| 1 |
1
플라즈마 전해 산화 공정의 전해질 조성물에 있어서,상기 전해질 조성물은아세트산칼슘(Calcium acetate monohydrate), 글리세로인산 칼슘(Calcium glycerophosphate), 아세트산 망가니즈(Manganese acetate), 메타규산나트륨(Sodium metasilicate nonahydrate) 및 증류수를 포함하여 전해질 용액을 이루고, 상기 전해질 용액은 망가니즈 이온이 칼슘 이온에 대비 20 mol%, 실리콘 이온이 인 이온에 대비하여 5 mol%가 되도록 아세트산칼슘을 0
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
티타늄합금으로 이루어진 치과용 임플란트 제조방법에 있어서,상기 치과용 임플란트 제조방법은,a) 치과용 티타늄합금을 순차적으로 연마, 미세연마 및 초음파 세척하는 티타늄합금 준비단계;b) 상기 준비단계에서 준비된 티타늄합금을 전기분해조 양극에 설치하고, 음극은 백금을 설치한 후 망가니즈 및 실리콘이 함유된 전해질 용액을 투입하는 투입단계;c) 일정한 전압과 전류밀도를 가하여 플라즈마를 생성시켜 티타늄합금에 산화 피막을 형성하는 플라즈마 형성단계; 및d) 상기 플라즈마 형성단계에서 티타늄합금에 산화피막이 형성된 후 에탄올 및 증류수 세척 후 건조시키는 건조단계;를 포함하고,상기 전해질 용액은 아세트산칼슘(Calcium acetate monohydrate), 글리세로인산 칼슘(Calcium glycerophosphate), 아세트산 망가니즈(Manganese acetate) 및 메타규산나트륨(Sodium metasilicate nonahydrate)을 증류수에 혼합하여 제조되며,상기 전해질 용액 내 망가니즈 이온이 칼슘 이온에 대비 20 mol%, 실리콘 이온이 인 이온에 대비하여 5 mol%가 되도록 아세트산칼슘을 0
|
| 4 |
4
제3 항에 있어서,상기 연마는 실리콘 카바이드 연마지로 실시하되 100, 600, 800, 1200, 2000 grit로 이루어진 연마지로 단계적으로 연마하는 것을 특징으로 하는 망가니즈 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법
|
| 5 |
5
제3 항에 있어서,상기 미세연마는 0
|
| 6 |
6
삭제
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
제3 항에 있어서,상기 전압과 전류밀도는 250~280V, 50~100 mA/㎝-2로 및 가용시간을 3분간 실시되는 것을 특징으로 하는 망가니즈 및 실리콘 이온을 함유하는 수산화아파타이트가 코팅된 치과용 임플란트 제조방법
|
