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표면에 제1 산란부가 형성된 가요성 기판;상기 가요성 기판의 표면 상에 배치되는 평탄층; 및상기 제1 산란부와 상기 평탄층 사이에 배치되는 제2 산란부를 포함하며,상기 제1 산란부 및 상기 제2 산란부는 투과되는 광을 이중으로 산란시켜 헤이즈를 증가시키는, 광학용 기판
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제1항에 있어서,상기 제1 산란부는, 투과되는 광을 산란시키는 복수의 나노구조체를 포함하는, 광학용 기판
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제2항에 있어서,상기 복수의 나노구조체 각각은, 상기 가요성 기판의 상기 평탄층 측의 면에 돌출된 구조체인, 광학용 기판
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제2항에 있어서,상기 제2 산란부는, 상기 평탄층과 상기 복수의 나노구조체 사이에 형성된 복수의 에어 트랩인, 광학용 기판
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제4항에 있어서,상기 제2 산란부는, 상기 복수의 나노구조체의 크기에 상응하는 크기를 갖는, 광학용 기판
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제1항에 있어서,상기 가요성 기판은, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리우레아(PUA), 폴리이미드(Polyimide), 에폭시 계열의 광경화수지, 유무기 혼합 광경화수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물질을 포함하는, 광학용 기판
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제1항에 있어서,상기 광학용 기판은, 50% 이상의 헤이즈를 갖는, 광학용 기판
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제1항에 있어서,상기 광학용 기판은, 400 nm ~ 700 nm 파장의 가시광 영역에서 평균 전체 투과율이 85% 이상인, 광학용 기판
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 광학용 기판;광이 투과하는 전도성 물질로 이루어지며, 상기 광학용 기판 상에 배치되는 제1 전극층;광을 반사하는 전도성 물질로 이루어지며, 상기 제1 전극층에 대향하여 배치되는 제2 전극층; 및상기 제1 전극층과 상기 제2 전극층 사이에 배치되는 유기층;을 포함하는, 유기전자장치
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제9항의 유기전자장치를 포함하는, 광원
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(a) 가요성 기판의 표면에 제1 산란부를 형성하는 단계; 및(b) 상기 가요성 기판 상에 평탄층을 형성하는 단계;를 포함하되,상기 (b)에서는 상기 제1 산란부를 코팅하면서 상기 제1 산란부와의 사이에 제2 산란부를 형성하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 (a)에서는, 상기 가요성 기판의 표면에 플라즈마 처리를 수행하여 상기 제1 산란부를 형성하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 (a)에서는, 상기 플라즈마 처리 시간을 제어하여 상기 제1 산란부의 크기를 조절하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 (a)에서는, 상기 가요성 기판의 표면에 마스터 몰드를 이용한 나노 임프린트 공정을 수행하여 상기 제1 산란부를 형성하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제14항에 있어서,상기 (a)에서는, 상기 마스터 몰드의 형상을 변경하여 상기 제1 산란부의 크기 및 간격을 조절하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 (a)에서는, 상기 가요성 기판의 표면에 자외선 경화 공정을 수행하여 상기 제1 산란부를 형성하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제16항에 있어서,상기 (a)에서는, 자외선 경화시 외부 압력을 조절하여 상기 제1 산란부의 크기 및 간격을 조절하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 제1 산란부는, 투과되는 광을 산란시키는 복수의 나노구조체를 포함하는, 광학용 기판의 제조 방법
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제18항에 있어서,상기 제2 산란부는, 상기 평탄층과 상기 복수의 나노구조체 사이에 형성된 복수의 에어 트랩인, 광학용 기판의 제조 방법
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