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2차원 소자 제조를 위한 현미경 겸용 광 처리 장치로서,플레이트부, 상기 플레이트 상에 적치된 피처리체에 근접 배치되는 소정의 배율을 갖는 적어도 하나 이상의 대물 렌즈들을 포함하는 대물 렌즈부; 및 상기 적어도 하나 이상의 대물 렌즈 중 어느 하나의 렌즈를 통하여 출력되는 광 이미지를 수신하는 촬상부를 포함하는 현미경 부; 외부 장치로부터 전송된 패턴 이미지에 대응하는 광 패턴을 출력하는 광 투영기;상기 광 투영기, 상기 촬상부와 상기 대물 렌즈부 사이에 결합되고, 상기 광 투영기로부터 상기 대물 렌즈부로 상기 광 패턴을 전달하는 제 1 광 경로 및 상기 대물 렌즈부로부터 상기 촬상부로 상기 광 이미지를 전달하는 제 2 광 경로를 선택적으로 또는 동시에 제공하는 제 1 광 경로 스플리터;광원; 및상기 광원으로부터의 광을 반사하여 상기 대물 렌즈부로 전달하거나, 상기 반사된 광에 기반하여, 상기 대물 렌즈부를 통해 수신되는 광 이미지를 투과시키는 제 1 빔 스플리터를 포함하며,상기 대물 렌즈부는 상기 제 1 광 경로를 통하여 수신된 상기 광 패턴을 어느 하나의 대물 렌즈를 통해 상기 피처리체의 표면에 조사하여 패턴화된 광 처리를 수행하며,상기 패턴화된 광 처리는 상기 피처리체가 포함하는 2차원 물질에 대한 광 리소그래피, 식각, 도핑, 결합 생성 및 표면 개질 중 어느 하나이고,상기 2차원 물질은 반데르발스 물질(van der Waals materials) 또는 층간 물질(layered materials)을 포함하고,상기 패턴화된 광 처리에 의해, 상기 광 패턴의 모양에 기초하여 상기 피처리체의 2차원 물질에 대하여 패터닝 또는 표면 개질이 수행되는 것인 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 광 경로 스플리터는,상기 광 투영기로부터 출력되는 상기 광 패턴을 제 1 방향으로 전달하는 연결 부재;상기 제 1 방향의 상기 광 패턴을 상기 제 1 방향과 직각을 이루는 제 2 방향으로 반사하는 반사경; 및상기 반사경과 수평 이격되어 배치되며, 상기 반사경으로부터의 상기 제 2 방향의 상기 광 패턴을 상기 제 1 방향으로 반사하여, 상기 플레이트부와 수직하는 방향으로 상기 광 패턴을 상기 대물 렌즈부로 전달하는 제 2 빔 스플리터를 포함하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 광 경로 스플리터는,상기 광 투영기로부터 출력되는 상기 광 패턴을 제 2 방향으로 제공하는 케이스; 상기 제 2 방향의 상기 광 패턴을 상기 제 2 방향과 직각을 이루는 제 1 방향으로 반사하여, 상기 광 패턴을 상기 대물 렌즈부로 전달하는 제 2 빔 스플리터를 포함하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 1 빔 스플리터는,상기 대물 렌즈부를 통해 상기 제 1 방향과 반대 방향인 제 3 방향으로 수신되는 광 이미지를 투과시켜 상기 제 2 광 경로로 전달하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 1 광 경로 상에 배치되며, 상기 광 패턴에 포함된 특정 파장을 통과시키거나 상기 특정 파장을 차단하는 필터부를 더 포함하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 제 1 광 경로 상에 배치되며, 상기 패턴 이미지의 크기를 조절하는 렌즈부를 더 포함하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 1 항에 있어서,상기 현미경 부는 상기 플레이트 상에 적치된 피처리체로 상기 광 패턴과 다른 광을 전달하는 제 3 광 경로를 제공하는 조명 장치를 더 포함하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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제 7 항에 있어서,상기 광 패턴이 상기 제 1 광 경로를 통해 상기 대물 렌즈부로 전달될 때, 상기 광원으로부터의 광이 상기 피처리체에 조사되지 않도록 차단하거나 또는 상기 광원으로부터의 광의 일부 파장을 차단하는 차단 부재를 더 포함하는 현미경 겸용 광 처리 장치
