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소스가스로부터 플라스마를 발생시키는 플라스마 발생 장치에 있어서,하우징;상기 하우징 내에 제공되며, 소스가스가 유입되는 제1 유로가 형성된 상부 전극;상기 상부 전극과 소정 간격을 두고 마주 배치되며, 상기 상부 전극과의 사이에 상기 플라스마가 발생하는 공간을 형성하고, 발생된 상기 플라스마가 배출되는 제2 유로가 형성된 하부 전극;상기 상부 전극과 상기 하부 전극에 전압을 인가하는 전원;상기 상부 전극의 하면과 상기 하부 전극의 상면 중 어느 하나의 면에 제공되며, 유전층을 포함하는 필름; 및상기 상부 전극의 하면과 상기 하부 전극의 상면 중 어느 하나의 면에서 돌출되며, 그 끝단이 상기 필름과 접촉되는 돌출부를 가지되,상기 돌출부는,상기 상부 전극의 하면과 상기 하부 전극의 상면 중 어느 하나의 면에서 돌출된 핀;상기 핀의 끝단이 내부로 인입되며 그 끝단이 상기 필름과 접촉하는 커버; 및상기 핀과 상기 커버 사이 공간에 제공되는 탄성체를 더 포함하되,상기 핀, 상기 커버, 그리고 상기 탄성체는 전기적으로 연결되는 플라스마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 제1 유로는 상기 상부 전극의 중심 영역에 형성되고, 상기 제2유로는 상기 하부 전극의 가장자리 영역에 형성되는 플라스마 발생 장치
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제2항에 있어서,상기 제2유로는 상기 하부 전극의 상면으로부터 하면으로 갈수록 상기 하부 전극의 중심에 점차 가까워지도록 경사지게 제공되는 플라스마 발생 장치
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제3항에 있어서,상기 제2 유로는 복수 개 제공되며, 상기 제2 유로들의 하부는 상기 하부 전극의 하면에서 합류하는 플라스마 발생 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 커버 끝단은 평면 형상, 굴곡진 형상 또는 뾰족한 형상인 플라스마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 유전층은 SiO2 또는 Al2O3로 구성되는 플라스마 발생 장치
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소스가스로부터 플라스마를 발생시키는 플라스마 발생 장치에 있어서,하우징;상기 하우징 내에 제공되며, 소스가스가 유입되는 제1 유로가 형성된 상부 전극;상기 상부 전극과 소정 간격을 두고 마주 배치되며, 상기 상부 전극과의 사이에 상기 플라스마가 발생하는 공간을 형성하고, 발생된 상기 플라스마가 배출되는 제2 유로가 형성된 하부 전극;상기 상부 전극과 상기 하부 전극에 전압을 인가하는 전원;상기 상부 전극의 하면과 상기 하부 전극의 상면 중 어느 하나의 면에 제공되며, 유전층을 포함하는 필름; 및상기 상부 전극의 하면과 상기 하부 전극의 상면 중 어느 하나의 면에서 돌출되며, 그 끝단이 상기 필름과 접촉되는 돌출부를 가지되,상기 필름은,상기 유전층의 일면에 배치되며, 상기 돌출부와 접촉되는 제1 전극; 및상기 유전층의 타면에 배치되며, 상기 상부 전극 또는 상기 하부 전극과 접촉되는 제2 전극을 더 포함하는 플라스마 발생 장치
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제1항 또는 제8항에 있어서,상기 하우징은 상기 상부 전극과 상기 하부 전극의 사이 공간에 대응되는 지점에 개구부가 형성되는 플라스마 발생 장치
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