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플레이트 상에 복수 개의 나노홀이 분산 형성된 형태로 이루어지는 나노홀 어레이;복수 개의 나노디스크가 각각 복수 개의 상기 나노홀에 상응하는 위치에 분산 배치되어, 상기 나노홀 어레이가 형성하는 평면과 평행하며 상하 방향으로 이격된 평면을 형성하도록 이루어지는 나노디스크 어레이;를 포함하여 이루어져,상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이가 상보적 결합된 플라즈모닉 구조(Complementary Plasmonic Structure)를 형성하는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 광학 필터는,입사광의 진행 경로 상에 배치되어 특이 광 투과(Extraordinary Optical Transmission, EOT) 현상에 의해 선택적인 파장 대역의 빛을 투과시키되,상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이가 상보적 결합된 플라즈모닉 구조에 의하여, 상기 나노홀 어레이의 파장에 따른 투과율 그래프에서 나타나는 1차 피크 및 고차 피크 중 고차 피크가 억제되어,1차 피크에 해당하는 단일 파장 대역의 빛을 투과시키도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 광학 필터는,입사광의 진행 방향 및 상기 광학 필터의 배치 방향 간 각도를 배치각이라 할 때,배치각이 조절됨에 따라 상기 광학 필터가 투과시키는 빛의 파장 대역이 조절되는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 광학 필터는,상기 나노홀 어레이의 하부에 배치되어 상기 나노홀 어레이를 지지하는 플레이트 형태로 형성되는 기저부 및상기 기저부로부터 상기 나노홀을 관통하여 돌출 형성되어 상기 나노디스크를 지지하는 복수 개의 기둥부를 포함하여 이루어지는 기판;을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 4항에 있어서, 상기 기판은,투명 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 4항에 있어서, 상기 기판은,유전체 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 4항에 있어서, 상기 기판은,유연 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이는,금속 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 8항에 있어서, 상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이는,서로 동일한 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 광학 필터는,서로 상응하는 위치에 배치되는 상기 나노홀 및 상기 나노디스크의 직경이 서로 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 광학 필터는,서로 상응하는 위치에 배치되는 상기 나노홀 및 상기 나노디스크의 두께가 서로 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이는,각각 상기 나노홀 또는 상기 나노디스크가 사각 격자(square lattice) 형태, 삼각 격자(triangular lattice) 형태, 육각 격자(hexagonal lattice), 나선(spiral) 형태, 방사상(radial) 형태 중 선택되는 적어도 하나의 형태로 분산 배치된 형태로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 1항에 있어서, 상기 광학 필터는,상기 나노홀 어레이 상에서의 상기 나노홀 배치 형태 및 상기 나노디스크 어레이 상에서의 상기 나노디스크 배치 형태가 서로 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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제 2항에 있어서, 상기 광학 필터는,입사광의 진행 경로 상에 상기 나노홀 어레이만 배치되어 있을 때를 NH조건이라 하고, 입사광의 진행 경로 상에 상기 광학 필터가 배치되어 있을 때를 CPS조건이라 하며,NH조건에서의 고차 피크의 크기를 t라 하고, NH조건에서의 고차 피크 및 CPS조건에서의 고차 피크의 크기 차이를 Δt라 하고, Δt/t를 감쇄도(Degree Of Attenuation)라 정의할 때,감쇄도가 미리 결정된 기준 내지 1 범위 내에 해당하도록 상기 나노홀 또는 상기 나노디스크의 직경 및 두께가 결정되는 것을 특징으로 하는 광학 필터