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2차원 소자 제조를 위한 현미경 겸용 광 처리 장치를 이용한 광 처리 방법으로서,외부 장치가, 패턴 이미지를 결정하고 상기 패턴 이미지를 광 투영기로 전달하는 단계; 상기 광 투영기가 상기 결정된 패턴 이미지에 대응하는 광 패턴을 출력하는 단계; 상기 광 투영기와 현미경 사이의 제 1 광 경로를 통해 상기 광 패턴을 전달하는 단계; 및상기 제 1 광 경로를 통해 전달되는 광 패턴을 2차원 물질인 피처리체의 표면에 조사하여 광 리소그래피, 식각, 도핑, 결합 생성 및 표면 개질 중 어느 하나인 패턴화된 광 처리를 수행하는 단계를 포함하고,상기 2차원 물질은 반데르발스 물질(van der Waals materials) 또는 층간 물질(layered materials)을 포함하며,상기 패턴화된 광 처리에 의해, 상기 광 패턴의 모양에 기초하여 상기 피처리체의 2차원 물질에 대하여 패터닝 또는 표면 개질이 수행되는 것인 광 처리 방법
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제 10 항에 있어서,상기 광 패턴을 전달하는 단계는,상기 광 투영기로부터 출력되는 상기 광 패턴을 제 1 방향으로 전달하는 단계;상기 제 1 방향의 상기 광 패턴을 상기 제 1 방향과 직각을 이루는 제 2 방향으로 반사하는 단계; 및상기 제 2 방향의 상기 광 패턴을 상기 제 1 방향으로 반사하여, 상기 피처리체가 적치된 플레이트부와 수직하는 방향으로 상기 광 패턴을 상기 피처리체로 전달하는 단계를 포함하는 광 처리 방법
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제 10 항에 있어서,상기 광 패턴을 전달하는 단계는,상기 광 투영기로부터 출력되는 상기 광 패턴을 제 2 방향으로 제공하는 단계; 및상기 제 2 방향의 상기 광 패턴을 상기 제 2 방향과 직각을 이루는 제 1 방향으로 반사하여, 상기 광 패턴을 상기 피처리체로 전달하는 단계를 포함하는 광 처리 방법
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제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,상기 제 1 방향과 반대 방향인 제 3 방향으로부터 수신되는 광 이미지를 투과시켜 제 2 광 경로로 전달하는 단계를 더 포함하는 광 처리 방법
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제 13 항에 있어서,상기 광 패턴에 포함된 특정 파장을 통과시키거나 상기 특정 파장을 차단하는 단계를 더 포함하는 광 처리 방법
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제 10 항에 있어서,상기 패턴 이미지를 광 투영기로 전달하는 단계 전에, 상기 패턴 이미지의 크기를 조절하는 단계를 더 포함하는 광 처리 방법
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2차원 소자 제조를 위한 현미경 겸용 광 처리 시스템으로서,외부 장치; 및상기 외부 장치와 연동되는 광 처리 장치를 포함하며, 상기 광 처리 장치는,플레이트부, 상기 플레이트 상에 적치된 피처리체에 근접 배치되는 소정의 배율을 갖는 적어도 하나 이상의 대물 렌즈들을 포함하는 대물 렌즈부; 및 상기 적어도 하나 이상의 대물 렌즈 중 어느 하나의 렌즈를 통하여 출력되는 광 이미지를 수신하는 촬상부를 포함하는 현미경 부; 외부 장치로부터 전송된 패턴 이미지에 대응하는 광 패턴을 출력하는 광 투영기;상기 광 투영기, 상기 촬상부와 상기 대물 렌즈부 사이에 결합되고, 상기 광 투영기로부터 상기 대물 렌즈부로 상기 광 패턴을 전달하는 제 1 광 경로 및 상기 대물 렌즈부로부터 상기 촬상부로 상기 광 이미지를 전달하는 제 2 광 경로를 선택적으로 또는 동시에 제공하는 제 1 광 경로 스플리터;광원; 및상기 광원으로부터의 광을 반사하여 상기 대물 렌즈부로 전달하거나, 상기 반사된 광에 기반하여, 상기 대물 렌즈부를 통해 수신되는 광 이미지를 투과시키는 제 1 빔 스플리터를 포함하며,상기 대물 렌즈부는 상기 제 1 광 경로를 통하여 수신된 상기 광 패턴을 어느 하나의 대물 렌즈를 통해 상기 피처리체의 표면에 조사하여 패턴화된 광 처리를 수행하며,상기 패턴화된 광 처리는 상기 피처리체가 포함하는 2차원 물질에 대한 광 리소그래피, 식각, 도핑, 결합 생성 및 표면 개질 중 어느 하나이고,상기 2차원 물질은 반데르발스 물질(van der Waals materials) 또는 층간 물질(layered materials)을 포함하고,상기 패턴화된 광 처리에 의해, 상기 광 패턴의 모양에 기초하여 상기 피처리체의 2차원 물질에 대하여 패터닝 또는 표면 개질이 수행되는 것인 현미경 겸용 광 처리 시스템
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