텐 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
13 13
청구항 12에 있어서,상기 단일 공극 형성용 금속층은 포토리소그래피 공정 또는 전자빔리소그래피 공정을 이용하여 패터닝된 후 증착되는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
14 14
청구항 13에 있어서,상기 단일 공극은 나노 스케일의 공극 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 저항 스위칭 메모리 소자
지정국 정보가 없습니다
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1 WO2018169269 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2018169269 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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