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산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법에 있어서,(a) 입사빔의 입사각을 가변시키면서 상기 타겟 오브젝트로 부터 출사되는 복수의 출사빔이 획득되는 단계와;(b) 상기 입사빔의 입사파 벡터 및 상기 출사빔의 출사파 벡터로 구성되는 시분해 출사 행렬이 구성되는 단계와;(c) 상기 시분해 출사 행렬이 상기 출사파 벡터 및 상기 입사파 벡터의 차와, 상기 입사파 벡터로 구성된 입사 경로 수차 보정 행렬로 재구성되는 단계와;(d) 상기 입사 경로 수차 보정 행렬에 입사 경로 수차 보정 세트가 반영되고, 상기 출사빔과 상기 입사빔 간의 차이 스펙트럼의 복소합 토탈 세기가 최대가 되는 최적 입사 경로 수차 보정 세트가 산출되는 단계와;(e) 상기 최적 입사 경로 수차 보정 세트를 이용하여 상기 시분해 출사 행렬이 보정되는 단계와;(f) 상기 (e) 단계에서 보정된 상기 시분해 출사 행렬이 상기 출사파 벡터와, 상기 입사파 벡터 및 상기 출사파 벡터의 차로 구성된 출사 경로 수차 보정 행렬로 재구성되는 단계와;(g) 상기 출사 경로 수차 보정 행렬에 출사 경로 수차 보정 세트가 반영되고, 상기 출사 경로 수차 보정 행렬에 대응하는 역위상의 입사빔과 출사빔 간의 차이의 스펙트럼의 복소합 토탈 세기가 최대가 되는 최적 출사 경로 수차 보정 세트가 산출되는 단계와;(h) 상기 최적 출사 경로 수차 보정 세트를 이용하여 상기 (e) 단계에서 보정된 상기 시분해 출사 행렬이 보정되는 단계와;(i) 상기 (h) 단계에서 보정된 상기 시분해 출사 행렬 내의 동일한 출사빔 성분들의 누적에 의해 이미지가 획득되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법에 있어서,(A) 입사빔의 입사각을 가변시키면서 상기 타겟 오브젝트로 부터 출사되는 복수의 출사빔이 획득되는 단계와;(B) 상기 입사빔의 입사파 벡터 및 상기 출사빔의 출사파 벡터로 구성되는 시분해 출사 행렬이 구성되는 단계와;(C) 상기 시분해 출사 행렬이 상기 출사파 벡터와, 상기 입사파 벡터 및 상기 출사파 벡터의 차로 구성된 출사 경로 수차 보정 행렬로 재구성되는 단계와;(D) 상기 출사 경로 수차 보정 행렬에 출사 경로 수차 보정 세트가 반영되고, 상기 출사 경로 수차 보정 행렬에 대응하는 역위상의 입사빔과 출사빔 간의 차이의 스펙트럼의 복소합 토탈 세기가 최대가 되는 최적 출사 경로 수차 보정 세트가 산출되는 단계와;(E) 상기 최적 출사 경로 수차 보정 세트를 이용하여 상기 시분해 출사 행렬이 보정되는 단계와;(F) 상기 (E) 단계에서 보정된 상기 시분해 출사 행렬이 상기 출사파 벡터 및 상기 입사파 벡터의 차와, 상기 입사파 벡터로 구성된 입사 경로 수차 보정 행렬로 재구성되는 단계와;(G) 상기 입사 경로 수차 보정 행렬에 입사 경로 수차 보정 세트가 반영되고, 상기 출사빔과 상기 입사빔 간의 차이 스펙트럼의 복소합 토탈 세기가 최대가 되는 최적 입사 경로 수차 보정 세트가 산출되는 단계와;(H) 상기 최적 입사 경로 수차 보정 세트를 이용하여 상기 (E) 단계에서 보정된 상기 시분해 출사 행렬이 보정되는 단계와;(I) 상기 (H) 단계에서 보정된 상기 시분해 출사 행렬 내의 동일한 출사빔 성분들의 누적에 의해 이미지가 획득되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계 내지 상기 (h) 단계는 보정된 상기 시분해 출사 행렬에 대해 기 등록된 기준에 따라 반복적으로 수행되며;상기 (i) 단계는 반복적인 수행 후에 진행되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 출사빔은 상기 타겟 오브젝트로부터 반사되는 반사파, 또는 상기 타겟 오브젝트를 투과하는 투과파인 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (d) 단계에서 상기 입사 경로 수차 보정 세트가 반영된 상기 출사빔의 스펙트럼은 수학식(여기서, 는 상기 입사 경로 수차 보정 세트이고, 는 복소 구경 함수(Complex pupil function)로 아래첨자 'o'는 출사 경로를 'i'는 입사 경로를 의미하고, 이고, L는 매질의 두께이고, ls는 산란 평균 자유 경로(scattering mean free path)이고, 는 상기 출사빔 중 다중 산란파의 평균 세기(Average intensity), 는 