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플레이트 상에 복수 개의 나노홀이 분산 형성된 형태로 이루어지는 나노홀 어레이; 복수 개의 나노디스크가 각각 복수 개의 상기 나노홀에 상응하는 위치에 분산 배치되어, 상기 나노홀 어레이가 형성하는 평면과 평행하게 이격된 평면을 형성하도록 이루어지는 나노디스크 어레이; 상기 나노홀 어레이의 하부에 배치되어 상기 나노홀 어레이를 지지하는 플레이트 형태로 형성되는 기저부 및 상기 기저부로부터 상기 나노홀을 관통하여 돌출 형성되어 상기 나노디스크를 지지하는 복수 개의 기둥부를 포함하여 이루어지는 기판; 을 포함하여 이루어져, 상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이가 상보적 결합된 플라즈모닉 구조(Complementary Plasmonic Structure)를 형성하는 광학 필터를 제조하는 광학 필터의 제조 방법에 있어서,유리 재질의 상기 기저부 상에 HSQ(hydrogen silsesquioxane) 레지스트가 도포되는 단계;E-빔 패터닝에 의하여 미리 결정된 패턴 이외 영역의 HSQ 레지스트가 제거되는 단계;가열에 의하여 HSQ 레지스트가 경화되어 상기 기둥부가 형성되는 단계;금속 증착에 의하여 상기 기저부 및 상기 기둥부의 상면에 금속 박막층이 형성됨으로써, 상기 기저부 상면에 상기 나노홀 어레이가 형성되고, 상기 기둥부 상면에 상기 나노디스크 어레이가 형성되는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
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플레이트 상에 복수 개의 나노홀이 분산 형성된 형태로 이루어지는 나노홀 어레이; 복수 개의 나노디스크가 각각 복수 개의 상기 나노홀에 상응하는 위치에 분산 배치되어, 상기 나노홀 어레이가 형성하는 평면과 평행하게 이격된 평면을 형성하도록 이루어지는 나노디스크 어레이; 상기 나노홀 어레이의 하부에 배치되어 상기 나노홀 어레이를 지지하는 플레이트 형태로 형성되는 기저부 및 상기 기저부로부터 상기 나노홀을 관통하여 돌출 형성되어 상기 나노디스크를 지지하는 복수 개의 기둥부를 포함하여 이루어지는 기판; 을 포함하여 이루어져, 상기 나노홀 어레이 및 상기 나노디스크 어레이가 상보적 결합된 플라즈모닉 구조(Complementary Plasmonic Structure)를 형성하는 광학 필터를 제조하는 광학 필터의 제조 방법에 있어서,미리 결정된 패턴 형태로서 나노임프린팅 공정에 의해 상기 기판이 형성되는 단계;금속 증착에 의하여 상기 기저부 및 상기 기둥부의 상면에 금속 박막층이 형성됨으로써, 상기 기저부 상면에 상기 나노홀 어레이가 형성되고, 상기 기둥부 상면에 상기 나노디스크 어레이가 형성되는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법
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제 1 내지 14항 중 선택되는 어느 한 항에 의한 광학 필터;입사광의 진행 방향 및 상기 광학 필터의 배치 방향 간 각도를 배치각이라 할 때, 상기 광학 필터에 연결되어 상기 광학 필터의 배치각을 조절하는 액추에이터;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터 이미징 장치
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제 17항에 있어서, 상기 액추에이터는,고정 지지부를 형성하는 프레임;일단이 상기 프레임에 연결되고 타단이 상기 광학 필터에 연결되어, 인가되는 전기 신호에 따라 굽힘 정도가 조절되도록 이루어지는 바이모프;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터 이미징 장치
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제 17항에 있어서, 상기 광학 필터 이미징 장치는,상기 광학 필터 및 상기 액추에이터로 이루어지는 유닛을 단일 개 포함하여 이루어지거나, 또는복수 개의 상기 유닛이 어레이를 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터 이미징 장치
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제 19항에 있어서, 상기 광학 필터 이미징 장치는,복수 개의 상기 유닛이 어레이를 형성하여 이루어지는 경우,각각의 상기 유닛에서의 배치각의 조절이 서로 연계해서 이루어지거나 또는 서로 독립적으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 필터 이미징 장치
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제 17항에 있어서, 상기 광학 필터 이미징 장치는,이미지 센서 또는 디스플레이 장치로 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 필터 이미징 장치
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