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제1 집전체 상에 희생층을 형성하는 것; 상기 희생층을 패터닝하여, 상기 희생층 내에 제1 그루브를 형성하는 것; 상기 희생층의 상기 제1 그루브 내에 활물질 전구체들을 채우는 것; 상기 활물질 전구체들을 열처리하여, 제1 전극층을 형성하는 것; 및 상기 희생층을 제거하여, 상기 제1 전극층 내에 제2 그루브를 형성하는 것을 포함하는 리튬 전지 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 활물질 전구체들을 열처리하는 동안, 상기 희생층이 제거되는 리튬 전지 제조 방법
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제2 항에 있어서, 상기 활물질 전구체들을 열처리하는 것은 상기 활물질 전구체들을 하소 및 소결시키는 것을 포함하는 리튬 전지 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 전극층 상에 전해질을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 전해질은 상기 제2 그루브를 채우는 리튬 전지 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 전극층 상에 전해질을 형성하여, 제1 반쪽 전지를 형성하는 것; 제2 집전체 상에 제2 전극층을 형성하는 것; 상기 제2 전극층 상에 제2 전해질을 형성하여, 제2 반쪽 전지를 제조하는 것; 및 상기 제2 반쪽 전지를 상기 제1 반쪽 전지 상에 배치하는 것을 더 포함하는 리튬 전지 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 희생층을 패터닝하는 것은 홀로그래픽 리소그래피 공정에 의해 수행되는 리튬 전지 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제1 전극층은 도전재 및 바인더 중에서 적어도 하나를 포함하지 않는 리튬 전지 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 제2 그루브는:서로 이격된 포어들; 및상기 포어들 사이에 배치되고, 상기 포어들을 연결시키는 연결홀들을 포함하는 리튬 전지 제조 방법
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제1 집전체; 상기 제1 집전체 상에 제공되고, 그 상면 상에 그루브를 갖는 제1 전극층; 및 상기 제1 전극층 상의 전해질을 포함하되, 상기 제1 전극층의 상기 그루브는: 서로 이격된 포어들; 및 상기 포어들을 서로 연결시키는 연결홀들을 갖고, 상기 전해질은 상기 전극층의 상기 포어들 및 상기 연결홀들을 채우는 리튬 전지
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제9 항에 있어서, 상기 연결홀들의 최대 직경들은 상기 포어들의 최대 직경들보다 작은 리튬 전지
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제9 항에 있어서, 상기 그루브는 상기 제1 접전체를 노출시키는 리튬 전지
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제9 항에 있어서,상기 제1 전극층은 도전재 및 바인더 중에서 적어도 하나를 포함하지 않는 리튬 전지
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제9 항에 있어서, 상기 전해질 상에 배치되는 제2 전극층; 및상기 제2 전극층 상의 제2 집전체를 더 포함하되, 상기 제1 전극층 및 상기 전해질의 접촉 면적은 상기 제2 전극층 및 상기 전해질의 접촉 면적보다 더 큰 리튬 전지
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