상기 입사파 벡터이고, 는 상기 출사파 벡터로 이다) 로 표현되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (g) 단계에서 상기 출사 경로 수차 보정 세트가 반영된 상기 역위상의 입사빔과 출사빔 간의 차이 스펙트럼은 수학식(여기서, 는 상기 출사 경로 수차 보정 세트이고, 는 복소 구경 함수(Complex pupil function)로 아래첨자 'o'는 출사 경로를 'i'는 입사 경로를 의미하고, 이고, L는 매질의 두께이고, ls는 산란 평균 자유 경로(scattering mean free path)이고, 는 상기 출사빔 중 다중 산란파의 평균 세기(Average intensity), 는 상기 입사파 벡터이고, 는 상기 출사파 벡터로 이다)로 표현되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (e) 단계에서 상기 시분해 출사 행렬은 상기 최적 입사 경로 수차 보정 세트가 상기 입사 경로 보정 행렬에 반영된 후 시분할 출사 행렬 형태로 재구성되어 보정되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (h) 단계에서 상기 시분해 출사 행렬은 상기 최적 출사 경로 수차 보정 세트가 상기 출사 경로 보정 행렬에 반영된 후 시분할 출사 행렬 형태로 재구성되어 보정되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서는복수의 입사각을 포함하는 복수회의 랜덤 패턴광이 상기 입사빔으로 입사되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제2항에 있어서,상기 (C) 단계 내지 상기 (H) 단계는 보정된 상기 시분해 출사 행렬에 대해 기 등록된 기준에 따라 반복적으로 수행되며;상기 (I) 단계는 반복적인 수행 후에 진행되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제2항에 있어서,상기 (G) 단계에서 상기 입사 경로 수차 보정 세트가 반영된 상기 출사빔의 스펙트럼은 수학식(여기서, 는 상기 입사 경로 수차 보정 세트이고, 는 복소 구경 함수(Complex pupil function)로 아래첨자 'o'는 출사 경로를 'i'는 입사 경로를 의미하고, 이고, L는 매질의 두께이고, ls는 산란 평균 자유 경로(scattering mean free path)이고, 는 상기 출사빔 중 다중 산란파의 평균 세기(Average intensity), 는 상기 입사파 벡터이고, 는 상기 출사파 벡터로 이다) 로 표현되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제2항에 있어서,상기 (D) 단계에서 상기 출사 경로 수차 보정 세트가 반영된 상기 역위상의 입사빔과 출사빔 간의 차이 스펙트럼은 수학식(여기서, 는 상기 출사 경로 수차 보정 세트이고, 는 복소 구경 함수(Complex pupil function)로 아래첨자 'o'는 출사 경로를 'i'는 입사 경로를 의미하고, 이고, L는 매질의 두께이고, ls는 산란 평균 자유 경로(scattering mean free path)이고, 는 상기 출사빔 중 다중 산란파의 평균 세기(Average intensity), 는 상기 입사파 벡터이고, 는 상기 출사파 벡터로 이다)로 표현되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제2항에 있어서,상기 (H) 단계에서 상기 시분해 출사 행렬은 상기 최적 입사 경로 수차 보정 세트가 상기 입사 경로 보정 행렬에 반영된 후 시분할 출사 행렬 형태로 재구성되어 보정되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제2항에 있어서,상기 (E) 단계에서 상기 시분해 출사 행렬은 상기 최적 출사 경로 수차 보정 세트가 상기 출사 경로 보정 행렬에 반영된 후 시분할 출사 행렬 형태로 재구성되어 보정되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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제2항에 있어서,상기 (A) 단계에서는복수의 입사각을 포함하는 복수회의 랜덤 패턴광이 상기 입사빔으로 입사되는 것을 특징으로 하는 산란과 수차를 동시에 야기하는 매질 내의 타겟 오브젝트를 이미징하는 방법
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