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기판과, 상기 기판 상에 형성되며 무작위로 형성된 요철 구조를 이루는 헤이즈 패턴을 가져 입사광을 반사시키지 않고 분산시키는 광기능층을 포함하고, 상기 광기능층은 투광성을 갖는 금속산화물과, 상기 금속산화물 내에 삽입되 나노형광체인 광변환 물질을 포함하고,상기 투광성을 갖는 금속산화물은 IGZO(Indium Galium Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), SIZO(Silicon Indium Zinc Oxide), HIZO(Hafnium Indium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), ZnO, SiO2, WO3, TiO2, Ga2O3, In2O3 및 SnO2로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하고,상기 나노형광체는 LiYF4:Ce,Tb, Li(Gd,Y)F4:Yb,Er, β-NaYF4:Yb,Er, 또는 β-NaYF4:Yb,Tm인 광학 필름
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청구항 1에 있어서, 상기 헤이즈 패턴은 상기 광기능층의 전면에 걸쳐 형성되거나, 또는 상기 광기능층에 소정 간격을 두어 복수개가 형성되는 광학 필름
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청구항 1에 있어서, 상기 광기능층의 표면은 소수성으로 처리된 광학 필름
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a) 제1 기판 상에 알루미늄을 증착하고 끓여 상기 제1 기판 상에 무작위로 형성된 요철 구조를 이루는 헤이즈 패턴을 형성함으로써 마스터 몰드를 제조하는 단계;b) 상기 마스터 몰드의 복제 몰드를 제조하는 단계;c) 제2 기판 상에 투광성을 갖는 고분자 수지 또는 금속산화물과, 상기 고분자 수지 또는 금속산화물 내에 삽입되는 광변환 물질을 포함하는 광기능층을 형성하는 단계; 및 d) 상기 광기능층에 상기 복제 몰드를 통해 상기 무작위로 형성된 요철 구조를 이루는 헤이즈 패턴을 전사하고 경화시키는 단계를 포함하는 광학 필름 제조방법
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청구항 8에 있어서, 상기 투광성을 갖는 고분자 수지는 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 셀룰로오즈계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 페놀계 수지 및 우레탄계 수지로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 광학 필름 제조방법
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10
청구항 8에 있어서, 상기 투광성을 갖는 금속산화물은 IGZO(Indium Galium Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), SIZO(Silicon Indium Zinc Oxide), HIZO(Hafnium Indium Zinc Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), ZnO, SiO2, WO3, TiO2, Ga2O3, In2O3 및 SnO2로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 광학 필름 제조방법
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11
청구항 8에 있어서, 상기 광변환 물질은 Er, Yb, Tm, Ho, Pr, Tb, Mn 또는 Eu 중 적어도 하나가 호스트에 도핑되는 나노형광체, 또는 양자점인 광학 필름 제조방법
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청구항 11에 있어서, 상기 나노형광체는 LiYF4:Ce,Tb; Li(Gd,Y)F4:Yb,Er; β-NaYF4:Yb,Er; 또는 β-NaYF4:Yb,Tm인 광학 필름 제조방법
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청구항 8에 있어서, 상기 d) 단계 이후에, 상기 광기능층의 표면을 소수성으로 처리하는 단계를 더 포함하는 광학 필름 제조방법
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