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하기 관계식 1을 만족하는 다공성 금속할로겐화물 막
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제 1항에 있어서, 상기 금속할로겐화물 막은 스침각 입사 광각 X-선 산란(GIWAXS; Grazing Incidence Wide Angle X-ray Scattering) 스펙트럼에서, 방사각에 따른 (101)면의 산란 강도 기준, 10 내지 80°의 방사각 범위에서 연속적인 산란 강도를 가지며, 하기 관계식 2 및 관계식 3을 더 만족하는 다공성 금속할로겐화물 막
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제 1항에 있어서,하기 관계식 4를 더 만족하는 다공성 금속할로겐화물 막
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제 1항에 있어서,하기 관계식 5를 더 만족하는 다공성 금속할로겐화물 막
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제 1항에 있어서,상기 금속할로겐화물 막의 두께는 1μm 내지 1000μm인 다공성 금속할로겐화물 막
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제 1항에 있어서,상기 금속할로겐화물 막은 유기할로겐화물과 반응하여 페로브스카이트 구조의 유기금속할로겐화물로 전환되는 유기금속할로겐화물 제조용인 다공성 금속할로겐화물 막
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금속할로겐화물-이종분자 어덕트(adduct of metal halide and guest molecule)를 함유하는 전구체 막(adduct layer)과 하기 관계식 6을 만족하는 극성 양성자성 용매를 접촉시켜 다공성 금속할로겐화물 막을 제조하는 단계를 포함하는 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 극성 양성자성 용매는 하기 관계식 7 및 관계식 8을 더 만족하는 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 극성 양성자성 용매는 하기 관계식 9를 더 만족하는 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 이종분자는 상기 금속할로겐화물의 용매인 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 이종분자는 디메틸술폭시드(Dimethylsulfoxide, DMSO), N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl-2-pyrrolidone, NMP), 2,2'-바이피리딘(2,2'-bipyridine), 4,4'-바이피리딘-N,N'-디옥시드(4,4'-bipyridine, 4,4'-bipyridine-N,N'-dioxide), 피라진(Pyrazine), 1,10-패난트롤린 (1,10-phenanthroline), 2-메틸피리딘(2-Methylpyridine) 또는 폴리(에틸렌 옥사이드)(Poly(ethylene oxide))인 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 극성 양성자성 용매는 알콜계인 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 8항에 있어서,a) 금속할로겐화물 및 이종분자를 함유하는 어덕트 용액을 기재상 도포하여, 상기 금속할로겐화물-이종분자 어덕트를 함유하는 전구체 막을 형성하는 막형성 단계; 및b) 상기 전구체 막과 상기 극성 양성자성 용매를 접촉시켜 다공성 금속할로겐화물 막을 형성하는 단계;를 포함하는 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 14항에 있어서,상기 a) 단계 및 b) 단계는 연속 공정인 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 14항에 있어서,상기 a) 단계는 슬롯다이, 바코터, 그라비아, 오프셋 또는 닥터 블레이드를 포함하는 인쇄 공정에 의해 수행되는 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 14항에 있어서,상기 어덕트 용액은 금속할로겐화물 1 몰 대비 1 내지 2
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제 8항에 있어서,상기 전구체 막과 상기 극성 양성자성 용매간의 접촉시간은 1분 이내인 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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제14항에 있어서,상기 어덕트 용액은 점도 조절제를 더 포함하며, 상기 b) 단계에서 극성 양성자성 용매에 의해 전구체 막에 함유된 점도 조절제가 제거되는 다공성 금속할로겐화물 막의 제조방법
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c) 제 8항 내지 제 19항 중 어느 한 항의 제조방법으로 다공성 금속할로겐화물 막을 제조하는 단계; 및d) 상기 다공성 금속할로겐화물 막과 유기할로겐화물을 접촉시켜 페로브스카이트 구조의 유기금속할로겐화물 막을 제조하는 단계;를 포함하는 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 20항에 있어서,상기 d) 단계는 다공성 금속할로겐화물 막과 유기할로겐화물 용액간을 접촉시켜 수행되며, 상기 유기할로겐화물 용액의 농도는 35mg/ml 이상인 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 20항에 있어서,상기 d) 단계에서 다공성 금속할로겐화물 막과 유기할로겐화물간의 접촉 시간은 1분 이내인 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 20항에 있어서,상기 d) 단계 후, d) 단계에서 제조된 유기금속할로겐화물 막을 어닐링하는 단계를 더 포함하는 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 20항에 있어서,상기 c) 단계는 제1전극 및 제1전하전달체가 순차적으로 형성된 기재 상 수행되는 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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제 24항에 있어서,상기 제1전하전달체는 치밀막과 다공막의 적층막 또는 치밀막인 유기금속할로겐화물 막의 제조방법
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